JPH033316A - 縮小投影型露光装置 - Google Patents
縮小投影型露光装置Info
- Publication number
- JPH033316A JPH033316A JP1138705A JP13870589A JPH033316A JP H033316 A JPH033316 A JP H033316A JP 1138705 A JP1138705 A JP 1138705A JP 13870589 A JP13870589 A JP 13870589A JP H033316 A JPH033316 A JP H033316A
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- JP
- Japan
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- temperature
- lens
- reduction projection
- cooling water
- cooling
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造工程の１つであるフォトリソ
グラフィ工程に用いられる縮小投影型露光装置に関する
。
グラフィ工程に用いられる縮小投影型露光装置に関する
。
従来、この種の縮小投影型露光装置は、第３図に示すよ
うに、光源部１２を除く縮小投影型露光装置本体１１を
チャンバ１３内に設置して温度管理を行っている。即ち
、温度調整器１４により適切な温度に調節された空気を
送風機１５によりＨＥＰＡフィルタ１６を通してチャン
バ１１内に吹き出し、チャンバ１３内の温度管理を行な
うことで縮小投影型露光装置本体１１の温度管理を行っ
ている。
うに、光源部１２を除く縮小投影型露光装置本体１１を
チャンバ１３内に設置して温度管理を行っている。即ち
、温度調整器１４により適切な温度に調節された空気を
送風機１５によりＨＥＰＡフィルタ１６を通してチャン
バ１１内に吹き出し、チャンバ１３内の温度管理を行な
うことで縮小投影型露光装置本体１１の温度管理を行っ
ている。
（発明が解決しようとする課題〕
ところで、一般の縮小投影露光装置では、露光用の可視
光又は遠紫外光が縮小投影レンズを透過する際にこの縮
小投影レンズに吸収され、その先エネルギによって熱が
発生し、縮小投影レンズの温度上昇が起こり易い、しか
しながら、上述した縮小投影型露光装置では、露光装置
本体１１を設置したチャンバ１３内の温度管理によって
のみ該露光装置本体１１の温度管理を行っているため、
このように露光装置本体内で発生する縮小投影レンズの
温度上昇を十分に抑えることができず、縮小投影レンズ
の歪を増大させ、最適焦点位置の変動を起こすという問
題がある。
光又は遠紫外光が縮小投影レンズを透過する際にこの縮
小投影レンズに吸収され、その先エネルギによって熱が
発生し、縮小投影レンズの温度上昇が起こり易い、しか
しながら、上述した縮小投影型露光装置では、露光装置
本体１１を設置したチャンバ１３内の温度管理によって
のみ該露光装置本体１１の温度管理を行っているため、
このように露光装置本体内で発生する縮小投影レンズの
温度上昇を十分に抑えることができず、縮小投影レンズ
の歪を増大させ、最適焦点位置の変動を起こすという問
題がある。
本発明は縮小投影レンズの温度上昇を抑制することを可
能にした縮小投影型露光装置を提供することを目的とす
る。
能にした縮小投影型露光装置を提供することを目的とす
る。
本発明の縮小投影型露光装置は、縮小投影レンズの温度
を計測する温度センサと、冷却水又は冷却空気等の冷媒
を縮小レンズの鏡筒に沿って循環させる手段と、この冷
媒を冷却する冷却装置と、前記温度センサの計測温度に
基づいてこの冷却装置を制御し、前記冷媒の温度を制御
する温度制御コントローラとを備えている。
を計測する温度センサと、冷却水又は冷却空気等の冷媒
を縮小レンズの鏡筒に沿って循環させる手段と、この冷
媒を冷却する冷却装置と、前記温度センサの計測温度に
基づいてこの冷却装置を制御し、前記冷媒の温度を制御
する温度制御コントローラとを備えている。
この構成では、縮小レンズの温度を温度センサが計測し
、この計測値により温度制御コントローラが冷却装置を
制御して冷媒を所要の温度に冷却し、この冷媒を鏡筒に
沿って循環させることで縮小投影レンズの温度上昇を抑
制する。
、この計測値により温度制御コントローラが冷却装置を
制御して冷媒を所要の温度に冷却し、この冷媒を鏡筒に
沿って循環させることで縮小投影レンズの温度上昇を抑
制する。
〔実施例〕
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第１図は本発明の第１実施例を示す構成図である。図に
おいて、１は縮小投影型露光装置本体内に配置された縮
小投影レンズであり、この縮小投影レンズ１の鏡筒周囲
近傍には複数個の温度センサ２を配設し、これら温度セ
ンサ２で縮小投影レンズ１の近傍の温度を計測している
。また、縮小投影レンズ１の鏡筒の周面に接して複数個
の温度センサ３を配置しており、これら温度センサ５で
縮小投影レンズ１自身の温度を計測する。
おいて、１は縮小投影型露光装置本体内に配置された縮
小投影レンズであり、この縮小投影レンズ１の鏡筒周囲
近傍には複数個の温度センサ２を配設し、これら温度セ
ンサ２で縮小投影レンズ１の近傍の温度を計測している
。また、縮小投影レンズ１の鏡筒の周面に接して複数個
の温度センサ３を配置しており、これら温度センサ５で
縮小投影レンズ１自身の温度を計測する。
一方、前記縮小投影レンズ１の鏡筒には、周囲に冷却水
配管４を巻き付けている。この冷却水配管４には冷却水
循環ポンプ５と冷却水冷却装置６を接続しており、冷却
水冷却装置６で冷却された冷却水を、冷却水循環ポンプ
５によって冷却水配管４内を循環させる。そして、前記
冷却水冷却装置６には温度制御コントローラ７を接続し
て冷却水の温度を制御可能としている。この温度制御コ
ントローラ７には、前記温度センサ２，３をそれぞれ接
続している。
配管４を巻き付けている。この冷却水配管４には冷却水
循環ポンプ５と冷却水冷却装置６を接続しており、冷却
水冷却装置６で冷却された冷却水を、冷却水循環ポンプ
５によって冷却水配管４内を循環させる。そして、前記
冷却水冷却装置６には温度制御コントローラ７を接続し
て冷却水の温度を制御可能としている。この温度制御コ
ントローラ７には、前記温度センサ２，３をそれぞれ接
続している。
この構成によれば、温度センサ２．３で縮小投影レンズ
ｌの周囲及び自身の温度が計測されると、これらの計測
値に基づいて温度制御コントローラ７で同レンズ１の冷
却温度を決定され、冷却水循環ポンプ５により送られて
きた冷却水を冷却水冷却装置６で冷却する。そして、冷
却された冷却水を縮小投影レンズｌの鏡筒に巻き付けら
れた冷却水配管４へ送り、縮小投影レンズ１を冷却する
。
ｌの周囲及び自身の温度が計測されると、これらの計測
値に基づいて温度制御コントローラ７で同レンズ１の冷
却温度を決定され、冷却水循環ポンプ５により送られて
きた冷却水を冷却水冷却装置６で冷却する。そして、冷
却された冷却水を縮小投影レンズｌの鏡筒に巻き付けら
れた冷却水配管４へ送り、縮小投影レンズ１を冷却する
。
これにより、縮小投影レンズｌの温度上昇を抑制して、
周囲の雰囲気の温度と同一になるように一定に保つこと
ができ、温度上昇によるレンズの歪の発生及び焦点深度
の変動を抑えることが可能となる。
周囲の雰囲気の温度と同一になるように一定に保つこと
ができ、温度上昇によるレンズの歪の発生及び焦点深度
の変動を抑えることが可能となる。
第２図は本発明の第２実施例の構成図である。
この実施例は縮小投影レンズ１の側面を温調空気配管８
の一部８Ａで包囲し、かつこの温調空気配管８に送風機
９及び空気冷却装置１０を接続している。また、この空
気冷却装置１０には温度制御コントローラ７を接続し、
かつ縮小投影レンズ１の鏡筒近傍に配置した温度センサ
２と鏡筒に接して配置した温度センサ３を接続している
。
の一部８Ａで包囲し、かつこの温調空気配管８に送風機
９及び空気冷却装置１０を接続している。また、この空
気冷却装置１０には温度制御コントローラ７を接続し、
かつ縮小投影レンズ１の鏡筒近傍に配置した温度センサ
２と鏡筒に接して配置した温度センサ３を接続している
。
この構成では、縮小投影レンズ１の温度を温度センサ２
，３で計測し、この計測値に基づいて温度制御コントロ
ーラ７が空気冷却装置１０を制御し、送風機９で送られ
てくる空気の温度を冷却し、温調空気配管８を通して縮
小投影レンズｌの冷却を行うことができる。
，３で計測し、この計測値に基づいて温度制御コントロ
ーラ７が空気冷却装置１０を制御し、送風機９で送られ
てくる空気の温度を冷却し、温調空気配管８を通して縮
小投影レンズｌの冷却を行うことができる。
これにより、縮小投影レンズ１の温度上昇を抑制し、縮
小投影レンズの歪の発生及び焦点深度の変動を抑制する
。
小投影レンズの歪の発生及び焦点深度の変動を抑制する
。
以上説明したように本発明は、縮小レンズの温度を温度
センサが計測し、この計測した温度に基づいて温度制御
コントローラが冷却装置を制御して冷媒を所要の温度に
冷却するので、この冷媒を鏡筒に沿って循環させること
で縮小投影レンズを所定の温度に一定に保つことが可能
となり、縮小投影レンズの温度上昇による歪の発生や焦
点深度の変動を防止することができる効果がある。
センサが計測し、この計測した温度に基づいて温度制御
コントローラが冷却装置を制御して冷媒を所要の温度に
冷却するので、この冷媒を鏡筒に沿って循環させること
で縮小投影レンズを所定の温度に一定に保つことが可能
となり、縮小投影レンズの温度上昇による歪の発生や焦
点深度の変動を防止することができる効果がある。
第１図は本発明の第１実施例の構成図、第２図は本発明
の第２実施例の構成図、第３図は従来の縮小投影型露光
装置の正面構成図である。 １・・・縮小投影レンズ、２．３・・・温度センサ、４
・・・冷却水配管、５・・・循環ポンプ、６・・・冷却
水冷却装置、７・・・温度制御コントローラ、訃・・温
調空気配管、９・・・送風機、１０・・・空気冷却装置
、１１・・・露光装置本体、１２・・・光源、１３・・
・チャンバ、１４・・・温度調節器、１５・・・送風機
、１６・・・ＨＥＰＡフィルタ。 第１
の第２実施例の構成図、第３図は従来の縮小投影型露光
装置の正面構成図である。 １・・・縮小投影レンズ、２．３・・・温度センサ、４
・・・冷却水配管、５・・・循環ポンプ、６・・・冷却
水冷却装置、７・・・温度制御コントローラ、訃・・温
調空気配管、９・・・送風機、１０・・・空気冷却装置
、１１・・・露光装置本体、１２・・・光源、１３・・
・チャンバ、１４・・・温度調節器、１５・・・送風機
、１６・・・ＨＥＰＡフィルタ。 第１
Claims (1)
- １、縮小投影レンズの温度を計測する温度センサと、冷
却水又は冷却空気等の冷媒を縮小レンズの鏡筒に沿って
循環させる手段と、この冷媒を冷却する冷却装置と、前
記温度センサの計測温度に基づいてこの冷却装置を制御
し、前記冷媒の温度を制御する温度制御コントローラと
を備えることを特徴とする縮小投影型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1138705A JPH033316A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 縮小投影型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1138705A JPH033316A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 縮小投影型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH033316A true JPH033316A (ja) | 1991-01-09 |
Family
ID=15228200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1138705A Pending JPH033316A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 縮小投影型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH033316A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001326154A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-22 | Nikon Corp | 投影露光装置、及びマイクロデバイス並びにその製造方法 |
| WO2006037494A2 (de) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur temperierung von elementen |
| KR100649005B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2006-11-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 제조용 노광장치 |
| US9316921B2 (en) | 2004-02-04 | 2016-04-19 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP1138705A patent/JPH033316A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001326154A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-22 | Nikon Corp | 投影露光装置、及びマイクロデバイス並びにその製造方法 |
| US9316921B2 (en) | 2004-02-04 | 2016-04-19 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
| US10048602B2 (en) | 2004-02-04 | 2018-08-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
| WO2006037494A2 (de) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur temperierung von elementen |
| WO2006037494A3 (de) * | 2004-09-30 | 2006-07-20 | Zeiss Carl Smt Ag | Vorrichtung zur temperierung von elementen |
| KR100649005B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2006-11-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 제조용 노광장치 |
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