JPH0334119A

JPH0334119A - 情報記録担体

Info

Publication number: JPH0334119A
Application number: JP1165433A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Kondo; 哲也近藤
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1989-06-29
Filing date: 1989-06-29
Publication date: 1991-02-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は情報信号を記録または再生するためのディスク
状またはカード状の情報記録担体に関するものである。

［従来の技術〕近年情報記録メディアは高密度化、大容量化へと進歩し
ている。メディアを高密度のものとするために、微小な
光スポット、微小な磁区を形成する試みが検討されてい
る。記録膜についてＬ）えば、光磁気膜や垂直磁気膜の
研究か進んでいる。

またメディアを大容量とするために、メディアに溝を形
成しておいて、溝信号をビ・ソファ・ソプしながらトラ
ッキングをとり、記録・再生する方向にある。光磁気デ
ィスクはその代表的な例であるが、磁気ディスクの分野
でも溝のトラ・ソキングが提案されており、例えば特開
昭５７−１８７１７２公報（静電容量方式）、特開昭５
１−４２４８５号公報（光方式）などが知られている。

メディアにトラ・ソキング用の溝またはビットを形成す
る技術は、光ディスクが先行しているが、スタツフく−
を装着しｔ二金型を用いて熱可塑性樹脂を射出成形する
方法や、透明樹脂板上に紫外線硬化樹脂（２Ｐ）を硬（
１，させる方１（２Ｐ法）等がある。メディアの量産性
という点では射出成形法のほうが優れて０る力く、スタ
ンパ−の溝またはピ・ソトの形状を忠実１こ争云写する
という点では２Ｐ法のほうが優れて〜）ると言われてい
る。

２Ｐ法の改良した手段として、特開昭５５−１６０３３
８号公報にあるような、透明板と２Ｐ層を一体に作製す
る方法も提案されている。すなわちディスクのサイズ相
当分の空間を有した金型内（こ２Ｐ樹脂を注入し、少な
くとも一方向より紫外線を照射して硬化させ、取出すと
いう方法である。

このとき金型の片側にはスタン／く−が備えられていて
、成形された基板の片面にはビ・ソトが形成される。こ
の方法で作製した基板は、従来の２Ｐ法と比較して、耐
候性の試験で優れた特性を示すとしている。この方法で
作製するディスクは、特開昭６２−２６８５８号公報、
特開昭６２−２２１３１０１号公報、特開昭８３−２３
２３８号公報、などでも提案されている。

これらにおいては、従来基板と比較して、消去・記録可
能回数の向上、光学的異方性の改善、高温多湿下での耐
久性向上に効果があると記載されている。以上は光ディ
スクの例であるが、薄膜磁気ディスクに応用した場合に
も耐久性が向上することは容易に想像がつく。すなわち
磁気ディスクではＣＳＳ　＜コンタクト・スタート赤ス
トップ）試験の保証、つまりディスクとヘッドの接触を
前提にすることになるが、ヘッドにかかる荷重はディス
ク面上でせん断力となって現れる。従来基板では透明支
持体と２Ｐ層の密着力がそれ程大きくなく、このせん断
力に負けてしまい、透明支持体と２Ｐ層の間で剥離が生
じて短命なディスクになる。

その点、一体２Ｐ基板ではこのような問題がなくせん断
力は基板を表面から順に摩耗させるように動くので、耐
久性のあるディスクとなる。

以上述べてきたように、一体型２Ｐ基板は光ディスク、
磁気ディスクいずれの場合でも有効な基板として注目が
されている。

［従来技術の問題点］一体型２Ｐ基板上に光磁気、垂直磁気膜の記録膜を成膜
する実験を行って高密度、大容量となる情報記録メディ
アを検討したところ、いずれの記録膜においても微小磁
区の形成が必要であって、そのためには記録膜の粒子の
小径化、及び配向性良化と高保磁力化か重要であること
が分った。そしてこれらの特性は、スパッタリングある
いは蒸着を、高い基板温度下において行うことにより達
成できることが判明しｔこ。

ところが市販の２Ｐ樹脂を硬化させて作製した一体基板
は、耐熱性に乏しく、必要な基板温度下で成膜を行うと
、基板表面に微細なシワが発生し、表面性が悪くなるこ
とが分った。またこのシワが生じなくなるまで基板温度
を下げて成膜を行うと、今度は必要な磁気特性が得られ
ないことが分った。

すなわち磁気特性と表面は両立せず、この矛盾を解決す
るためには、２Ｐ基板の耐熱性を改善する必要があると
の知見を得た。

［発明の内容］紫外線硬化樹脂硬化物からなる一体形成の満付基板を用
いた情報記録担体であって、この基板は２００°Ｃにお
けるヤング率が７０ｋｇ／ｋｍ２以上のものを用いる。

このような特性を得るために、特に下記の一般式（１）
及び（ＩＩ）で示される化合物の少なくとも１種類を含
み、全体に対して光重合開始剤を０．１〜１０重量％配
合した紫外線硬化樹脂組成物を硬化させたものを基板と
して用いる。

（以下余白）１　　　　、Ｏ田：８：！８全謳Ｕ　　−Ｕ　　−Ｕ丑　−リ　一部フ　ンへ　。

ト８、　１　　　．０：ｌ　　　０　　　丑０−　　−　〇丑　−１−エ＼−−−−／［実施ｆｌＪ　］回比較例１１．２ｍｍのスペーシングを設けた直径１３０關の空間
を有する金型を準備した。この金型の一面にはニッケル
・スタンバ−を、対向する一面にはシリコン系離型剤を
塗布、焼成したガラス・プレートを備えた。この金型の
中に■スリーボンド社の２Ｐ樹脂組成物ｔｌＶＸ−ＳＳ
１２０を注入し、１２０１／／　ａｍ高圧水銀灯を用い
てガラス・プレート側より紫外線を３０秒照射した。硬
化した基板を金型より取出し表面を観察したところ、ス
タンバ−のビットが正しく転写されており、なめらかな
表面状態を呈していた。

続いてこの基板上にＣｏＣｒを、基板温度２０℃、Ａｒ
ガス圧り、８ｔａｔｏｒｒｓ膜厚２０ＯＯ入の条件でス
パッタし、取出した。ディスクの表面は白化しており、
顕微鏡で観察すると微細なシワに全面頂われていた。ま
たビットの一部は歪んでいた。

このディスクの磁気特性をＶＳＭ（振動試料式磁力計）
により測定したころ、垂直成分の抗磁力（Ｈｃ）が　１
７００ｅであり、垂直磁気記録には不十分な値であった
。

■比較例２東洋インキ製造■のＬＥ−３６２９を２Ｐ樹脂とし、同
一条件でディスクを作製した（ただし紫外線照射時間は
９０秒）。この場合にはディスクの表面はなめらかで、
ビットの歪みは認められなかった。

ＶＳＭによりＪＩＩＪ定した垂直成分のＨｅは１７００
ｅで、この場合でも垂直磁気記録には不充分な値であっ
た。

■比較例３比較例２と同様に基板を作製し、基！１２１ｉＡ度８０
℃、Ａｒガス圧０．８ｍｔｏｒｒ、膜厚２０００人の条
件でＣｏＣｒをスパッタした。ディスクの表面は微細な
シワに全面頂われていた。

ＶＳＭにより測定した垂直成分のＨｅは２４００ｅに向
上したが、垂直磁気記録には不充分な値であった。

従来よりＣｏＣｒの磁気特性の垂直成分のＨｅは、基板
温度の上昇と共に増大すると言われておリ、上記各比較
例にも同様の傾向が認められた。

従って、最小限必要といわれるＨｃ７０００ｅを得るた
めには、基板温度を最低でも１５０’ｃまで加熱するこ
とが必要と考えられる。

そこで、２Ｐ樹脂の耐熱性を評価するために、ＴＭＡ（
熱機械分析）により、２Ｐ樹脂単独硬化品の温度−ヤン
グ率特性を調べたところ、上記比較例１及び２で使用し
たｔｌＶＸ−３Ｓ１２０及びＬＥ−３８２９は第１図の
ような特性を示した。即ちＵＶＸ−８Ｓ１２０は２０〜
５０℃の低温域で急激に軟化する特徴がある。従って、
基板の温度を２０℃に設定しても、スパッタリング時の
プラズマに晒されて表面温度が上昇し、軟化した樹脂が
漂ってシワを発生させたと考えられる。

一方、ＬＥ−３８２９は、基板温度２０℃でのスパッタ
リングには耐えたが、８０℃ではシワを生じてしまった
。この樹脂の２０℃及び８０℃でのヤング率は夫々１０
５ｋｇ／同　及び６４　ｋｇ　／　ｍｍ２であり、スパ
ッタリング中には更に低下すると考えられる。

以上の実験結果から、シワを生じない（基板表面か白化
しない）ヤング率の条件は、約７０ｈｇ／ｌ　以上、望
ましくは１００ｋｇ／ｍｍ２以上であるといえる。

そこで、耐熱性の高い２Ｐ樹脂を調査、検討するために
、■ＤＰＨＡ、■Ｍ−３０９、■ＤＰＣＡ−６０、■Ｍ
−３１５、■ＭＡＮＤＡ、■Ｒ−５５１の６種類のオリ
ゴマー（■と■は東亜合或化学工業株、その他は日本化
薬■の製品）を選び（各々の分子構造式は表に示すとお
りである）、夫々に対して、光重合開始剤Ｄａｒｏｃｕ
ｒｌ１７３（メルク・ジャパン■製）を全体の３重量％
添加して２Ｐ樹脂を作製した。これらの硬化サンプルの
温度ヤング率特性を第２図に示す。この図から明白なよ
うに、２００℃において７０ｋｇ／ｍ＋ｎ２以上のヤン
グ率を持つオリゴマーは■と■だけである。両者とも温
度変化に対してヤング率は略一定で、安定な樹脂と言え
る。オリゴマー■、■とその他のオリゴマーの分子構造
を表から比較してみると、■■のみが３次元的架橋を構
成し得る構造、即ち、少なくとも３官能以上の（メタ）
アクリロイル基を持っていることが判明した。更に、各
々のアクリロイル基間の鎖の長さが短いという特徴も条
件に挙げられる。

（以下余白） ■実施例ＩＤＰＨＡ　（日本化薬■製）にＤａｒｏｃｕｒｌ１７３
　　（メルク・ジャパン■製）を０．３重量％添加して
２Ｐ樹脂を得た。この樹脂を用いて前記比較例１と同様
な方法で２Ｐ一体栽板を作製した。

続いて基板温度１５０℃、Ａｒガス圧０．８ｍｔｏｒｒ
の条件でＣｏＣｒを２０００Åスパッタリングした。こ
こで表面を顕微鏡で観察、調査したところ、ビットの歪
みは認められず、滑らかな表面状態を呈しており、シワ
の発生も認められなかった。また、磁気特性をＶＳＭに
より測定したところ、垂直成分のＨｃは８０００ｅであ
り、垂直磁気記録には充分なレベルの値であった。

■実施例２Ｍ−３０９（東亜合成化学工業■製）にＤａｒｏｃｕｒ
ｌ１７３　　（メルク◆ジャパン■製）を０．３重量％
添加して２Ｐ樹脂を得た。この樹脂を用いて前記実施例
１と同様な方法で２Ｐ一体栽板を作製、続いて同じ条件
でＣｏＣｒを２０００人スパッタリングした。この場合
にもビットの歪みは認められず、滑らかな表面状態を呈
しており、更にシワの発生も認められなかった。また垂
直成分のＨｃは８０００ｅと良好な値であった。

■実施例３ＤＰＨＡ　（日本化薬味型）とＭ−３０９（東亜合成化
学工業■製）をおのおの５０重量９６ずつ計量、泥合し
、これにＤａｒｏｃｕｒｌ１７３　　（メルク・ジャパ
ン■製）を全体の０．３重量９ｂ添加して２Ｐ樹脂を得
た。この樹脂を用いて実施例１と同様にして２Ｐ一体栽
板を作製した。続いて同じ条件てＣ０Ｃｒを２０００人
スパッタリングし、更に保護膜としてカーボンをＡｒガ
ス圧１３１ｏｒｒの条件でスパッタリングした。この場
合にもビットの歪みは認められず、清らかな表面状態を
呈しており、更にシワの発生も認められなかった。また
垂直成分のＨｃは８０００ｅと良好な値であった。リン
グヘッドを用いた記録再生実験を行ったところ、Ｉ）ｓ
ｏが７０　ｋＦｃＩ、Ｃ／　Ｎ　５０ｄＢの再生出力が
得られた。

なお、この実施例３の２Ｐ樹脂硬化物をＴＭＡ（熱機械
分析）により測定し温度−ヤング率特性を求めたところ
、第２図に破線で示すような結果が得られた。

このように、本発明になる２Ｐ樹脂は耐熱性に優れ、良
質の垂直磁化膜を形成し得る県仮となる。

なお、以上の説明においては、記録膜として垂直磁化膜
を取上げて実験したが、ＣｏＮｉ、Ｃ。

ＮｉＣｒ、ＣｏＰｔ等の面内磁化膜においても基板温度
とＨｃ（面内成分）に相関があることから、同様の効果
が得られる。又、ＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＦｅ、
ＧｄＦｅ等の光磁気膜においても、高い基板温度下で高
Ｈｃ（垂直成分）の良質な膜を得ることかで・きる。

ところで、光磁気膜では一般に再生時のカー回転角（θ
ｋ）と記録膜のキュリー点（Ｔｃ）とのＦｉ１関が知ら
れている。本発明媒体に使用される耐熱性基板を使用す
れば、高Ｔｃの材料を進定でき、結果的にＳ／Ｎの向上
が図れる。又、このような磁気特性の他に、高い基板温
度下での成膜は、基板と記録膜間の密着力向上にも貢献
し、ディスクの信頼性を格段に上げる効果もある。

更に、従来の光磁気ディスクや光ディスクの場合には、
記録時にレーザー光が基板を加熱することにより、案内
溝を変形させたり、記録膜にクラッシを発生させたりす
ることがあるか、本発明による２Ｐ樹脂の場合にはかか
る不都合は非常に少なく、記録レーザー出力を高く設定
できるという利点もある。

なお、上記の実施例では光重合開始剤としてＤａｒｏｃ
ｕｒｌ　１７３を用いたが、その他、ベンジル、ベンゾ
イン、ベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、
ベンジルジメチルケタール、ベンゾインエチルエーテル
、ベンゾインイソプロピルエーテル、ミルラーズケトン
、アントラキノン、２メチルアントラキノン、アセトフ
ェノン、αα−ジクロル−４−フェノキシアセトフェノ
ン、Ｐｔｅｒｔブチルトリクロロアセトフェノン、メチ
ルオルソベンゾイルベンゾエート、２−クロロチオキサ
ントン、及び２．４−ジエチルチオキサントンでも使用
可能である。光重合開始剤の添加量は０．１重量％以下
であると光重合が充分に起こらず、平袋化となり、また
１０重量％以上とすると光重合開始剤が可塑剤として働
き耐熱性を悪くする。

従って０．１〜１０重澁％の範囲の添加量が適当である
。又、必要に応じて、光重合促進剤としてアミン化合物
を添加しても良い。

なお、本発明の情報記録担体は、硬度の高い基板を提供
するという特徴もあるが、柔軟性を持たせる必要があれ
ば、日本化薬■製のＨＸ−６２’０゜ＨＸ−２２０等に
代表される柔軟性モノマーを添加することも可能である
。但し、この場合には耐熱性が低下するので、本発明の
特徴、効果を失わない程度に添加量を制限することが肝
心である。

［効　果］叙上の如く、本発明の情報記録担体によれば、耐熱性に
優れ良質の記録膜を形成し得るので、垂直磁気記録媒体
等の、高密度化を図ることができる等の特長を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は代表的な２Ｐ樹脂単独の温度−ヤング率特性図
、第２図は代表的なオリゴマーにて作製した２Ｐ樹脂硬
化サンプルと本発明記録媒体各実施例の温度−ヤング率
特性図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）紫外線硬化樹脂硬化物からなる基板と、この基板
上に形成され、レーザー光または磁界の印加により光学
的または磁気的状態が変化する記録層と、この記録層上
に形成される保護層とからなり、上記紫外線硬化樹脂硬
化物として２００℃におけるヤング率が７０ｋｇ／ｍｍ
＾２以上のものを使用して作製したことを特徴とする情
報記録担体。
（２）上記紫外線硬化樹脂硬化物は、下記（ I ）また
は下記（II）の一般式で示される化合物の少なくとも一
方を含み、且つ光重合開始剤が０．１乃至１０重量％均
一に配合された紫外線硬化樹脂組成物を硬化させたもの
であることを特徴とする請求項１記載の情報記録担体。 ▲数式、化学式、表等があります▼