JPH0332041A - ボンダ用ツールクリーニング機構 - Google Patents

ボンダ用ツールクリーニング機構

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JPH0332041A
JPH0332041A JP16525489A JP16525489A JPH0332041A JP H0332041 A JPH0332041 A JP H0332041A JP 16525489 A JP16525489 A JP 16525489A JP 16525489 A JP16525489 A JP 16525489A JP H0332041 A JPH0332041 A JP H0332041A
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Hisao Ishida
久雄 石田
Akihiro Nishimura
明浩 西村
Kimiharu Sato
公治 佐藤
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Shinkawa Ltd
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Shinkawa Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 本発明はインナーリードボンダ、アウターリードボンダ
、バンプ転写ボンダ、ペレットボンダ等に用いるボンダ
用ツールクリーニング機構に関する。
【従来の技術] 従来、ボンダ用ツールクリーニング機構として、例えば
#開開60−246643号公報に示すように、ワイヤ
ブラシと仕上砥石とをそれぞれ1個づつ有し、最初にワ
イヤブラシをかけ、その後に仕上砥石でクリーニングし
ている。
[発明が解決しようとする課題1 上記従来技術は、ワイヤブラシと仕上砥石とがそれぞれ
1個であるので、ツールの下面に付着した酸化物を完全
に取り除くことができなかった。
即ち、最初にワイヤブラシをかけることにより。
ツール下面に付着している酸化物の殆どは除去されるが
、完全には除去されない0次に仕上砥石でクリーニング
するので、前記のようにツール下面に残っている酸化物
の目詰りが生じると共に、このクリーニングによって発
生した異物がツールの側面に押し出されてツールの側面
に付着して残る。
このように、ツールに付着した酸化物等の異物が除去さ
れないと、ツールの熱伝導率が悪くなり、リードとバン
プとの接合状態が低下する。
本発明の目的は、ツールに付着した酸化物等の異物を完
全に取り除くことができるボンダ用ツールクリーニング
機構を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 上記目的は、クリーニング部材を少なくとも粗砥石と仕
上砥石とワイヤブラシとより構成することにより遠戚さ
れる。
[作用] まず、粗砥石でクリーニングすることにより、ツール下
面の酸化物の目詰りが防止される0次に仕上砥石で仕上
げクリーニングする。これにより、ツール下面はクリー
ニングされるが、前記した2つのクリーニング動作によ
ってツール下面の酸化物等の異物はツール側面に押し出
される。そこで、最後にワイヤブラシをかけることによ
り、前記ツール側面及び下面に付着した酸化物等の異物
は除去される。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を図により説明する。
図示しない駆動手段でxY力方向駆動される周知構造の
XYテーブルl上には、支持ブロック2が固定されてい
る。支持ブロック2には、垂直に配jQされたクロスロ
ーラ3を介して上下動ブロック4が上下動自在に取付け
られている。上下動ブロック4には垂直に配設されたス
テージ支持軸5が軸受6を介して回転自在に支承されて
おり、ステージ支持軸5の上面にはボンドステージ7が
固定されている。
また上下動ブロック4には軸ホルダ10が固定されてお
り、軸ホルダIOには水平に配設された上下調整可能な
偏心軸11が回転自在に支承されている。偏心軸11の
端部には調整レバー12が固定されており、調整レバー
12には縦溝12aが形成されている。縦溝12aには
ロックねじ13の軸部が挿入されており、ロックねじ1
3のねじ部はナツト14に螺合されている。ナツト14
は前記上下動ブロック4に固定された支持板15の横I
ii 15 aに遊嵌されている。また前記偏心軸11
には、カムフォロア16が固定されている。
カムフォロア16は、上面にカム面を有するリニアカム
17に当接しており、リニアカム17はXYテーブル1
に固定されたエアシリンダ18で水平動させられる。ま
たリニアカム17に対応したXYテーブル1上にはリニ
アカム17の底面をガイドするガイドブロック19が固
定され、このガイドブロック19上にはリニアカム17
の両側側面をガイドするガイドローラ20が回転自在に
支承されている。
従って、ロックねじ13を緩めて調整レバー12を回す
と、偏心軸11が回転し、上下動ブロック4と共にステ
ージ支持軸5及びボンドステージ7が上下動するので、
ボンドステージ7の上下位置を調整することができる。
またエアシリンダ18を作動させると、リニアカム17
のカム面に従ってカムフォロア16と共に上下動ブロッ
ク4が上下動し、ボンドステージ7が上下動する。
前記ステージ支持軸5の上方側及びボンドステージ7に
はペレット25を真空吸着する吸着孔5a、7aが形成
されており、吸着孔5aには図示しない真空源により真
空引きされるバイブ26が固定されている。また前記ス
テージ支持軸5にはベレット25の回転方向をall整
する調整レバー27が固定されており、この調整レバー
27の端部側の底面には垂直に下方に伸びた軸28が固
定され、この軸28の下端側にはローラ29が回転自在
に支承されている。
一方、上下動ブロック4にはモータブラケット30が固
定されており、このモータブラケット30にはモータ3
1が固定されている。モータ31の出力軸にはブロック
32が固定されており、このブロック32には前記ロー
ラ29を挟持する形で2個のローラ33(第1図には一
方のみ図示)が回転自在に支承されている。また調整レ
バー27の端部上面にはスリ7) 34aを有する検出
板34が固定されている。またこの検出板34.即ち調
整レバー27の回転範囲を規制するために、前記モータ
ブラケット30には前記検出板34のスリ7)34aを
検出する2個のホトセンサー35.36が固定されてい
る。
従って、モータ31を回転させると、ブロック32、ロ
ーラ33を介してローラ29、輌28及び調整レバー2
7がステージ支持軸5の軸心を中心として回動し、ステ
ージ支持軸5が回動させられ、ペレット25の回転方向
の位置を補正することができる。
そこで、接合動作は、ボンドステージ7にペレット25
が図示しない手段で載置されると、吸着孔7aが真空引
きされてペレット25はボンドステージ7に保持される
。そして、ペレット25の位置が図示しないカメラで検
出され1図示しないフィルムキャリアに設けられたり一
ド40に対するペレット25の回転方向の位置が前記し
たようにモータ31が回転させられて補正される。また
XYテーブル1がXY力方向駆動され、リード40に対
するペレット25のXY力方向位置が補正される。次に
図示しない駆動手段で上下動及びXY力方向移動させら
れるツール41が下降させられ、またエアシリンダ18
が作動して前記のようにボンドステージ7が上昇してリ
ード40をペレット25のバンプに接合する。その後ツ
ール41は」二昇、ボンドステージ7は下降する。
次に本発【J′Nの特徴とするツールクリーニング機構
について説明する。前記上下動ブロック4は前記ステー
ジ支持軸5の側方にクリーニング部4aを右し、このク
リーニング部4a上にはクリーニング台50が固定され
ている。クリーニング台50上には、例えばシリコンカ
ーバイトのような粒度の粗い粗砥石51と、例えばセラ
ミックのようにれ度の細かい仕上砥石52と、ワイヤブ
ラシ53とが固定されている。またクリーニング部4a
の下面に対応して前記xYテーブルl上にはシリンダ5
4が固定されている。
前記粗砥石51、仕上砥石52.ワイヤブラシ53の上
方には周囲が密閉された吸引路60aを有するダクト6
0が配設されている。ダクト60には、ツール41の先
端側が挿入されるように貫通したツール挿入穴60bと
、吸引路60aに建通した開口穴60cとが形成されて
いる。開口穴60cの部分には連結ブロック61を介し
てホース接続用バイブロ2が固定されており、ホース接
続用バイブロ2は図示しないドレンホースを介して真空
装置に接続されている。前記ダクト60はダクト支持板
63に固定されており、ダクト支持板63はグロスロー
ラ64を介して固定板65に上下動自在に設けられてい
る。そして、ダクト支持板63はスプリング66で上方
に付勢されている。またダクト支持板63は前記支持ブ
ロック2に固定されている。
次に作用について説明する。前記したようにフィルムキ
ャリアのリード40をペレット25のバンプに接合する
動作を一定回数行った後、ツール41をダクト60のツ
ール挿入穴60bの上方に位置させ、またxYテーブル
lを駆動して粗砥石51を前記ツール挿入穴60bの下
方に位置させる0次にシリンダ54が作動して上下動ブ
ロック4のクリーニング部4aをわずかに押上げる。ま
たツール41が下降してツール41の下端は粗砥石51
に当接する。このツール41が下降する時に、ツール4
1を保持しているツールホルダ42によってダクト支持
板63、即ちダクト60は押し下げられ、ダクト60の
下面は粗砥石51とわずかな隙間を保つ、この状態でx
YテーブルlがXY力方向一定時間往復駆動され、ツー
ル41の下面に付着している酸化物の目詰りを防ぐ。
次にツール41は上昇し、またXYテーブル1が駆動さ
れて仕上砥石52がツール挿入穴60bの下方に位置さ
せられる。そして、再びツール41が下降させられ、前
記したと同様にXYテーブル1がXY力方向一定時間往
復駆動され、ツール41の下面の仕上げクリーニングが
行われる。その後、再びツール41は上昇、XYテーブ
ルlが駆動されてワイヤブラシ53がツール挿入穴60
bの下方に位置され、そしてツール41が下降させられ
る。モしてXYテーブル1がxY力方向一定時間往復駆
動され、前記して粗砥石51及び仕」二砥石52のクリ
ーニングによってツール41の側面及び下面に付着した
酸化物が除去される。その後、ツール41は上昇及びx
Y力方向駆動されてポンディングステーションの上方に
位置させられる。またシリンダ54の作動ロッドが引込
み、上下動ブロック4は下降させられ、またxYテ−プ
ル1が駆動してボンドステージ7はポンディングステー
ションに位置させられる。
ところで、前記のように粗砥石51.仕上砥石52、ワ
イヤブラシ53で除去された異物の粉塵は、ダク)60
によって吸引されるので、粉塵の飛散が防止される。こ
の場合、ダクト60はツール41の周りをかこっている
ので、粉塵は有効にダクト60によって吸引される。
なお、上記実施例は、クリーニング部4aは上下動ブロ
ック4に設けたが、クリーニング部4aは上下動ブロー
2り4と別体で構成し、前記XYテーブルlと別のXY
テーブルで駆動するようにしてもよい、また上記実施M
 jf 、内部リード接合に適用した場合について説明
したが、外部リード接合、転写バンプ接合等にも同様に
適用できることはいうまでもない、また砥石として、粗
砥石51と仕上砥石52を2個設けたが、この外に中間
砥石を追加して設けてもよい。
[発明の効果1 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、クリ
ーニング部材は、少なくとも粗砥石と仕上砥石とワイヤ
ブラシとよりなるので、ツールに付着した酸化物等の異
物を完全に取り除くことができる。また安定したポンデ
ィングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示す一部断面正面図、第2
図は第1図の平面図、第3図は第1図のA−A線断面図
である。 4:上下動ブロック、 4a:クリーニング部。 5:ステージ支持軸、  7:ボンドステージ、25:
ペレット、    40:リード。 41:ツール、    50:クリーニング台、51:
Jll砥石、     52:仕上砥石。 53:ワイヤブラシ。 /

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)バンプ等を位置決め載置するボンドステージと、
    フィルムキャリアのリードとバンプとを圧着させるツー
    ルと、前記ボンドステージの近傍に設けられ、ボンドス
    テージツールをクリーニングするクリーニング部材とを
    備えたボンダにおいて、前記クリーニング部材は、少な
    くとも粗砥石と仕上砥石とワイヤブラシとよりなること
    を特徴とするボンダ用ツールクリーニング機構。
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Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5205460A (en) * 1991-05-20 1993-04-27 Kabushiki Kaisha Shinkawa Bonding apparatus
JP2009130033A (ja) * 2007-11-21 2009-06-11 Nidec Tosok Corp ボンディング装置

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