JPH033208B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH033208B2 JPH033208B2 JP53146697A JP14669778A JPH033208B2 JP H033208 B2 JPH033208 B2 JP H033208B2 JP 53146697 A JP53146697 A JP 53146697A JP 14669778 A JP14669778 A JP 14669778A JP H033208 B2 JPH033208 B2 JP H033208B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable
- weight
- adhesive layer
- formula
- benzoin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 49
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 48
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 45
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 25
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 24
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 20
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 20
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 20
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 12
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 11
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 7
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 6
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-phenyl-1-(2-propan-2-ylphenyl)ethanone Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 claims description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 claims description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 claims description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OPECTNGATDYLSS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)Cl)=CC=C21 OPECTNGATDYLSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LIGACIXOYTUXAW-UHFFFAOYSA-N phenacyl bromide Chemical compound BrCC(=O)C1=CC=CC=C1 LIGACIXOYTUXAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 claims description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 13
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical class CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 4
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical class C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 3
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 3
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N (E)-glutaconic acid Chemical compound OC(=O)C\C=C\C(O)=O XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMDHMYFSRFZGIO-UHFFFAOYSA-N 1,4,7-trioxacyclotridecane-8,13-dione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)OCCOCCO1 PMDHMYFSRFZGIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical class C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHJGJYXLEPZJPM-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trichlorophenol Chemical compound OC1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl LHJGJYXLEPZJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZIBSPRUZZLSGL-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(O)=C1Cl FZIBSPRUZZLSGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYXHDJJYVDLECA-UHFFFAOYSA-N 2,5-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound O=C1C=C(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 QYXHDJJYVDLECA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGPBVJWCIDNDPN-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C=O DGPBVJWCIDNDPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWHYDQPCWDOQOM-UHFFFAOYSA-N 2-acetamidoprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=C)C(N)=O AWHYDQPCWDOQOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroacrylic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)=C SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYPHEDNABNFRBL-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CCl XYPHEDNABNFRBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYFZTJDIQALEB-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(C=C)=C1 GWYFZTJDIQALEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFKMVGJGLGKFKI-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-m-cresol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1Cl CFKMVGJGLGKFKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQVAPEJNIZULEK-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(O)=C1 JQVAPEJNIZULEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000006479 Cyme Species 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 240000004752 Laburnum anagyroides Species 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006387 Vinylite Polymers 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229940106012 diethylene glycol adipate Drugs 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- HQPMKSGTIOYHJT-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;propane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CC(O)CO HQPMKSGTIOYHJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIXYEVUNJFXWEB-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NO IIXYEVUNJFXWEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229940070805 p-chloro-m-cresol Drugs 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-M succinate(1-) Chemical compound OC(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006352 transparent thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229940066528 trichloroacetate Drugs 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/112—Cellulosic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/124—Carbonyl compound containing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
本発明はレリーフ印刷版の製造に用いるのに適
する光重合可能なエレメントに関する。 透明な熱可塑性フイルム支持体から得られるレ
リーフ印刷版が英国特許第3121108号明細書に記
載されている。このような印刷版はフイルム支持
体に適用された光重合可能な層を含む光重合可能
なエレメントを写真画像の如きマスターを介して
化学光線に露出することにより製造される。光重
合可能な層の光が当らなかつた部分は適当な溶剤
による処理によつて洗い流されて、光の当つた部
分に光重合されたレリーフ印刷パターンを残す。 レリーフ印刷パターンのフイルム支持体への接
着は、例えば輪転印刷機における、繰り返し使用
の間損傷されないのが理想的である。 本発明はフイルムサポートと接着剤層上に適用
された光重合可能な層との間に強い接着を与える
ことのできる接着剤層を含む光重合可能なエレメ
ントに関する。 本発明によれば少くとも一方の面上に置かれた
接着剤層とこの接着剤層上に置かれた光重合可能
な層とを有する自己支持性のプラスチツクフイル
ムもしくはシートを含む光重合可能なエレメント
が提供されるのであつて、このエレメントは前記
接着剤層が非光重合性のプラスチツクバインダー
と下記: (i) 前記プラスチツクバインダーの重量に対して
0.01〜2.0重量%の量の、下記式 〔上式中、R1及びR2は同一のもしくは相異
なるものであつてよく、水素峰は6個までの炭
素原子を有する低級アルキル基から選ばれ、
R3はR1又はR2と同一のもしくは相異なるもの
であつてよく、水素、6個までの炭素原子を有
する低級アルキル基、部分的にもしくは完全に
ハロゲン化された6個までの炭素原子を有する
アルキル基又は式 (式中、R4及びR5は同一のもしくは相異な
るものであつてよく、R1及びR2と同一の置換
基から選ばれる)の基から選ばれる〕 で示される化合物、及び (ii) 前記プラスチツクバインダーの重量に対して
0.1〜7重量%の量の他の光重合開始剤 からなる混合物を含む光重合開始剤とを含むこと
を特徴とする。 接着剤層の必須成分は非光重合性バインダーと
光重合開始剤の混合物とであることを理解された
い。接着剤層は光重合可能な成分を含まず、また
光重合活性を有していない。 化合物(i)のR1及びR2は6個までの炭素原子を
有する低級アルキル基であるのが好ましく、とも
にメチル基であるのがもつとも好ましい。R3は
水素、−CF3又は式 (式中、R4及びR5は6個までの炭素原子を有
する低級アルキル基、もつとも好ましくはともに
メチル基を表わす)の基であるのが好ましい。 化合物(i)は
する光重合可能なエレメントに関する。 透明な熱可塑性フイルム支持体から得られるレ
リーフ印刷版が英国特許第3121108号明細書に記
載されている。このような印刷版はフイルム支持
体に適用された光重合可能な層を含む光重合可能
なエレメントを写真画像の如きマスターを介して
化学光線に露出することにより製造される。光重
合可能な層の光が当らなかつた部分は適当な溶剤
による処理によつて洗い流されて、光の当つた部
分に光重合されたレリーフ印刷パターンを残す。 レリーフ印刷パターンのフイルム支持体への接
着は、例えば輪転印刷機における、繰り返し使用
の間損傷されないのが理想的である。 本発明はフイルムサポートと接着剤層上に適用
された光重合可能な層との間に強い接着を与える
ことのできる接着剤層を含む光重合可能なエレメ
ントに関する。 本発明によれば少くとも一方の面上に置かれた
接着剤層とこの接着剤層上に置かれた光重合可能
な層とを有する自己支持性のプラスチツクフイル
ムもしくはシートを含む光重合可能なエレメント
が提供されるのであつて、このエレメントは前記
接着剤層が非光重合性のプラスチツクバインダー
と下記: (i) 前記プラスチツクバインダーの重量に対して
0.01〜2.0重量%の量の、下記式 〔上式中、R1及びR2は同一のもしくは相異
なるものであつてよく、水素峰は6個までの炭
素原子を有する低級アルキル基から選ばれ、
R3はR1又はR2と同一のもしくは相異なるもの
であつてよく、水素、6個までの炭素原子を有
する低級アルキル基、部分的にもしくは完全に
ハロゲン化された6個までの炭素原子を有する
アルキル基又は式 (式中、R4及びR5は同一のもしくは相異な
るものであつてよく、R1及びR2と同一の置換
基から選ばれる)の基から選ばれる〕 で示される化合物、及び (ii) 前記プラスチツクバインダーの重量に対して
0.1〜7重量%の量の他の光重合開始剤 からなる混合物を含む光重合開始剤とを含むこと
を特徴とする。 接着剤層の必須成分は非光重合性バインダーと
光重合開始剤の混合物とであることを理解された
い。接着剤層は光重合可能な成分を含まず、また
光重合活性を有していない。 化合物(i)のR1及びR2は6個までの炭素原子を
有する低級アルキル基であるのが好ましく、とも
にメチル基であるのがもつとも好ましい。R3は
水素、−CF3又は式 (式中、R4及びR5は6個までの炭素原子を有
する低級アルキル基、もつとも好ましくはともに
メチル基を表わす)の基であるのが好ましい。 化合物(i)は
【式】
【式】
【式】又はもつとも好
ましくは4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾ
フエノン即ち であるのがよい。 接着剤層中の光重合開始剤混合物は、例えばフ
オトレリーフ印刷版において、重合された光重合
可能な層を接着剤層を介してプラスチツクフイル
ムもしくはシートに接着させるのに特に有利であ
る。 接着剤層中の光重合開始剤(i)の量が0.01重量%
より少い場合には光重合された層に対する十分な
接着を与えることができず、一方2.0重量%を超
える場合には光重合可能な層の適用前に接着剤層
の表面上で開始剤(i)が結晶化することにより表面
欠点を生じ易く、また光重合可能な層の重合に用
いるのに好ましい紫外線を多量に吸収して長い露
光時間を要するという不都合を与えることがあ
る。光重合開始剤(i)、特に4,4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノン、の量が0.01〜1.0、
好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲にあるときに、
接着は特に効果的である。 光重合開始剤(ii)は適当な光重合開始活性を有す
るいかなる材料であつてもよく、好ましくはベン
ゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチル
ベンゾイン、ベンジル、アンスラキノン、ジアセ
チルアンスラキノン、1−クロロアンスラキノ
ン、9,10−フエナンスラキノン、ジフエニルジ
スルフイド、2−ナフタレンスルホニルクロリ
ド、ω−ブロモアセトフエノン、エオシン、チオ
ニン及びベンゾフエノンから選ばれる。 光重合開始剤(ii)の量が0.1重量%より少い場合
には光重合された層に対する十分な接着を与え
ず、7重量%を超える場合には光重合可能な層の
適用前に開始剤(ii)の表面結晶化が生ずることがあ
る。光重合開始剤(ii)がプラスチツクバインダーの
重量に対して0.25〜5.0重量%の範囲の量で存在
する場合に特に効果的な接着と表面結晶化の防止
とが達成される。 本発明の接着剤層中に用いられる光重合開始剤
混合物の好ましいものとしては、イソプロピルベ
ンゾインエーテルと4,4′−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフエノンとの混合物がある。このよう
な混合物は、プラスチツクバインダーの重量に対
して、約5.0重量%のイソプロピルベンゾインエ
ーテル及び約0.25重量%の4,4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノンを含む場合に特に有効
である。 本発明に係るエレメントの接着剤層における光
重合開始剤混合物の合計量はいずれかの光重合開
始剤の接着剤層表面への結晶移行を起させるには
不十分であつて、光重合された層に対する良好な
接着を与える。 接着剤層に含まれる非光重合性プラスチツクバ
インダーはセルロースエステル、例えば酢酸プロ
ピオン酸セルロース、ビニルハロゲノエステルの
ホモポリマー及びコポリマー、ポリウレタン、ア
ルキツド樹脂、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸及び/又はそのエステルのポリマー及びコポリ
マー、合成ゴム、例えばポリクロロプレン、部分
的に加水分解されていてもよい酢酸ビニルのポリ
マー及びコポリマー、例えば部分加水分解された
酢酸ビニルと塩化ビニルとのコポリマー、塩化ビ
ニル又は塩化ビニリデンのポリマー及びコポリマ
ー、エポキシ樹脂、及びビニルブチラールのポリ
マー及びコポリマーの如き適当な熱可塑性ポリマ
ーから選ぶことができる。 プラスチツクバインダーとして用いるのに適す
るビニルハロゲノエステルのコポリマーは、好ま
しくは、1種もしくは以上のエチレン系不飽和の
共重合可能なコモノマー、特にα,β−不飽和カ
ルボン酸、酢酸ビニル及びビニルアルコールから
選ばれる1種もしくはそれ以上のコモノマーとで
生成されるモノ−、ジ−もしくはトリ−ハロゲノ
酢酸ビニル、特にモノ−、ジ−もしくはトリ−ク
ロロ酢酸ビニルのコポリマーを含む。モノクロロ
酢酸ビニルのコポリマーは特に有効なバインダー
であり、例えば1〜60モル%のα,β−不飽和カ
ルボン酸、例えばクロトン酸、又は1〜60モル%
の酢酸ビニル及び/又はビニルアルコールを含む
もの、例えば56モル%のモノクロロ酢酸ビニル、
43モル%のビニルアルコール及び1モル%の酢酸
ビニルを含むコポリマー、であつてもよい。 プラスチツクバインダーとして用いるのに適当
なポリウレタン樹脂は1種又はそれ以上のヒドロ
キシ末端ポリエステル、ポリエーテル、ポリエス
テルアミド又は類似の適当な物質と1種又はそれ
以上のジイソシアネートとを、所望ならば例えば
連鎖延長剤、低分子最二官能価アルコール、二官
能価アミン、アミノアルコールとともに、縮合さ
せることにより生成される、1種又はそれ以上の
線状の、実質的に非反応性の、有機溶媒可溶性飽
和合成ブロツクコポリマーを含んでいてもよい。 ヒドロキシ末満ポリエステルから誘導されるポ
リウレタンは低酸価、低含水量の、そして200〜
5000の範囲の分子量を有する線状ポリエステルか
ら製造されるのが好ましい。このようなヒドロキ
シ末満ポリエステルはエチレングリコールプロピ
レングリコール、1,3−ブタンジオール、1,
4−ブタンジオール、ジエチレングリコール又は
ポリエーテルポリオールの如き1種又はそれ以上
のグリコールとアジピン酸、セバシン酸、テレフ
タル酸、イソフタル酸又は無水フタル酸の如き1
種又はそれ以上のカルボン酸、カルボン酸クロリ
ド又はカルボン酸無水物とのエステル化又はε−
カプロラクラクトンの如き環式モノマーの重合に
より製造することができる。このクラスの適当な
ポリエステルはポリエチレンアジペート、ポリテ
トラメチレンアジペート、エチレン/テトラメチ
レンアジペートコポリエステル、エチレングリコ
ール/ジエチレングリコールアジペートコポリエ
ステル又はポリカプロラクトンポリオールを含
む。 好ましいポリエステルポリオール、例えばポリ
(オキシテトラメチレン)グリコール、は200〜
5000の範囲の分子量を有し、エチレンオキシド、
プロピレンオキシド及びテトラヒドロフランの如
き物質のホモ重合又は共重合により生成される。 ヒドロキシ末端ポリエステルアミドから誘導さ
れるポリウレタンは、好ましくは、低酸価、低含
水量及び200〜500の範囲の分子量を有する、飽和
線状ポリエステルアミドから生成され、これらは
二官能価カルボン酸もしくはカルボン酸無水物又
は2者の混合物と、1種もしくはそれ以上のアミ
ノアルコール、1種もしくはそれ以上のアミノア
ルコールと1種もしくはそれ以上のジオールもし
くはジアミンとの混合物又は1種もしくはそれ以
上のジオールと1種もしくはそれ以上のジアミン
との混合物との反応により生成される。適当なポ
リエステルアミドの製造のための反応はアジピン
酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸及
び無水フタル酸の如きカルボン酸又はカルボン酸
無水物と、所望によりエチレングリコール、ジエ
チレングリコール又はエチレンジアミンの如きジ
オール又はジアミンと混合された、エタノールア
ミンの如きアミノアルコールとの間で実施するこ
とができる。 連鎖延長剤を用いる場合、これはいかなる低分
子量芳香族もしくは脂肪族二官能価アルコール、
二官能価アミン、アミノアルコール又はこれらの
物質の2種又はそれ以上の混合物であつてもよ
く、これらは痕跡量の三官能価アルコール又はア
ミンを含んでいてもよい。好ましい連鎖延長剤と
しては、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール、エチレングリコール、ジエチングリ
コール、エタノールアミン及びエチレンジアミン
がある。 ジイソシアネートはいかなる二官能価芳香族も
しくは脂肪族イソシアネート又はこれらの物質の
2種もしくはそれ以上の混合物であつてもよい
が、トリレンジイソシアネートの異性体の1種も
しくは混合物、ジフエニルメタン4,4′−ジイソ
シアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネー
ト又はキサメチレンジイソシアネートであるのが
好ましい。 好ましいポリウレタン樹脂は1000〜250000の範
囲の分子量を有し、1)1モルのポリエチレンア
ジペートと1モルの65/35重量%の2,4−トリ
レンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソ
シアネートとの混合物との縮合、2)1モルのポ
リテトラメチレンアジペート及び1モルの1,4
−ブタンジオールと2モルのジフエニルメタン
4,4′−ジイソシアネートとの縮合、3)アジピ
ン酸、ジエチレングリコール、エチレングリコー
ル及びエタノールアミンから調整された1モルの
ポリエステルアミド及び0.2モルのエチレングリ
コールと1,2モルの80/20重量%の2,4−ト
リレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイ
ソシアネートとの混合物との反応、及び4)1モ
ルの分子量2000のポリエチレンアジペート及び1
モルの1,4−ブタンジオールと2モルの80/20
重量%の2,4−トリレンジイソシアネートと
2,6−トリレンジイソシアネートとの混合物と
の縮合により生成されるものである。 接着剤層は、接着剤組成物が適用されるフイル
ム基材の一般的な取扱及び巻取特性に重要なスリ
ツプや耐ブロツキングのような特性を改良するた
めに、プラスチツクバインダーの重量に対して10
重量%までの1種もしくはそれ以上の不活性な粒
状材料を含んでいてもよい。適当な粒状材料は
0.1〜30μmの範囲の平均粒径を有するシリカ及び
アルミナ水和物の粒子の如き無機粒を含む。 接着剤層はケトン、塩素化炭化水素又はアルコ
ール、例えばアセトン、メチルエチルケトン、塩
化メチレン又はメタノール、の如き有機溶剤中の
溶液として、適当な公知のコーテイング技術によ
り、フイルムもしくはシートの表面に適用される
のが好ましい。このような溶液からの適用後、接
着剤層は好ましくは0.05〜20μm、もつと好まし
くは0.1〜10μmの乾燥コーテイング厚に乾燥され
る。厚さが0.05μmより小さい場合フイルムに対
して貧弱な接着を与え、一方厚さが200μmを超え
る場合には接着剤層内で凝着破損を起すことがあ
る。 自己支持性プラスチツクフイルム又はシート
は、二軸延伸され、ヒートセツトされたポリエチ
レンテレフタレートフイルムであつてよい。 ポリエステルフイルム支持体の表面は接着剤層
によるコーテイングの前に接着促進のための予備
処理に付されてもよい。予備処理はフイルム表面
を、フイルムに対して膨潤もしくは溶解作用を有
する材料、例えばアセトン又はメタノールの如き
普通の有機溶剤中0.5〜20重量%のp−クロロ−
m−クレゾール、2,4−ジクロロレゾルシノー
ル、2,4,6−もしくは2,4,5−トリクロ
ロフエノール又は4−クロロレゾルシノールの溶
液又は普通の有機溶剤中のこのような材料の混合
物、の作用に付することを含む。所望ならば、予
備処理溶液は部分加水分解されたもしくは加水分
解されていない塩化ビニル/酢酸ビニルのコポリ
マーの如き接着を促進する樹脂を含んでいてもよ
い。このような溶液をフイルム表面に適用した
後、接着剤組成物の適用前に昇温において数分間
乾燥する。 あるいは、予備処理工程を省略してもよく、ポ
リエステルフイルムに対し膨潤又は溶解作用を有
する物質を1重量部のコポリマー成分に対して約
5重量部の量で、接着剤組物中に含有させてもよ
い。 光重合可能なエレメントは、印刷版製造者によ
り、フイルム又はシートに適用された接着剤層上
に液状の光重合可能な層を流し込むことにより製
造されてもよい。あるいは、前述したような光重
合可能なエレメント即ちフイルム又はシート、接
着剤層及び光重合可能な層を含むエレメントを用
いて印刷版を製造することもできる。 光重合可能な層は一般に2000〜8000オングスト
ロームの範囲の波長の活性放射線に露出したとき
に光重合開始剤の存在で重合することのできる有
機不飽和物質及び適当な光重合開始剤を含むのが
よい。光重合可能な有機不飽和物質はエチレン系
不飽和付加重合性モノマー及び/又は不飽和ポリ
マーを含んでいてもよい。英国特許第第1321108
号明細書に記載されている如き、適当なエチレン
系不飽和付加重合性モノマーとしては、スチレ
ン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ジアリル
フタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリ
ルシアヌレート、N,N′−メチレンビスアクリ
ルアミド、N,N′−ヘキサメチレンビスアクリ
ルアミド、ステアリルアクリレート、アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル
アクリルアミド、N−ヒドロキシメタクリルアミ
ド、α−アセトアミドアクリルアミド、アクリル
酸、メタクリル酸、α−クロロアクリル酸、p−
カルボキシスチレン、2,5−ジヒドロキシスチ
レン、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、トリメチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート及びテ
トラエチレングリコールジメタクリレートがあ
る。 適当な不飽和ポリマーとしては不飽和ポリエス
テル及び不飽和ポリウレタンがある。このような
不飽和ポリエステルはエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、テ
トラエチレングリコール、式 HO−(CH2−CH2−O)o−H (式中、nは5〜50の整数を表わす)のポリオ
キシエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、式 (式中、mは3〜30の整数を表わす)のポリオ
キシプロピレングリコール、式 HO(CH2−CH2−CH2−CH2−O)x−H (式中、xは2〜30の整数を表わす)のポリオ
キシブチレングリコール及び−(CH2−CH2−O)
a−基及び
フエノン即ち であるのがよい。 接着剤層中の光重合開始剤混合物は、例えばフ
オトレリーフ印刷版において、重合された光重合
可能な層を接着剤層を介してプラスチツクフイル
ムもしくはシートに接着させるのに特に有利であ
る。 接着剤層中の光重合開始剤(i)の量が0.01重量%
より少い場合には光重合された層に対する十分な
接着を与えることができず、一方2.0重量%を超
える場合には光重合可能な層の適用前に接着剤層
の表面上で開始剤(i)が結晶化することにより表面
欠点を生じ易く、また光重合可能な層の重合に用
いるのに好ましい紫外線を多量に吸収して長い露
光時間を要するという不都合を与えることがあ
る。光重合開始剤(i)、特に4,4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノン、の量が0.01〜1.0、
好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲にあるときに、
接着は特に効果的である。 光重合開始剤(ii)は適当な光重合開始活性を有す
るいかなる材料であつてもよく、好ましくはベン
ゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチル
ベンゾイン、ベンジル、アンスラキノン、ジアセ
チルアンスラキノン、1−クロロアンスラキノ
ン、9,10−フエナンスラキノン、ジフエニルジ
スルフイド、2−ナフタレンスルホニルクロリ
ド、ω−ブロモアセトフエノン、エオシン、チオ
ニン及びベンゾフエノンから選ばれる。 光重合開始剤(ii)の量が0.1重量%より少い場合
には光重合された層に対する十分な接着を与え
ず、7重量%を超える場合には光重合可能な層の
適用前に開始剤(ii)の表面結晶化が生ずることがあ
る。光重合開始剤(ii)がプラスチツクバインダーの
重量に対して0.25〜5.0重量%の範囲の量で存在
する場合に特に効果的な接着と表面結晶化の防止
とが達成される。 本発明の接着剤層中に用いられる光重合開始剤
混合物の好ましいものとしては、イソプロピルベ
ンゾインエーテルと4,4′−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフエノンとの混合物がある。このよう
な混合物は、プラスチツクバインダーの重量に対
して、約5.0重量%のイソプロピルベンゾインエ
ーテル及び約0.25重量%の4,4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノンを含む場合に特に有効
である。 本発明に係るエレメントの接着剤層における光
重合開始剤混合物の合計量はいずれかの光重合開
始剤の接着剤層表面への結晶移行を起させるには
不十分であつて、光重合された層に対する良好な
接着を与える。 接着剤層に含まれる非光重合性プラスチツクバ
インダーはセルロースエステル、例えば酢酸プロ
ピオン酸セルロース、ビニルハロゲノエステルの
ホモポリマー及びコポリマー、ポリウレタン、ア
ルキツド樹脂、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸及び/又はそのエステルのポリマー及びコポリ
マー、合成ゴム、例えばポリクロロプレン、部分
的に加水分解されていてもよい酢酸ビニルのポリ
マー及びコポリマー、例えば部分加水分解された
酢酸ビニルと塩化ビニルとのコポリマー、塩化ビ
ニル又は塩化ビニリデンのポリマー及びコポリマ
ー、エポキシ樹脂、及びビニルブチラールのポリ
マー及びコポリマーの如き適当な熱可塑性ポリマ
ーから選ぶことができる。 プラスチツクバインダーとして用いるのに適す
るビニルハロゲノエステルのコポリマーは、好ま
しくは、1種もしくは以上のエチレン系不飽和の
共重合可能なコモノマー、特にα,β−不飽和カ
ルボン酸、酢酸ビニル及びビニルアルコールから
選ばれる1種もしくはそれ以上のコモノマーとで
生成されるモノ−、ジ−もしくはトリ−ハロゲノ
酢酸ビニル、特にモノ−、ジ−もしくはトリ−ク
ロロ酢酸ビニルのコポリマーを含む。モノクロロ
酢酸ビニルのコポリマーは特に有効なバインダー
であり、例えば1〜60モル%のα,β−不飽和カ
ルボン酸、例えばクロトン酸、又は1〜60モル%
の酢酸ビニル及び/又はビニルアルコールを含む
もの、例えば56モル%のモノクロロ酢酸ビニル、
43モル%のビニルアルコール及び1モル%の酢酸
ビニルを含むコポリマー、であつてもよい。 プラスチツクバインダーとして用いるのに適当
なポリウレタン樹脂は1種又はそれ以上のヒドロ
キシ末端ポリエステル、ポリエーテル、ポリエス
テルアミド又は類似の適当な物質と1種又はそれ
以上のジイソシアネートとを、所望ならば例えば
連鎖延長剤、低分子最二官能価アルコール、二官
能価アミン、アミノアルコールとともに、縮合さ
せることにより生成される、1種又はそれ以上の
線状の、実質的に非反応性の、有機溶媒可溶性飽
和合成ブロツクコポリマーを含んでいてもよい。 ヒドロキシ末満ポリエステルから誘導されるポ
リウレタンは低酸価、低含水量の、そして200〜
5000の範囲の分子量を有する線状ポリエステルか
ら製造されるのが好ましい。このようなヒドロキ
シ末満ポリエステルはエチレングリコールプロピ
レングリコール、1,3−ブタンジオール、1,
4−ブタンジオール、ジエチレングリコール又は
ポリエーテルポリオールの如き1種又はそれ以上
のグリコールとアジピン酸、セバシン酸、テレフ
タル酸、イソフタル酸又は無水フタル酸の如き1
種又はそれ以上のカルボン酸、カルボン酸クロリ
ド又はカルボン酸無水物とのエステル化又はε−
カプロラクラクトンの如き環式モノマーの重合に
より製造することができる。このクラスの適当な
ポリエステルはポリエチレンアジペート、ポリテ
トラメチレンアジペート、エチレン/テトラメチ
レンアジペートコポリエステル、エチレングリコ
ール/ジエチレングリコールアジペートコポリエ
ステル又はポリカプロラクトンポリオールを含
む。 好ましいポリエステルポリオール、例えばポリ
(オキシテトラメチレン)グリコール、は200〜
5000の範囲の分子量を有し、エチレンオキシド、
プロピレンオキシド及びテトラヒドロフランの如
き物質のホモ重合又は共重合により生成される。 ヒドロキシ末端ポリエステルアミドから誘導さ
れるポリウレタンは、好ましくは、低酸価、低含
水量及び200〜500の範囲の分子量を有する、飽和
線状ポリエステルアミドから生成され、これらは
二官能価カルボン酸もしくはカルボン酸無水物又
は2者の混合物と、1種もしくはそれ以上のアミ
ノアルコール、1種もしくはそれ以上のアミノア
ルコールと1種もしくはそれ以上のジオールもし
くはジアミンとの混合物又は1種もしくはそれ以
上のジオールと1種もしくはそれ以上のジアミン
との混合物との反応により生成される。適当なポ
リエステルアミドの製造のための反応はアジピン
酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸及
び無水フタル酸の如きカルボン酸又はカルボン酸
無水物と、所望によりエチレングリコール、ジエ
チレングリコール又はエチレンジアミンの如きジ
オール又はジアミンと混合された、エタノールア
ミンの如きアミノアルコールとの間で実施するこ
とができる。 連鎖延長剤を用いる場合、これはいかなる低分
子量芳香族もしくは脂肪族二官能価アルコール、
二官能価アミン、アミノアルコール又はこれらの
物質の2種又はそれ以上の混合物であつてもよ
く、これらは痕跡量の三官能価アルコール又はア
ミンを含んでいてもよい。好ましい連鎖延長剤と
しては、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール、エチレングリコール、ジエチングリ
コール、エタノールアミン及びエチレンジアミン
がある。 ジイソシアネートはいかなる二官能価芳香族も
しくは脂肪族イソシアネート又はこれらの物質の
2種もしくはそれ以上の混合物であつてもよい
が、トリレンジイソシアネートの異性体の1種も
しくは混合物、ジフエニルメタン4,4′−ジイソ
シアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネー
ト又はキサメチレンジイソシアネートであるのが
好ましい。 好ましいポリウレタン樹脂は1000〜250000の範
囲の分子量を有し、1)1モルのポリエチレンア
ジペートと1モルの65/35重量%の2,4−トリ
レンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソ
シアネートとの混合物との縮合、2)1モルのポ
リテトラメチレンアジペート及び1モルの1,4
−ブタンジオールと2モルのジフエニルメタン
4,4′−ジイソシアネートとの縮合、3)アジピ
ン酸、ジエチレングリコール、エチレングリコー
ル及びエタノールアミンから調整された1モルの
ポリエステルアミド及び0.2モルのエチレングリ
コールと1,2モルの80/20重量%の2,4−ト
リレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイ
ソシアネートとの混合物との反応、及び4)1モ
ルの分子量2000のポリエチレンアジペート及び1
モルの1,4−ブタンジオールと2モルの80/20
重量%の2,4−トリレンジイソシアネートと
2,6−トリレンジイソシアネートとの混合物と
の縮合により生成されるものである。 接着剤層は、接着剤組成物が適用されるフイル
ム基材の一般的な取扱及び巻取特性に重要なスリ
ツプや耐ブロツキングのような特性を改良するた
めに、プラスチツクバインダーの重量に対して10
重量%までの1種もしくはそれ以上の不活性な粒
状材料を含んでいてもよい。適当な粒状材料は
0.1〜30μmの範囲の平均粒径を有するシリカ及び
アルミナ水和物の粒子の如き無機粒を含む。 接着剤層はケトン、塩素化炭化水素又はアルコ
ール、例えばアセトン、メチルエチルケトン、塩
化メチレン又はメタノール、の如き有機溶剤中の
溶液として、適当な公知のコーテイング技術によ
り、フイルムもしくはシートの表面に適用される
のが好ましい。このような溶液からの適用後、接
着剤層は好ましくは0.05〜20μm、もつと好まし
くは0.1〜10μmの乾燥コーテイング厚に乾燥され
る。厚さが0.05μmより小さい場合フイルムに対
して貧弱な接着を与え、一方厚さが200μmを超え
る場合には接着剤層内で凝着破損を起すことがあ
る。 自己支持性プラスチツクフイルム又はシート
は、二軸延伸され、ヒートセツトされたポリエチ
レンテレフタレートフイルムであつてよい。 ポリエステルフイルム支持体の表面は接着剤層
によるコーテイングの前に接着促進のための予備
処理に付されてもよい。予備処理はフイルム表面
を、フイルムに対して膨潤もしくは溶解作用を有
する材料、例えばアセトン又はメタノールの如き
普通の有機溶剤中0.5〜20重量%のp−クロロ−
m−クレゾール、2,4−ジクロロレゾルシノー
ル、2,4,6−もしくは2,4,5−トリクロ
ロフエノール又は4−クロロレゾルシノールの溶
液又は普通の有機溶剤中のこのような材料の混合
物、の作用に付することを含む。所望ならば、予
備処理溶液は部分加水分解されたもしくは加水分
解されていない塩化ビニル/酢酸ビニルのコポリ
マーの如き接着を促進する樹脂を含んでいてもよ
い。このような溶液をフイルム表面に適用した
後、接着剤組成物の適用前に昇温において数分間
乾燥する。 あるいは、予備処理工程を省略してもよく、ポ
リエステルフイルムに対し膨潤又は溶解作用を有
する物質を1重量部のコポリマー成分に対して約
5重量部の量で、接着剤組物中に含有させてもよ
い。 光重合可能なエレメントは、印刷版製造者によ
り、フイルム又はシートに適用された接着剤層上
に液状の光重合可能な層を流し込むことにより製
造されてもよい。あるいは、前述したような光重
合可能なエレメント即ちフイルム又はシート、接
着剤層及び光重合可能な層を含むエレメントを用
いて印刷版を製造することもできる。 光重合可能な層は一般に2000〜8000オングスト
ロームの範囲の波長の活性放射線に露出したとき
に光重合開始剤の存在で重合することのできる有
機不飽和物質及び適当な光重合開始剤を含むのが
よい。光重合可能な有機不飽和物質はエチレン系
不飽和付加重合性モノマー及び/又は不飽和ポリ
マーを含んでいてもよい。英国特許第第1321108
号明細書に記載されている如き、適当なエチレン
系不飽和付加重合性モノマーとしては、スチレ
ン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ジアリル
フタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリ
ルシアヌレート、N,N′−メチレンビスアクリ
ルアミド、N,N′−ヘキサメチレンビスアクリ
ルアミド、ステアリルアクリレート、アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル
アクリルアミド、N−ヒドロキシメタクリルアミ
ド、α−アセトアミドアクリルアミド、アクリル
酸、メタクリル酸、α−クロロアクリル酸、p−
カルボキシスチレン、2,5−ジヒドロキシスチ
レン、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジメタク
リレート、トリメチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート及びテ
トラエチレングリコールジメタクリレートがあ
る。 適当な不飽和ポリマーとしては不飽和ポリエス
テル及び不飽和ポリウレタンがある。このような
不飽和ポリエステルはエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、テ
トラエチレングリコール、式 HO−(CH2−CH2−O)o−H (式中、nは5〜50の整数を表わす)のポリオ
キシエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、式 (式中、mは3〜30の整数を表わす)のポリオ
キシプロピレングリコール、式 HO(CH2−CH2−CH2−CH2−O)x−H (式中、xは2〜30の整数を表わす)のポリオ
キシブチレングリコール及び−(CH2−CH2−O)
a−基及び
【式】基(ここで、
a及びbは同一のもしくは相異なる2〜50の整数
を表わす)を含むコポリグリコールの如きジオー
ルをマレイン酸、フマル酸、イタコン酸、メサコ
ン酸、グルタコン酸、又はこれらのエステルもし
くは無水物、例えばジメチルもしくはジエチルエ
ステルもしくは無水マレイン酸、の如き不飽和ジ
カルボン酸と反応させることにより得られる。 不飽和ポリウレタンは末端ヒドロキシル基を有
する不飽和ポリエステルをトリレンジイソシアネ
ート及びジフエニルメタンジイソシアネートの如
きポリイソシアネートと反応させることにより得
られる。末端ヒドロキシル基を有する不飽和ポリ
エステルは上記の不飽和ジカルボン酸と過剰の上
記ジオールとの縮重合反応により製製造される。 光重合開始剤は光重合可能な層中に含有される
のが好ましく、接着剤層中の開始剤(ii)として用い
るのに適当であるとして前述した開始剤1種又は
それ以上からなるものであつてよい。光重合可能
な材料中に用いられるこのような光重合開始剤の
量は光重合可能な組成物の合計重量に対して
0.001〜10重量%の範囲にあるのが好ましい。所
望ならば、接着剤層の開始剤(i)の構造を有する光
重合開始剤を光重合可能な層中に含有させてもよ
い。 光重合可能な材料の貯蔵安定性(貯蔵寿命)を
保持する目的で公知の安定剤を用いることもでき
る。安定剤の例としては、ヒドロキノン、モノ−
tert−ブチルヒドロキノン、ベンゾキノン、2,
5−ジフエニル−p−ベンゾキノン、ピリジン、
フエノチアジン、p−ジアミノベンゼン、β−ナ
フトール、ナフチルアミン、ピロガロール、塩化
第一銅及びニトロベンゼンがある。これらの安定
剤は印刷版の製造に用いるような活性放射線の介
在がない場合に重合反応を完全に防止するために
のみ添加されるのである。安定剤の量は光重合可
能な組成物の合計重量の約0.005〜3.0重量%であ
るのが好ましい。 光重合可能な層に対しフイラー又はバインダー
を用いることもできる。適当なバインダーの例と
しては、アセチルセルロース、酢酸セルロース、
コハク酸水素塩、ニトロセルロース、セルロース
アセテートプロピオネート及びセルロースブチレ
ートの如きセルロースエステル、ポリビニルブチ
ラールの如きポリビニルアルコール誘導体及びポ
リ−ε−カプロラクタム、ポリヘキサメチレンセ
バカミド、コポリ(ε−カプロラクタムヘキサメ
チレンセバカミド及び/又はアジパミド)の如き
ポリアミドがあり、適当なフイラーの例としては
粉状ガラス、マイカ、陶士、シリカ、石綿、珪酸
マグネシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ及び
ポリエチレンテレフタレートがある。 この発明に用いられる光重合可能な材料は一般
に2000〜8000オングストロームの波長を有する化
学放射線により容易に光重合される。このような
化学放射線の実際的な線源としてはカーボンアー
ク燈、超高圧水銀燈、高圧水銀燈、低圧水銀燈、
紫外螢光燈、キセノンランプ及び日光がある。 本発明の1つの好ましい態様においては、光重
合可能なエレメントから、このエレメントをその
両側から化学光線に露出することを含むプロセス
によつて、レリーフ印刷版が製造される。このよ
うなエレメントに用いるための自己支持性プラス
チツクフイルム又はシートは光重合に用いられる
光の波長に対して透明でなければならない。 光重合された層は優れた接着をもつて、接着剤
層を介してフイルム又はシートに残留し、適用さ
れた画像の顕著な鮮鋭度を示す。これは光重合開
始剤(i)が光重合に普通に用いられる紫外光に対し
て高いデンシテイ、従つてアンチハロ(anti−
halo)特性を有する(即ち接着剤層が典型的には
紫外光に対して0.1〜0.5の領域の光学濃度を有す
る)からである。また、光重合可能な層の未硬化
部分の優れた除去がなされ、更に光重合可能な層
上に負荷された硬化画像部分に対して極めて薄い
ベース層が本発明に係る光重合開始剤とともに残
されるということが発見されたのである。接着剤
層中の光重合開始剤混合物の相対的な量及び性質
は残留するベース層の厚さを決定し、また本発明
に係る接着剤層組成は従来、例えば英国特許第
1321108号明細書の教示の場合に、可能であつた
よりもより薄い残留ベース層を与えるということ
が見出された。薄いベース層を、例えば50μm又
はそれ以下の領域に、得るためには、光重合開始
剤の一方の最小有効量を、他方の光重合開始剤の
量を増加するにつれて、減少させる。従つて、
(接着剤層中のプラスチツクバインダーの重量に
対する重量%において)2.5%のベンゾイシンイ
ソプロピルエーテル及び0.1%の4,4′−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン;1.0%のベン
ゾインイソプロピルエーテル及び0.25%の4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン;並
びに5%のベンゾインイソプロピルエーテル及び
0.25%のジメチルアミノベンズアルデヒドからな
る混合物は光重合可能な層が“Hercules”FD樹
脂を含む場合に許容可能な薄いベース層を与える
のに対して、1%のベンゾインイソプロピルエー
テル及び0.1%の4,4′−ビス(ジメチルアミノ)
ベンゾフエノンの混合物は同じ光重合可能な層に
対して許容不能な厚いベース層を与える。 本発
明に係るフイルムベースの構造を、フオトレリー
フ印刷版の製造におけるその使用とともに、添附
の図面を参照しながら説明する。 第1図において、通常の透明な2軸延伸された
ヒートセツトポリエチレンテレフタレートフイル
ム1の表面2は100mlのアセトン中5.0gのp−ク
ロロ−m−クレゾール、1.0gの部分加水分解さ
れた塩化ビニルと酢酸ビニルのコポリマー
(“Vinylite”VAGHとして市販のもの)からな
る溶液により100mg/dm2の湿潤コート重量を与
えるようにコーテイングし、90℃で2分間乾燥す
ることにより予備処理されている。乾燥された層
は第1図において3で示されている。接着剤層4
は予備処理層3上に接着剤組成物をコーテイング
することにより製造された。適用された接着剤組
成物は100℃で2分間加熱することにより乾燥さ
れて、厚さ7μmの乾燥接着剤層が形成された。 第1図に示すフイルムベースは第2図及び第3
図に示すようなフオトレリーフ版の製造に用いる
ことができる。製造の手順は支持ガラス板7上に
マスター6を置くことを含む。マスター6はフイ
ルムベース材料上に沈積されるべきパターンの通
常の写真ネガ画像を含み、沈積銀の放射線非透過
性領域8及び放射線透過性領域9を有する。説明
を簡単にするために、フイルム支持体及び基礎層
は図面中に示されていない。放射線透過性の保護
熱可塑性フイルム10がマスター6上に置かれ
た。新聞印刷版の製造用として市販されている。 “Hercules”FD樹脂からなる光重合可能な材
料の層11が流しかけ、均一な厚さに展延させる
ことにより、保護フイルム10上に適用された。
次に、第1図に示すようなフイルムベースが接着
剤層4を光重合可能な材料に接触せしめて層11
上に置かれた。光重合可能な材料は紫外光線によ
り硬化され得る。ガラス板12が次いでフイルム
ベース材料12上に置かれた。 層11を接着剤層4に接着させ、ま光重合可能
な材料のベース層13(第3図参照)をフオトレ
リーフパターン用の基礎として硬化及び固化させ
るために、フイルムベース材料上から矢印Aの方
向に紫外光線を短時間、即ち約12秒間、照射し
た。次に、マスター6の透過性領域9に対応する
光重合可能な材料の画像領域14を硬化及び固化
させるために、矢印Bの方向にマスター6を介し
て紫外光線を上記より長時間、約60秒間、照射し
た。 最後に、フイルム集合体をマスター6及びガラ
スプレート7から分離し、保護フイルム10を光
重合可能な層11から引剥した。次いで、集合体
を光重合可能な材料用の溶剤、例えば硼砂の溶
液、中で洗浄して、マスター6の非透過性領域8
に対応する未硬化領域15を除去し。完成された
印刷版を第4図に示す。これは印刷レリーフ領域
14を有する。 この発明に係る印刷版のレリーフパターンは、
輪転印刷機において損傷することなく繰り返し使
用に耐えるように、フイルムベース材料に対して
強固な接着を有する。更に、網版細点及び鮮明な
画像が強い接着をもつて沈積される。従つて、こ
れらの印刷版は凸版やフレキソ印刷機に用いるの
に適し、例えば新聞、雑誌、事務書式及び他の印
刷用として用いることができる。 この明細書にいう光学濃度はマクベスカウンタ
ログ(Macbeth Quantalog)TD528濃度計によ
り、拡散光及び18Aラツテン(Wratten)フイル
ターを用いて測定したものである。 下記の実施例及び比較例は本発明を更に説明す
るためのものであり、特に本発明の好ましい光重
合開始剤混合物により薄いベース層(図面におい
て参照番号13で示される)が得られることをする
ものである。 実施例1〜9及び比較例A〜H 図面に関して前述した操作により、種々の組成
の接着剤組成物から得られた接着剤層をポリエチ
レンテレフタレートのフイルムに適用した。接着
剤組物は下記の一般的組成を有し、各組成物に用
いられた光重合開始剤の量は表1に示すものであ
つた。 成 分 量 “Estane”5715として市販の飽和ポリウレタ
ン 100g “Glocure”31として市販のベンゾインイソプ
ロピルエーテル 表1参照 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン 表1参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 4.5g メチルエチルケトン 500ml 図面に関して前述した操作により、得られたフ
イルムベースから、光重合可能なエレメントを製
造した。実施例1〜9の光重合可能なエレメント
から製造された印刷版は優れた画像鮮明度とフイ
ルムベースへの接着を有していた。 フイルムベースに対して十分な接着を残すこと
のできる硬化光重合可能な層の最小ベース層13
厚を2軸延伸されたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に支持された約625mμ厚の角形型枠の
穴に光重合可能な材料を流し込むことにより確認
した。フイルムベースを、接着剤層を光重合可能
な材料と接触させて、光重合可能な材料上に置い
た。沈積銀画像がマスターを横切つて段階的に増
加する濃度を有する通常の銀/ゼラチン乳剤を含
むマスターをフイルムベース上に置き、この集合
体をマスターを介して紫外光に45秒間露出した。
フイルムベースに接着している光重合可能な材料
の層を硼砂の溶液中で洗浄して未硬化の光重合可
能な材料を除去した。次に、フイルムベース上に
残留する硬化された光重合可能な材料の最小厚を
測定した。結果を表1に示す。
を表わす)を含むコポリグリコールの如きジオー
ルをマレイン酸、フマル酸、イタコン酸、メサコ
ン酸、グルタコン酸、又はこれらのエステルもし
くは無水物、例えばジメチルもしくはジエチルエ
ステルもしくは無水マレイン酸、の如き不飽和ジ
カルボン酸と反応させることにより得られる。 不飽和ポリウレタンは末端ヒドロキシル基を有
する不飽和ポリエステルをトリレンジイソシアネ
ート及びジフエニルメタンジイソシアネートの如
きポリイソシアネートと反応させることにより得
られる。末端ヒドロキシル基を有する不飽和ポリ
エステルは上記の不飽和ジカルボン酸と過剰の上
記ジオールとの縮重合反応により製製造される。 光重合開始剤は光重合可能な層中に含有される
のが好ましく、接着剤層中の開始剤(ii)として用い
るのに適当であるとして前述した開始剤1種又は
それ以上からなるものであつてよい。光重合可能
な材料中に用いられるこのような光重合開始剤の
量は光重合可能な組成物の合計重量に対して
0.001〜10重量%の範囲にあるのが好ましい。所
望ならば、接着剤層の開始剤(i)の構造を有する光
重合開始剤を光重合可能な層中に含有させてもよ
い。 光重合可能な材料の貯蔵安定性(貯蔵寿命)を
保持する目的で公知の安定剤を用いることもでき
る。安定剤の例としては、ヒドロキノン、モノ−
tert−ブチルヒドロキノン、ベンゾキノン、2,
5−ジフエニル−p−ベンゾキノン、ピリジン、
フエノチアジン、p−ジアミノベンゼン、β−ナ
フトール、ナフチルアミン、ピロガロール、塩化
第一銅及びニトロベンゼンがある。これらの安定
剤は印刷版の製造に用いるような活性放射線の介
在がない場合に重合反応を完全に防止するために
のみ添加されるのである。安定剤の量は光重合可
能な組成物の合計重量の約0.005〜3.0重量%であ
るのが好ましい。 光重合可能な層に対しフイラー又はバインダー
を用いることもできる。適当なバインダーの例と
しては、アセチルセルロース、酢酸セルロース、
コハク酸水素塩、ニトロセルロース、セルロース
アセテートプロピオネート及びセルロースブチレ
ートの如きセルロースエステル、ポリビニルブチ
ラールの如きポリビニルアルコール誘導体及びポ
リ−ε−カプロラクタム、ポリヘキサメチレンセ
バカミド、コポリ(ε−カプロラクタムヘキサメ
チレンセバカミド及び/又はアジパミド)の如き
ポリアミドがあり、適当なフイラーの例としては
粉状ガラス、マイカ、陶士、シリカ、石綿、珪酸
マグネシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ及び
ポリエチレンテレフタレートがある。 この発明に用いられる光重合可能な材料は一般
に2000〜8000オングストロームの波長を有する化
学放射線により容易に光重合される。このような
化学放射線の実際的な線源としてはカーボンアー
ク燈、超高圧水銀燈、高圧水銀燈、低圧水銀燈、
紫外螢光燈、キセノンランプ及び日光がある。 本発明の1つの好ましい態様においては、光重
合可能なエレメントから、このエレメントをその
両側から化学光線に露出することを含むプロセス
によつて、レリーフ印刷版が製造される。このよ
うなエレメントに用いるための自己支持性プラス
チツクフイルム又はシートは光重合に用いられる
光の波長に対して透明でなければならない。 光重合された層は優れた接着をもつて、接着剤
層を介してフイルム又はシートに残留し、適用さ
れた画像の顕著な鮮鋭度を示す。これは光重合開
始剤(i)が光重合に普通に用いられる紫外光に対し
て高いデンシテイ、従つてアンチハロ(anti−
halo)特性を有する(即ち接着剤層が典型的には
紫外光に対して0.1〜0.5の領域の光学濃度を有す
る)からである。また、光重合可能な層の未硬化
部分の優れた除去がなされ、更に光重合可能な層
上に負荷された硬化画像部分に対して極めて薄い
ベース層が本発明に係る光重合開始剤とともに残
されるということが発見されたのである。接着剤
層中の光重合開始剤混合物の相対的な量及び性質
は残留するベース層の厚さを決定し、また本発明
に係る接着剤層組成は従来、例えば英国特許第
1321108号明細書の教示の場合に、可能であつた
よりもより薄い残留ベース層を与えるということ
が見出された。薄いベース層を、例えば50μm又
はそれ以下の領域に、得るためには、光重合開始
剤の一方の最小有効量を、他方の光重合開始剤の
量を増加するにつれて、減少させる。従つて、
(接着剤層中のプラスチツクバインダーの重量に
対する重量%において)2.5%のベンゾイシンイ
ソプロピルエーテル及び0.1%の4,4′−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン;1.0%のベン
ゾインイソプロピルエーテル及び0.25%の4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン;並
びに5%のベンゾインイソプロピルエーテル及び
0.25%のジメチルアミノベンズアルデヒドからな
る混合物は光重合可能な層が“Hercules”FD樹
脂を含む場合に許容可能な薄いベース層を与える
のに対して、1%のベンゾインイソプロピルエー
テル及び0.1%の4,4′−ビス(ジメチルアミノ)
ベンゾフエノンの混合物は同じ光重合可能な層に
対して許容不能な厚いベース層を与える。 本発
明に係るフイルムベースの構造を、フオトレリー
フ印刷版の製造におけるその使用とともに、添附
の図面を参照しながら説明する。 第1図において、通常の透明な2軸延伸された
ヒートセツトポリエチレンテレフタレートフイル
ム1の表面2は100mlのアセトン中5.0gのp−ク
ロロ−m−クレゾール、1.0gの部分加水分解さ
れた塩化ビニルと酢酸ビニルのコポリマー
(“Vinylite”VAGHとして市販のもの)からな
る溶液により100mg/dm2の湿潤コート重量を与
えるようにコーテイングし、90℃で2分間乾燥す
ることにより予備処理されている。乾燥された層
は第1図において3で示されている。接着剤層4
は予備処理層3上に接着剤組成物をコーテイング
することにより製造された。適用された接着剤組
成物は100℃で2分間加熱することにより乾燥さ
れて、厚さ7μmの乾燥接着剤層が形成された。 第1図に示すフイルムベースは第2図及び第3
図に示すようなフオトレリーフ版の製造に用いる
ことができる。製造の手順は支持ガラス板7上に
マスター6を置くことを含む。マスター6はフイ
ルムベース材料上に沈積されるべきパターンの通
常の写真ネガ画像を含み、沈積銀の放射線非透過
性領域8及び放射線透過性領域9を有する。説明
を簡単にするために、フイルム支持体及び基礎層
は図面中に示されていない。放射線透過性の保護
熱可塑性フイルム10がマスター6上に置かれ
た。新聞印刷版の製造用として市販されている。 “Hercules”FD樹脂からなる光重合可能な材
料の層11が流しかけ、均一な厚さに展延させる
ことにより、保護フイルム10上に適用された。
次に、第1図に示すようなフイルムベースが接着
剤層4を光重合可能な材料に接触せしめて層11
上に置かれた。光重合可能な材料は紫外光線によ
り硬化され得る。ガラス板12が次いでフイルム
ベース材料12上に置かれた。 層11を接着剤層4に接着させ、ま光重合可能
な材料のベース層13(第3図参照)をフオトレ
リーフパターン用の基礎として硬化及び固化させ
るために、フイルムベース材料上から矢印Aの方
向に紫外光線を短時間、即ち約12秒間、照射し
た。次に、マスター6の透過性領域9に対応する
光重合可能な材料の画像領域14を硬化及び固化
させるために、矢印Bの方向にマスター6を介し
て紫外光線を上記より長時間、約60秒間、照射し
た。 最後に、フイルム集合体をマスター6及びガラ
スプレート7から分離し、保護フイルム10を光
重合可能な層11から引剥した。次いで、集合体
を光重合可能な材料用の溶剤、例えば硼砂の溶
液、中で洗浄して、マスター6の非透過性領域8
に対応する未硬化領域15を除去し。完成された
印刷版を第4図に示す。これは印刷レリーフ領域
14を有する。 この発明に係る印刷版のレリーフパターンは、
輪転印刷機において損傷することなく繰り返し使
用に耐えるように、フイルムベース材料に対して
強固な接着を有する。更に、網版細点及び鮮明な
画像が強い接着をもつて沈積される。従つて、こ
れらの印刷版は凸版やフレキソ印刷機に用いるの
に適し、例えば新聞、雑誌、事務書式及び他の印
刷用として用いることができる。 この明細書にいう光学濃度はマクベスカウンタ
ログ(Macbeth Quantalog)TD528濃度計によ
り、拡散光及び18Aラツテン(Wratten)フイル
ターを用いて測定したものである。 下記の実施例及び比較例は本発明を更に説明す
るためのものであり、特に本発明の好ましい光重
合開始剤混合物により薄いベース層(図面におい
て参照番号13で示される)が得られることをする
ものである。 実施例1〜9及び比較例A〜H 図面に関して前述した操作により、種々の組成
の接着剤組成物から得られた接着剤層をポリエチ
レンテレフタレートのフイルムに適用した。接着
剤組物は下記の一般的組成を有し、各組成物に用
いられた光重合開始剤の量は表1に示すものであ
つた。 成 分 量 “Estane”5715として市販の飽和ポリウレタ
ン 100g “Glocure”31として市販のベンゾインイソプ
ロピルエーテル 表1参照 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン 表1参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 4.5g メチルエチルケトン 500ml 図面に関して前述した操作により、得られたフ
イルムベースから、光重合可能なエレメントを製
造した。実施例1〜9の光重合可能なエレメント
から製造された印刷版は優れた画像鮮明度とフイ
ルムベースへの接着を有していた。 フイルムベースに対して十分な接着を残すこと
のできる硬化光重合可能な層の最小ベース層13
厚を2軸延伸されたポリエチレンテレフタレート
フイルム上に支持された約625mμ厚の角形型枠の
穴に光重合可能な材料を流し込むことにより確認
した。フイルムベースを、接着剤層を光重合可能
な材料と接触させて、光重合可能な材料上に置い
た。沈積銀画像がマスターを横切つて段階的に増
加する濃度を有する通常の銀/ゼラチン乳剤を含
むマスターをフイルムベース上に置き、この集合
体をマスターを介して紫外光に45秒間露出した。
フイルムベースに接着している光重合可能な材料
の層を硼砂の溶液中で洗浄して未硬化の光重合可
能な材料を除去した。次に、フイルムベース上に
残留する硬化された光重合可能な材料の最小厚を
測定した。結果を表1に示す。
【表】
比較例B及びCで得られたベース層の最小厚は
許容可能なものであつたが、これらの集合体は、
ベンゾインイソプロピルエーテルの結晶の表面へ
の移動により接着剤層が汚染され、従つて許容不
能のものであつた。 実施例10〜16及び比較例I〜O 実施例1〜9及び比較例A〜Hの操作を、別の
光重合開始剤混合物を用いて、繰り返した。接着
剤組成物は下記に示す一般的組成を有していた。 成 分 量 “Estane”5715として市販の飽和ポリウレタ
ン 100g 表2に示す光重合開始剤X1 表2参照 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン 表2参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 4.5g メチルエチルケトン 500ml 硬化ベース層の最小厚を表2に示す。実施例10
〜16の光重合可能なエレメントから得られた印刷
版は優れた画像鮮明度及びフイルムベースへの接
着を有していた。比較例I〜Oで得られたベース
層の最小厚は厚く、許容不能であつた。
許容可能なものであつたが、これらの集合体は、
ベンゾインイソプロピルエーテルの結晶の表面へ
の移動により接着剤層が汚染され、従つて許容不
能のものであつた。 実施例10〜16及び比較例I〜O 実施例1〜9及び比較例A〜Hの操作を、別の
光重合開始剤混合物を用いて、繰り返した。接着
剤組成物は下記に示す一般的組成を有していた。 成 分 量 “Estane”5715として市販の飽和ポリウレタ
ン 100g 表2に示す光重合開始剤X1 表2参照 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン 表2参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 4.5g メチルエチルケトン 500ml 硬化ベース層の最小厚を表2に示す。実施例10
〜16の光重合可能なエレメントから得られた印刷
版は優れた画像鮮明度及びフイルムベースへの接
着を有していた。比較例I〜Oで得られたベース
層の最小厚は厚く、許容不能であつた。
【表】
実施例17〜20及び比較例P〜S
別の光重合開始剤混合物及びプラスチツクバイ
ンダーを用いて、実施例1〜9及び比較例A〜H
の操作を繰り返した。接着剤組成物は下記の一般
組成を有していた。 成 分 量 表3に示しプラスチツクバインダー 100g 表3に示した光重合開始剤X2 表3参照 表3に示した光重合開始剤X3 表3参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 4.5g メチルエチルケトン 100ml 硬化ベース層の最小厚を表3に示す。実施例17
〜20の光重合可能なエレメントから得られた印刷
版は優れた画像鮮明度及びフイルムベース接着を
有していた。比較例P〜Sで得られたベース層の
最小厚は厚く、許容不能であつた。
ンダーを用いて、実施例1〜9及び比較例A〜H
の操作を繰り返した。接着剤組成物は下記の一般
組成を有していた。 成 分 量 表3に示しプラスチツクバインダー 100g 表3に示した光重合開始剤X2 表3参照 表3に示した光重合開始剤X3 表3参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 4.5g メチルエチルケトン 100ml 硬化ベース層の最小厚を表3に示す。実施例17
〜20の光重合可能なエレメントから得られた印刷
版は優れた画像鮮明度及びフイルムベース接着を
有していた。比較例P〜Sで得られたベース層の
最小厚は厚く、許容不能であつた。
【表】
実施例20を変更し、1.0gのヘキサメトキシメ
チルメラミン(“Cyme”300として市販)及び
0.25gのp−トルエンスルホン酸を、接着剤層を
架橋させて150℃までの温度に対する耐性を与え
るために、実施例20の接着剤組成物コーテイング
組成に加えた。架橋はエレメントの他の特性に対
し実質的な影響を与えなかつた。 実施例21及び22及び比較例T及びU 別の光重合開始剤混合物及びプラスチツクバイ
ンダーを用いて、実施例1〜9及び比較例A〜H
の操作を繰り返した。接着剤組成物は次のようで
あつた。 比較例T: 成 分 量 酢酸プロピオン酸セルロース(“Cellit”
PR900) 35.0g ベンゾインイソプロピルエーテル(“Glocure”
31) 1.75g 粒状シリカ(“Gasil”64) 4.5g メチルエチルケトン 500ml 実施例 21: 比較例Tの組成に0.08gの4,4′−ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフエノンを添加 比較例 :U 成 分 量 3モル%のブチルメタクリレートと70モル%の
メチルメタクリレートのコポリマー 100g ベンゾインイソプロピルエーテル(“Glocure”
31) 5.0g 粒状シリカ(“Gasil”64) 4.5g メチルエチルケトン 850ml 実施例 22: 比較例Uの組成に0.25gの4,4′−ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフエノンを添加 硬化ベース層の最小厚を表4に示す。実施例21
及び22の光重合可能なエレメントから得られた印
刷版は優れた画像鮮明度及びフイルムベース接着
を有していた。比較例T及びUで得られたベース
層の最小厚は厚く、許容不能であつた。
チルメラミン(“Cyme”300として市販)及び
0.25gのp−トルエンスルホン酸を、接着剤層を
架橋させて150℃までの温度に対する耐性を与え
るために、実施例20の接着剤組成物コーテイング
組成に加えた。架橋はエレメントの他の特性に対
し実質的な影響を与えなかつた。 実施例21及び22及び比較例T及びU 別の光重合開始剤混合物及びプラスチツクバイ
ンダーを用いて、実施例1〜9及び比較例A〜H
の操作を繰り返した。接着剤組成物は次のようで
あつた。 比較例T: 成 分 量 酢酸プロピオン酸セルロース(“Cellit”
PR900) 35.0g ベンゾインイソプロピルエーテル(“Glocure”
31) 1.75g 粒状シリカ(“Gasil”64) 4.5g メチルエチルケトン 500ml 実施例 21: 比較例Tの組成に0.08gの4,4′−ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフエノンを添加 比較例 :U 成 分 量 3モル%のブチルメタクリレートと70モル%の
メチルメタクリレートのコポリマー 100g ベンゾインイソプロピルエーテル(“Glocure”
31) 5.0g 粒状シリカ(“Gasil”64) 4.5g メチルエチルケトン 850ml 実施例 22: 比較例Uの組成に0.25gの4,4′−ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフエノンを添加 硬化ベース層の最小厚を表4に示す。実施例21
及び22の光重合可能なエレメントから得られた印
刷版は優れた画像鮮明度及びフイルムベース接着
を有していた。比較例T及びUで得られたベース
層の最小厚は厚く、許容不能であつた。
【表】
実施例23〜25及び比較例V
下記の一般組成を有する別の接着剤組成物を用
いて、実施例1〜9及び比較例A〜Hの操作を繰
り返した。 成 分 量 “Estane”5715として市販の飽和ポリウレタ
ン 40g “Glocure”31として市販のベンゾインイソプ
ロピルエーテル 2g 表5に示した光重合開始剤X4 表5参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 2g メチルエチルケトン 160g 光重合可能なエレメントを表5に示す如き別の
露出時間を用いて紫外光に露出した。光重合可能
な材料の未硬化領域を4重量%の硼砂の水溶液
中、40℃で4分間洗浄して除去した。 硬化された光重合可能な材料の最小厚及び接着
剤層の光学濃度を測定した。結果を表5に示す。
いて、実施例1〜9及び比較例A〜Hの操作を繰
り返した。 成 分 量 “Estane”5715として市販の飽和ポリウレタ
ン 40g “Glocure”31として市販のベンゾインイソプ
ロピルエーテル 2g 表5に示した光重合開始剤X4 表5参照 “Gasil”64として市販の粒状シリカ 2g メチルエチルケトン 160g 光重合可能なエレメントを表5に示す如き別の
露出時間を用いて紫外光に露出した。光重合可能
な材料の未硬化領域を4重量%の硼砂の水溶液
中、40℃で4分間洗浄して除去した。 硬化された光重合可能な材料の最小厚及び接着
剤層の光学濃度を測定した。結果を表5に示す。
第1図は熱可塑性フイルム及び接着剤層を含む
フイルムベースの断面図、第2図は光重合可能な
層と合体され、マスターを介して露光するために
位置された、第1図に示したフイルムベースの断
面図、第3図は第2図に示した集合体の露光の効
果を示す図、そして第4図は完成された印刷版の
断面図である。 1……ポリエチレンテレフタレートフイルム、
4……接着剤層、6……マスター、10……保護
フイルム、11……光重合可能な材料の層。
フイルムベースの断面図、第2図は光重合可能な
層と合体され、マスターを介して露光するために
位置された、第1図に示したフイルムベースの断
面図、第3図は第2図に示した集合体の露光の効
果を示す図、そして第4図は完成された印刷版の
断面図である。 1……ポリエチレンテレフタレートフイルム、
4……接着剤層、6……マスター、10……保護
フイルム、11……光重合可能な材料の層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少くとも一方の面上に置かれた接着剤層とこ
の接着剤層上に置かれた光重合可能な層とを有す
る自己支持性プラスチツクフイルムもしくはシー
トを含む光重合可能なエレメントであつて、 前記接着剤層が非光重合性のプラスチツクバイ
ンダーと下記: (i) 前記プラスチツクバインダーの重量に対して
0.01〜2.0重量%の量の、下記式 〔上式中、R1及びR2は同一のもしくは相異
なるものであつてよく、水素又は6個までの炭
素原子を有する低級アルキル基から選ばれ、
R3はR1又はR2と同一のもしくは相異なるもの
であつてよく、水素、6個までの炭素原子を有
する低級アルキル基、部分的にもしくは完全に
ハロゲン化された6個までの炭素原子を有する
アルキル基又は式 (式中、R4及びR5は同一のもしくは相異な
るものであつてよく、R1及びR2と同一の置換
基から選ばれる)の基から選ばれる〕 で示される化合物、及び (ii) 前記プラスチツクバインダーの重量に対して
0.1〜7重量%の量の他の光重合開始剤からな
る混合物を含む光重合開始剤とを含み、光重合
活性を有さず、 前記自己支持性プラスチツクフイルムもしく
はシートが二軸延伸され、ヒートセツトされた
ポリエチレンテレフタレートフイルムであり、 前記接着剤層の厚さが0.05〜20μmである、 ことを特徴とするエレメント。 2 化合物(i)のR1及びR2が低級アルキル基であ
る特許請求の範囲第1項記載の光重合可能なエレ
メント。 3 化合物(i)のR3が水、−CF3又は式 (式中、R4及びR5は低級アルキル基を表わす)
の基である特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の光重合可能なエレメント。 4 化合物(i)が【式】 【式】 【式】又は4,4′−ビ ス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノンである特許
請求の範囲第1項に、第2項又は第3項記載の光
重合可能なエレメント。 5 接着剤層中の化合物(i)の量がプラスチツクバ
インダーの重量に対して0.01〜0.5重量%の範囲
にある特許請求の範囲第1項ないし第4項のいず
れかに記載の光重合可能なエレメント。 6 光重合開始剤(ii)がベンゾイン、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエー
テル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、α―メチルベンゾイン、ベンジ
ル、アンスラキノン、ジアセチルアンスラキノ
ン、1−クロロアンスラキノン、9,10−フエナ
ンスラキノン、ジフエニルジスフイド、2−ナフ
タレンスルホニルクロリド、ω−ブロモアセトフ
エノン、エオシン、チオニン及びベンゾフエノン
からなる群から選ばれる特許請求の範囲第1項な
いし第5項のいずれかに記載の光重合可能なエレ
メント。 7 接着剤層中の光重合開始剤(ii)の量がプラスチ
ツクバインダーの重量に対して0.25〜5.0重量%
の範囲にある特許請求の範囲第1項ないし第6項
のいずれかに記載の光重合可能なエレメント。 8 光重合開始剤がイソプロピルベンゾインエー
テルと4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
エノンとの混合物を含む特許請求の範囲第4項記
載の光重合可能なエレメント。 9 光重合開始剤が、プラスチツクバインダーの
重量に対し、約5.0重量%のイソプロピルベンゾ
インエーテル及び約0.25重量%の4,4′−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフエノンの混合物を含
む特許請求の範囲第8項記載の光重合可能なエレ
メント。 10 接着剤層のプラスチツクバインダーがセル
ロースエステル、ビニルハロゲノエステルのホモ
ポリマー及びコポリマー、ポリウレタン、アルキ
ツド樹脂、アクリル酸及び/又はメタクリル酸及
び/又はそのエステルのポリマー及びコポリマ
ー、合成ゴム、部分加水分解されていてもよい酢
酸ビニルのポリマー及びコポリマー、塩化ビニル
又は塩化ビニリデンのポリマー及びコポリマー、
エポキシ樹脂、及びビニルブチラールのポリマー
及びコポリマーからなる群から選ばれる特許請求
の範囲第1項ないし第9項のいずれかに記載の光
重合可能なエレメント。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4961077 | 1977-11-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5499417A JPS5499417A (en) | 1979-08-06 |
JPH033208B2 true JPH033208B2 (ja) | 1991-01-18 |
Family
ID=10452937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14669778A Granted JPS5499417A (en) | 1977-11-29 | 1978-11-29 | Photopolymerizable element |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4289843A (ja) |
EP (1) | EP0002321B1 (ja) |
JP (1) | JPS5499417A (ja) |
DE (1) | DE2861268D1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5994B2 (ja) * | 1976-09-14 | 1984-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3039209A1 (de) * | 1980-10-17 | 1982-05-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymere reliefformen und verfahren zu deren herstellung |
DE3100175A1 (de) * | 1981-01-07 | 1982-08-05 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignete mehrschichten-elemente |
DE3107741A1 (de) * | 1981-02-28 | 1982-09-16 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignete mehrschichten-elemente sowie verfahren zu ihrer herstellung |
DE3380640D1 (en) * | 1982-08-11 | 1989-11-02 | Ici Plc | Assembly for use in making a printing plate |
US4559293A (en) * | 1983-04-08 | 1985-12-17 | Kimoto & Co., Ltd. | Photosensitive recording material developable with aqueous neutral salt solution |
US4565769A (en) * | 1984-11-21 | 1986-01-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric sensitizers for photopolymer composition |
JPS61169829A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
PT85756A (pt) * | 1986-09-22 | 1988-10-14 | Napp Systems Inc | Processo para a preparacao de chapas fotossensiveis e revelaveis com agua |
US5175076A (en) * | 1986-09-22 | 1992-12-29 | Nippon Paint Co., Ltd. | Water-developable photosensitive composition for producing relief plates |
US4743528A (en) * | 1986-11-21 | 1988-05-10 | Eastman Kodak Company | Enhanced imaging composition containing an azinium activator |
JPH0289631A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-03-29 | Somar Corp | ケミカルマットフィルム及びそれを用いた感光性フィルム |
JPH03179356A (ja) * | 1989-05-18 | 1991-08-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 |
US5348844A (en) * | 1990-12-03 | 1994-09-20 | Napp Systems, Inc. | Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates |
DE19743507A1 (de) * | 1997-10-01 | 1999-04-15 | Basf Drucksysteme Gmbh | Mehrschichtelement zur Herstellung von Druck- oder Reliefformen |
EP1202062B1 (en) * | 2000-10-31 | 2007-02-28 | Micronas GmbH | Patterned surfaces for bioconjugation and their preparation |
KR100635053B1 (ko) * | 2005-06-21 | 2006-10-16 | 도레이새한 주식회사 | 전자부품용 접착테이프 |
JP2007126490A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Univ Of Tokushima | アミド基含有高分子化合物およびその製造方法 |
LT6675B (lt) | 2018-01-05 | 2019-11-11 | Uab Inovacijų Skautai | Polimerų matricoje įdiegto polipirolo gamybos būdas, taikant iniciatoriaus įterpimą į adhezyvą |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4838403A (ja) * | 1971-09-17 | 1973-06-06 | ||
JPS4918721A (ja) * | 1972-06-14 | 1974-02-19 | ||
JPS5282415A (en) * | 1975-12-27 | 1977-07-09 | Hoechst Ag | Photosensitive duplicate composition containing light starting agent with cooperating action |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1345015A (fr) * | 1961-10-16 | 1963-12-06 | Du Pont | éléments photopolymérisables et procédé de préparation |
BE623613A (ja) | 1961-10-16 | |||
US3345171A (en) | 1963-12-02 | 1967-10-03 | Gevaert Photo Prod Nv | Photochemical insolubilization of polymers |
GB1090142A (en) * | 1965-02-26 | 1967-11-08 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
FR1535367A (fr) | 1967-09-01 | 1968-08-02 | Minnesota Mining & Mfg | Procédé de sensibilisation de substances photoconductrices |
US3556793A (en) * | 1968-05-22 | 1971-01-19 | Gaf Corp | Novel substituted allyl polymer derivatives useful as photoresists |
GB1321108A (en) * | 1969-06-25 | 1973-06-20 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerisable elements |
BE759041A (fr) | 1969-11-18 | 1971-05-17 | Du Pont | Compositions photopolymerisables contenant des aminophenylcetones et des adjuvants |
JPS5017882B1 (ja) * | 1970-02-10 | 1975-06-25 | ||
DE2122143A1 (en) * | 1971-05-05 | 1972-11-16 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photosensitive copying compsn - for photoresits, of diallyl phthalate prepolymer sensitised with michler's ketone/substd benzil |
BE794482A (fr) * | 1972-01-25 | 1973-07-24 | Du Pont | Compositions photopolymerisables contenant des composes cis- alpha -dicarbonyliques cycliques et des sensibilisateurs choisis |
JPS4983501A (ja) * | 1972-12-18 | 1974-08-12 | ||
US3915824A (en) * | 1973-03-30 | 1975-10-28 | Scm Corp | Uv and laser curing of the polymerizable binder |
JPS5337902B2 (ja) * | 1973-09-04 | 1978-10-12 | ||
AU7808175A (en) | 1974-02-12 | 1976-08-12 | Teijin Ltd | Supports for photosensitive resin printing plates |
JPS53109703A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-25 | Teijin Ltd | Improved supporting plate |
-
1978
- 1978-11-06 DE DE7878300593T patent/DE2861268D1/de not_active Expired
- 1978-11-06 EP EP78300593A patent/EP0002321B1/en not_active Expired
- 1978-11-21 US US05/963,939 patent/US4289843A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-11-29 JP JP14669778A patent/JPS5499417A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4838403A (ja) * | 1971-09-17 | 1973-06-06 | ||
JPS4918721A (ja) * | 1972-06-14 | 1974-02-19 | ||
JPS5282415A (en) * | 1975-12-27 | 1977-07-09 | Hoechst Ag | Photosensitive duplicate composition containing light starting agent with cooperating action |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5499417A (en) | 1979-08-06 |
EP0002321B1 (en) | 1981-10-28 |
EP0002321A2 (en) | 1979-06-13 |
DE2861268D1 (en) | 1982-01-07 |
US4289843A (en) | 1981-09-15 |
EP0002321A3 (en) | 1979-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH033208B2 (ja) | ||
US3948665A (en) | Laminates for the manufacture of flexographic printing plates comprising photocrosslinkable reaction product of saturated polyester glycol, diisocyanate, and diol | |
US3287152A (en) | Process for preparing a photopolymerizable element | |
US3948666A (en) | Support for liquid photosensitive resin | |
US2892712A (en) | Process for preparing relief images | |
US3891441A (en) | Light-sensitive stencil printing material with porous support and cover sheets | |
US5204222A (en) | Photocurable elastomeric mixture and recording material, obtained therefrom, for the production of relief printing plates | |
JPS6156506B2 (ja) | ||
US3865589A (en) | Photohardenable layer with integral support of fabric or mesh | |
US4985301A (en) | Assembly for use in making a printing plate | |
US4315066A (en) | Substrates suitable for the production of photopolymerizable elements | |
US20120115083A1 (en) | Biodegradable Film for Flexographic Printing Plate Manufacture and Method of Using the Same | |
EP0104751B1 (en) | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates | |
JP4362233B2 (ja) | 固体キャップされた(solid−capped)液体フォトポリマー印刷要素 | |
JP4065350B2 (ja) | カラープルーフ製造用低酸素感受性光重合性混合物 | |
JPH0128372B2 (ja) | ||
US5034306A (en) | Photocurable elastomeric mixture and recording material, obtained therefrom, for the production of relief printing plates | |
CN108780274B (zh) | 可水显影的柔性印刷用感光性树脂组合物、及由该组合物得到的柔性印刷用感光性树脂原版 | |
US4357414A (en) | Laminate useful for the production of printing plates and relief plates | |
JPS6055335A (ja) | 感光性樹脂積層体の製造法 | |
JPS59229553A (ja) | 光重合性組成物 | |
US3218170A (en) | Photopolymerizable compositions and processes | |
US6294312B1 (en) | Tonable, photosensitive composition and process for making polychromatic images | |
JP2003295422A (ja) | 感光性印刷原版 | |
JP2998513B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびこれを含む感光性フレキソ印刷版 |