JPH0334617B2 - - Google Patents
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- JPH0334617B2 JPH0334617B2 JP22578983A JP22578983A JPH0334617B2 JP H0334617 B2 JPH0334617 B2 JP H0334617B2 JP 22578983 A JP22578983 A JP 22578983A JP 22578983 A JP22578983 A JP 22578983A JP H0334617 B2 JPH0334617 B2 JP H0334617B2
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- metal thin
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体の製造装置に関するも
のである。
のである。
磁気テープ等の磁気記録媒体として、高分子フ
イルム等の基体に鉄やコバルト等の強磁性金属を
真空蒸着法やイオンプレーテイング法等により付
着して、強磁性金属薄膜を設けた構成のものが、
従来の塗布型に代り用いられるようになつてき
た。
イルム等の基体に鉄やコバルト等の強磁性金属を
真空蒸着法やイオンプレーテイング法等により付
着して、強磁性金属薄膜を設けた構成のものが、
従来の塗布型に代り用いられるようになつてき
た。
ところで、このような薄膜型の磁気テープ等
は、容易に腐食し易く、また損傷し易い欠点があ
り、このような欠点を改良するために、強磁性金
属薄膜の表面を高周波コイルによる放電処理や直
流放電処理によつて表面を酸化等して保護層を形
成したり、あるいは表面に高級脂肪酸等をイオン
プレーテイング等により付着して保護層を形成し
たりしている。このような処理は、基体に付着し
た強磁性金属が付着後数秒間は活性状態にあり、
その間に行なわれることが好ましい。が、強磁性
金属薄膜を形成する処理と保護膜を形成する処理
は、各処理を効果的に行なうためには、異なる真
空雰囲気を必要とし、従来の装置では、そのよう
な短時間では真空度を変えることができず、活性
状態後に保護膜を形成する処理を行なつたり、あ
るいは製造時間を短縮する意味もあり、各処理を
同一真空雰囲気中で行なつている。そのために、
どちらか一方の処理が効果的に行なわれず、強磁
性金属薄膜の磁気特性が不十分であつたり、ある
いは保護層の密着性や耐候性が劣つたりする欠点
があつた。
は、容易に腐食し易く、また損傷し易い欠点があ
り、このような欠点を改良するために、強磁性金
属薄膜の表面を高周波コイルによる放電処理や直
流放電処理によつて表面を酸化等して保護層を形
成したり、あるいは表面に高級脂肪酸等をイオン
プレーテイング等により付着して保護層を形成し
たりしている。このような処理は、基体に付着し
た強磁性金属が付着後数秒間は活性状態にあり、
その間に行なわれることが好ましい。が、強磁性
金属薄膜を形成する処理と保護膜を形成する処理
は、各処理を効果的に行なうためには、異なる真
空雰囲気を必要とし、従来の装置では、そのよう
な短時間では真空度を変えることができず、活性
状態後に保護膜を形成する処理を行なつたり、あ
るいは製造時間を短縮する意味もあり、各処理を
同一真空雰囲気中で行なつている。そのために、
どちらか一方の処理が効果的に行なわれず、強磁
性金属薄膜の磁気特性が不十分であつたり、ある
いは保護層の密着性や耐候性が劣つたりする欠点
があつた。
本発明は、以上の欠点を改良し、強磁性薄膜の
表面処理等を有効に行なえ、かつ製造時間を短縮
しうる磁気記録媒体の製造装置の提供を目的とす
るものである。
表面処理等を有効に行なえ、かつ製造時間を短縮
しうる磁気記録媒体の製造装置の提供を目的とす
るものである。
本発明は、上記の目的を達成するために、基体
に強磁性金属薄膜を設け、該強磁性金属薄膜の表
面に放電処理するかまたは蒸着により保護層を形
成処理する磁気記録媒体の製造装置において、強
磁性金属薄膜形成室と該強磁性金属薄膜の表面処
理室とを別々の雰囲気にしうる仕切板と、前記強
磁性金属薄膜形成室側に突出して該仕切板に設け
られ、蒸発した強磁性金属が基体に蒸着する角度
を規制しうる遮蔽板とを有することを特徴とする
磁気記録媒体の製造装置を提供するものである。
に強磁性金属薄膜を設け、該強磁性金属薄膜の表
面に放電処理するかまたは蒸着により保護層を形
成処理する磁気記録媒体の製造装置において、強
磁性金属薄膜形成室と該強磁性金属薄膜の表面処
理室とを別々の雰囲気にしうる仕切板と、前記強
磁性金属薄膜形成室側に突出して該仕切板に設け
られ、蒸発した強磁性金属が基体に蒸着する角度
を規制しうる遮蔽板とを有することを特徴とする
磁気記録媒体の製造装置を提供するものである。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
図において、１は真空槽である。２は、供給ロ
ーラであり、高分子フイルム等の帯状の基体３が
巻かれている。４は、円筒状のキヤンであり、そ
の周側面に基体３が走行させられる。５は、巻取
ローラであり、基体３を最終的に巻き取る。６
は、第１の蒸発源であり、鉄やコバルト、ニツケ
ル等の強磁性金属７が収納されている。８は、高
周波コイルであり、基体３に設けられた強磁性金
属薄膜の表面を放電処理するものである。９は、
仕切板であり、第１の蒸発源６を含む強磁性金属
薄膜形成室１０と高周波コイル８を含む強磁性金
属薄膜の表面処理室１１とを仕切り、別々の雰囲
気にしうるものである。１２は、遮蔽板であり、
仕切板９の先端に強磁性金属薄膜形成室１０の方
に突出するように設けられている。１３は供給ロ
ーラ２や巻取ローラ５側の真空槽１の壁に取り付
けられた第１真空ポンプである。１４は強磁性金
属薄膜形成室１０側の真空槽１の壁に取り付けら
れた第２真空ポンプである。１５は表面処理室１
１側の真空槽１の壁に取り付けられた第３真空ポ
ンプである。
ーラであり、高分子フイルム等の帯状の基体３が
巻かれている。４は、円筒状のキヤンであり、そ
の周側面に基体３が走行させられる。５は、巻取
ローラであり、基体３を最終的に巻き取る。６
は、第１の蒸発源であり、鉄やコバルト、ニツケ
ル等の強磁性金属７が収納されている。８は、高
周波コイルであり、基体３に設けられた強磁性金
属薄膜の表面を放電処理するものである。９は、
仕切板であり、第１の蒸発源６を含む強磁性金属
薄膜形成室１０と高周波コイル８を含む強磁性金
属薄膜の表面処理室１１とを仕切り、別々の雰囲
気にしうるものである。１２は、遮蔽板であり、
仕切板９の先端に強磁性金属薄膜形成室１０の方
に突出するように設けられている。１３は供給ロ
ーラ２や巻取ローラ５側の真空槽１の壁に取り付
けられた第１真空ポンプである。１４は強磁性金
属薄膜形成室１０側の真空槽１の壁に取り付けら
れた第２真空ポンプである。１５は表面処理室１
１側の真空槽１の壁に取り付けられた第３真空ポ
ンプである。
次に、上記の実施例の作用について述べる。
先ず、第１真空ポンプ１３、第２真空ポンプ１
４及び第３真空ポンプ１５により各室を各々の真
空度にする。特に、強磁性金属薄膜形成室１０は
表面処理室１１よりも高真空に維持される。そし
て第１の蒸発源６を抵抗加熱や誘電加熱等により
加熱して、収納された強磁性金属７を溶融して蒸
発する。蒸発した強磁性金属７は、キヤン４の周
側面に沿つて走行中の基体３の表面に真空蒸着さ
れる。この際に、基体３に蒸着する強磁性金属７
は、遮蔽板１４により基体３の法線に対して所定
の角度以上のもののみに規制される。強磁性金属
薄膜形成室１０内において、薄膜が形成された基
体３は、さらにキヤン４の周側面に沿つて走行さ
れ表面処理室１１内に搬送される。この表面処理
室１１内において、高周波コイル８による放電に
より、基体３の強磁性金属薄膜の表面の一部が酸
化して保護層となる。表面処理後の基体３は最終
的に巻取ローラ５に巻き取られる。
４及び第３真空ポンプ１５により各室を各々の真
空度にする。特に、強磁性金属薄膜形成室１０は
表面処理室１１よりも高真空に維持される。そし
て第１の蒸発源６を抵抗加熱や誘電加熱等により
加熱して、収納された強磁性金属７を溶融して蒸
発する。蒸発した強磁性金属７は、キヤン４の周
側面に沿つて走行中の基体３の表面に真空蒸着さ
れる。この際に、基体３に蒸着する強磁性金属７
は、遮蔽板１４により基体３の法線に対して所定
の角度以上のもののみに規制される。強磁性金属
薄膜形成室１０内において、薄膜が形成された基
体３は、さらにキヤン４の周側面に沿つて走行さ
れ表面処理室１１内に搬送される。この表面処理
室１１内において、高周波コイル８による放電に
より、基体３の強磁性金属薄膜の表面の一部が酸
化して保護層となる。表面処理後の基体３は最終
的に巻取ローラ５に巻き取られる。
すなわち、上記実施例によれば、強磁性金属７
を真空蒸着する雰囲気と強磁性金属薄膜の表面を
放電処理する雰囲気とを各処理に適した真空度に
保持できるため、各処理が効果的に行なえ、特
に、強磁性金属薄膜表面に耐候性等の優れた保護
層が形成される。
を真空蒸着する雰囲気と強磁性金属薄膜の表面を
放電処理する雰囲気とを各処理に適した真空度に
保持できるため、各処理が効果的に行なえ、特
に、強磁性金属薄膜表面に耐候性等の優れた保護
層が形成される。
なお、上記実施例においては、高周波コイルを
設け、この放電により強磁性金属薄膜の表面を処
理しているが、代りに直流放電処理が可能な電極
を設けた装置やあるいは高周波コイルの下に保護
層を形成する物質を収納した蒸発源を設け、イオ
ンプレーテイング法により保護層を形成するよう
な装置としてもよい。
設け、この放電により強磁性金属薄膜の表面を処
理しているが、代りに直流放電処理が可能な電極
を設けた装置やあるいは高周波コイルの下に保護
層を形成する物質を収納した蒸発源を設け、イオ
ンプレーテイング法により保護層を形成するよう
な装置としてもよい。
実際、本発明の実施例と従来例とにより製造し
た磁気テープの耐候性について測定したところ本
発明による方がはるかに優れているという結果が
得られた。すなわち、製造条件としては、両者と
も厚さ14μのポリエステルフイルムに、Co：Ni＝
８：２の強磁性金属を0.9×10-5Torrの真空度の
雰囲気中において真空蒸着する。その後、本発明
の実施例は、続けて５×10-4Torrの真空雰囲気
中において高周波コイルによる放電処理を行な
い、従来例Ａは１分後に５×10-4Torrの真空雰
囲気中において高周波コイルによる放電処理を行
ない、従来例Ｂは続けて真空蒸着の同じ真空雰囲
気0.9×10-5Torr中で高周波コイルによる放電処
理を行なう。そして各試料を温度25℃の水中に浸
漬したところ、従来例Ａ及びＢはいずれも１日で
腐食が生じたのに対して本発明の実施例は５日目
にはじめて発生した。
た磁気テープの耐候性について測定したところ本
発明による方がはるかに優れているという結果が
得られた。すなわち、製造条件としては、両者と
も厚さ14μのポリエステルフイルムに、Co：Ni＝
８：２の強磁性金属を0.9×10-5Torrの真空度の
雰囲気中において真空蒸着する。その後、本発明
の実施例は、続けて５×10-4Torrの真空雰囲気
中において高周波コイルによる放電処理を行な
い、従来例Ａは１分後に５×10-4Torrの真空雰
囲気中において高周波コイルによる放電処理を行
ない、従来例Ｂは続けて真空蒸着の同じ真空雰囲
気0.9×10-5Torr中で高周波コイルによる放電処
理を行なう。そして各試料を温度25℃の水中に浸
漬したところ、従来例Ａ及びＢはいずれも１日で
腐食が生じたのに対して本発明の実施例は５日目
にはじめて発生した。
以上の通り、本発明によれば、強磁性金属薄膜
形成処理と保護膜形成処理とを効果的に行なえ、
かつ製造時間を短縮しうる磁気記録媒体の製造装
置が得られる。
形成処理と保護膜形成処理とを効果的に行なえ、
かつ製造時間を短縮しうる磁気記録媒体の製造装
置が得られる。
図は本発明の実施例の正面断面図を示す。
３……基体、７……強磁性金属、９……仕切
板、１０……強磁性金属薄膜形成室、１１……強
磁性金属薄膜の表面処理室、１２……遮蔽板。
板、１０……強磁性金属薄膜形成室、１１……強
磁性金属薄膜の表面処理室、１２……遮蔽板。
Claims (1)
- １ 基体に強磁性金属薄膜を設け、該強磁性金属
薄膜の表面に放電処理するかまたは蒸着により保
護層を形成処理する磁気記録媒体の製造装置にお
いて、強磁性金属薄膜形成室と該強磁性金属薄膜
の表面処理室とを別々の雰囲気にしうる仕切板
と、前記強磁性金属薄膜形成室側に突出して該仕
切板に設けられ蒸発した強磁性金属が基体に蒸着
する角度を規制しうる遮蔽板とを有することを特
徴とする磁気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22578983A JPS60119636A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22578983A JPS60119636A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119636A JPS60119636A (ja) | 1985-06-27 |
| JPH0334617B2 true JPH0334617B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=16834799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22578983A Granted JPS60119636A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119636A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62234236A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP22578983A patent/JPS60119636A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60119636A (ja) | 1985-06-27 |
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