JPH0337109A - 黒鉛材料 - Google Patents
黒鉛材料Info
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- JPH0337109A JPH0337109A JP1172627A JP17262789A JPH0337109A JP H0337109 A JPH0337109 A JP H0337109A JP 1172627 A JP1172627 A JP 1172627A JP 17262789 A JP17262789 A JP 17262789A JP H0337109 A JPH0337109 A JP H0337109A
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Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子部品、半導体の製造における各種治具、
サセプタ、ルツボ、ボート、電極として使用され、また
溶融金属の処理におけるルツボ。
サセプタ、ルツボ、ボート、電極として使用され、また
溶融金属の処理におけるルツボ。
ボート、ダイス、鋳型として使用される黒鉛羽村に関す
る。
る。
(従来の技術)
電子部品やT−導体の製造、溶融金属の処FP、T程で
は、ガラス封着や半導体結晶の溶融、溶融金属の蒸着等
の処理が行なわIるか、これらの処理は高温下で行なわ
れる6 そこで、これらの処理に使用される各種治↓(、サヤブ
タ、ルツボ、ボート、鋳を等は、上記条件をみたす必要
かあり、一般ζこ黒鉛を基材に作製されている。
は、ガラス封着や半導体結晶の溶融、溶融金属の蒸着等
の処理が行なわIるか、これらの処理は高温下で行なわ
れる6 そこで、これらの処理に使用される各種治↓(、サヤブ
タ、ルツボ、ボート、鋳を等は、上記条件をみたす必要
かあり、一般ζこ黒鉛を基材に作製されている。
黒鉛は、化学的に不活性な特性をもち2ml熱性にすぐ
れている。しかしながら、黒鉛そのままては、多孔質な
構造故に、表面からのカーボン粉の粉落ちや、内部C残
存するガスや不純物元素な表面に拡散させやすいという
問題かある。
れている。しかしながら、黒鉛そのままては、多孔質な
構造故に、表面からのカーボン粉の粉落ちや、内部C残
存するガスや不純物元素な表面に拡散させやすいという
問題かある。
そこで、従来より、黒鉛表面に熱分解炭素の被膜を形成
させた黒鉛材料が開発されてきている。
させた黒鉛材料が開発されてきている。
熱分解炭素は緻密な構造をもっているので、黒鉛表面の
気孔をなくすことができ、黒鉛そのままの場合の問題を
解決することができ、しかも黒鉛と同様に耐熱性にすぐ
れ、化学的に不活性な特性なもっている。
気孔をなくすことができ、黒鉛そのままの場合の問題を
解決することができ、しかも黒鉛と同様に耐熱性にすぐ
れ、化学的に不活性な特性なもっている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、このような熱分解炭素をコーティングし
た黒鉛材料であっても、半導体や電子部品の製造、溶融
金属の処理においては、高温状態で、長時間にわたって
使用されるため、寥導体の材料となる金属の溶融液によ
って侵蝕されたり。
た黒鉛材料であっても、半導体や電子部品の製造、溶融
金属の処理においては、高温状態で、長時間にわたって
使用されるため、寥導体の材料となる金属の溶融液によ
って侵蝕されたり。
電子部品材料である金属に対して浸炭現象を発生させた
りして、製品の品質を低下させるという問題かあった。
りして、製品の品質を低下させるという問題かあった。
本発明者は、このような問題に対、して、熱分解炭素に
ついての分析を行ない、このような問題がある種の熱分
解炭素の被膜を形成させることにより解決できることを
見い出し本発明を完成するに至った。
ついての分析を行ない、このような問題がある種の熱分
解炭素の被膜を形成させることにより解決できることを
見い出し本発明を完成するに至った。
(課−を解決するための手段)
すなわち、熱分解炭素は、結晶配向性の大きい構造をも
っているといわれるが、を成過程における熱処理の温度
等により、密度や結晶の発達度合が異なっている。この
ため、ある種の熱分解炭素は、高温の金属溶融液による
侵蝕や金属材料への浸炭現象に対してそれ程防止効果が
なく、また、ある種の熱分解炭素は、高温の金属溶融液
による侵蝕や金属材料への浸炭現象に対して高い防止効
果のあることがわかった。
っているといわれるが、を成過程における熱処理の温度
等により、密度や結晶の発達度合が異なっている。この
ため、ある種の熱分解炭素は、高温の金属溶融液による
侵蝕や金属材料への浸炭現象に対してそれ程防止効果が
なく、また、ある種の熱分解炭素は、高温の金属溶融液
による侵蝕や金属材料への浸炭現象に対して高い防止効
果のあることがわかった。
本発明は熱分解炭素の物理的性質に着目してなされたも
のである。すわわち本発明に係る黒鉛材料は、「ラマン
散乱スペクトルの1360cm−’バンドにおけるピー
ク高さと1580cm−’バンドにおけるピーク高さの
比(1+3so/ I tqao)の値が、0.1以上
である熱分解炭素の被膜を形成して成る」ことを特徴と
するものである。
のである。すわわち本発明に係る黒鉛材料は、「ラマン
散乱スペクトルの1360cm−’バンドにおけるピー
ク高さと1580cm−’バンドにおけるピーク高さの
比(1+3so/ I tqao)の値が、0.1以上
である熱分解炭素の被膜を形成して成る」ことを特徴と
するものである。
(発明の作用)
ラマン散乱スペクトルの■136゜/ I +ss。の
値が0.1以上の熱分解炭素の場合には、高温の金属溶
融液による侵蝕や、金属材料への浸炭現象がみられない
。
値が0.1以上の熱分解炭素の場合には、高温の金属溶
融液による侵蝕や、金属材料への浸炭現象がみられない
。
このような作用が、どのようなメカニズムによっている
かは不明であるが、llffl%o/ I 184゜の
値が低いと結晶のより発達した構造になると考えられる
。
かは不明であるが、llffl%o/ I 184゜の
値が低いと結晶のより発達した構造になると考えられる
。
いずれにしてもIl、I6゜/I08゜の値が0.1よ
りも小さい場合には、熱分解炭素であっても高温の金属
溶融液による侵蝕や浸炭現象が短時間でみられるように
なり、0.1以上であればこのような現象はみられない
。
りも小さい場合には、熱分解炭素であっても高温の金属
溶融液による侵蝕や浸炭現象が短時間でみられるように
なり、0.1以上であればこのような現象はみられない
。
また、このような熱分解炭素は、フレオンガス等のプラ
ズマに対する腐蝕にも強く1例えば半導体製造工程にお
けるエツチングプロセスに使用される電極において使用
しても有効である。
ズマに対する腐蝕にも強く1例えば半導体製造工程にお
けるエツチングプロセスに使用される電極において使用
しても有効である。
このような熱分解炭素は、lI々な生成方法が考えられ
るが、例えば熱CVD法を用いて生成される。この場合
、原料の種類1反応圧力、及び反応温度を適度な条件に
設定することにより、目的とする熱分解炭素を得ること
が可能となる。
るが、例えば熱CVD法を用いて生成される。この場合
、原料の種類1反応圧力、及び反応温度を適度な条件に
設定することにより、目的とする熱分解炭素を得ること
が可能となる。
また、目的とする熱分解炭素のI tzao/ 111
38゜の値はO,1以上であるが、好ましくは、0.2
〜1.8の範囲である。
38゜の値はO,1以上であるが、好ましくは、0.2
〜1.8の範囲である。
(実施例)
以下、ハーメチックシール用の治具(実施例1.2)、
及びチタン溶融用のルツボ(実施例3)についての実施
例を説明する。
及びチタン溶融用のルツボ(実施例3)についての実施
例を説明する。
i菓負1・
111@。/Iい、。の値が0.16の熱分解炭素の被
膜を形成させたハーメチックシール用の黒鉛治具を作製
し、シェルリング、リード線(コバール製)をセットし
て(n=300)、窒素中水素ガス雰囲気中で約100
0℃、45分間加熱処理した。この加熱処理を20回繰
り返した後、シェルリング、リード線を取り出し、11
微鏡でその金属表面を観察した。
膜を形成させたハーメチックシール用の黒鉛治具を作製
し、シェルリング、リード線(コバール製)をセットし
て(n=300)、窒素中水素ガス雰囲気中で約100
0℃、45分間加熱処理した。この加熱処理を20回繰
り返した後、シェルリング、リード線を取り出し、11
微鏡でその金属表面を観察した。
及廠負ユ・
l136o/IIい。の値か1.1の熱分M炭素の被膜
を形成きせたハーメチックシール用の黒鉛治具を作製し
、実施例1と同様の操作を↑jなりた。
を形成きせたハーメチックシール用の黒鉛治具を作製し
、実施例1と同様の操作を↑jなりた。
止夾、!i!Lt。
K 11so/ I +i*++の値か0608の熱分
解炭素の被膜を形成させたバーメチ・ソクシール用の黒
鉛治具を作製し、実施例1と同様の操作を行なった。
解炭素の被膜を形成させたバーメチ・ソクシール用の黒
鉛治具を作製し、実施例1と同様の操作を行なった。
比較例2゜
1 +x6o/ I IIIA(+の値か0.05の熱
’ij N IR素の被膜を形成させたハーメチックシ
ール用の黒鉛冶具を作製し、実施例【と同様の操作を行
なった。
’ij N IR素の被膜を形成させたハーメチックシ
ール用の黒鉛冶具を作製し、実施例【と同様の操作を行
なった。
その結果、実施@1.2については、いずれもH*した
シェルリング、リート線300セッlすべてに浸炭現象
は認められず、これに対し、比較例1ではシェルリング
、リード線300セツト中82セツトに浸炭現象かみら
れ、比較例2では300セツト中218セツトについて
浸炭現象かみられた。なお比較例2では1IIIi察し
たシェルソング、リード線について治具と接する面全体
にねたりて浸炭現象の発生しているのが観察された。
シェルリング、リート線300セッlすべてに浸炭現象
は認められず、これに対し、比較例1ではシェルリング
、リード線300セツト中82セツトに浸炭現象かみら
れ、比較例2では300セツト中218セツトについて
浸炭現象かみられた。なお比較例2では1IIIi察し
たシェルソング、リード線について治具と接する面全体
にねたりて浸炭現象の発生しているのが観察された。
実施例3゜
内径20 m m 、深さ50mm、肉p72 m m
のルツボ状に成形した等方性黒鉛基材の表面に。
のルツボ状に成形した等方性黒鉛基材の表面に。
1 ++ha/ I IIIIIQの偵が1.6の熱分
解炭素の被膜を形成させたチタン溶融用のルツボを作製
した。
解炭素の被膜を形成させたチタン溶融用のルツボを作製
した。
これに金属チタンを入れ、約2000℃、30分間加熱
処理した後、ルツボを切断し、その断面をWIAiI!
#1!でti察した4゜ 比較例3゜ 内径20 m m 、深さ50 m m 、肉淳2 m
mのルツボ状に成形しだ等方性黒鉛基材の表面に、I
1zbn/ 1.5noの値が0.08の熱分解’r
Rtiの被膜を形成させたチタン溶融用のルツボを作製
し、実施例3と同様の操作を行なった。
処理した後、ルツボを切断し、その断面をWIAiI!
#1!でti察した4゜ 比較例3゜ 内径20 m m 、深さ50 m m 、肉淳2 m
mのルツボ状に成形しだ等方性黒鉛基材の表面に、I
1zbn/ 1.5noの値が0.08の熱分解’r
Rtiの被膜を形成させたチタン溶融用のルツボを作製
し、実施例3と同様の操作を行なった。
その結果、実施例3についてはルツボに対する金属チタ
ンの侵蝕は認められず、これに対し、比較例3では熱分
解炭素に金属チタンが侵蝕し、部分的に黒鉛基材の内部
にまで侵蝕を受け・Cいる状態が認められた。
ンの侵蝕は認められず、これに対し、比較例3では熱分
解炭素に金属チタンが侵蝕し、部分的に黒鉛基材の内部
にまで侵蝕を受け・Cいる状態が認められた。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明に係る黒鉛材料によれば、
高m Tで長時間おかれでも金属の溶融液による侵蝕や
浸炭現象を発生させることかない。
高m Tで長時間おかれでも金属の溶融液による侵蝕や
浸炭現象を発生させることかない。
したがって、ガラス封着や半導体結晶の溶融、溶融金属
の蒸着等の処理か行なわれる電子部品、半導体の製造や
、溶融金属の処理に使用される各種治具、サセプタ、ル
ツボ、ボート、電極、n型等に適し、高品質な製品の確
実な生産か期待でき長期にわたって使用することができ
る。
の蒸着等の処理か行なわれる電子部品、半導体の製造や
、溶融金属の処理に使用される各種治具、サセプタ、ル
ツボ、ボート、電極、n型等に適し、高品質な製品の確
実な生産か期待でき長期にわたって使用することができ
る。
Claims (1)
- ラマン散乱スペクトルの1360cm^−^1バンドに
おけるピーク高さと1580cm^−^1バンドにおけ
るピーク高さの比(I_1_3_6_0/I_1_5_
8_0)の値が、0.1以上である熱分解炭素の被膜を
形成して成ることを特徴とする黒鉛材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1172627A JPH0337109A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 黒鉛材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1172627A JPH0337109A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 黒鉛材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0337109A true JPH0337109A (ja) | 1991-02-18 |
Family
ID=15945386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1172627A Pending JPH0337109A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | 黒鉛材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0337109A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0701265A1 (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus as well as method of manufacturing the same |
EP0781871A3 (en) * | 1995-12-27 | 1998-05-13 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Heater mechanism for crystal pulling apparatus |
EP2000560A1 (en) | 1999-07-08 | 2008-12-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Hard coating and coated member |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60103087A (ja) * | 1983-11-08 | 1985-06-07 | 日立化成工業株式会社 | 加熱用黒鉛部材 |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP1172627A patent/JPH0337109A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60103087A (ja) * | 1983-11-08 | 1985-06-07 | 日立化成工業株式会社 | 加熱用黒鉛部材 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0701265A1 (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus as well as method of manufacturing the same |
EP0781871A3 (en) * | 1995-12-27 | 1998-05-13 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Heater mechanism for crystal pulling apparatus |
US5887015A (en) * | 1995-12-27 | 1999-03-23 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Heater mechanism for crystal pulling apparatus |
EP2000560A1 (en) | 1999-07-08 | 2008-12-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Hard coating and coated member |
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