JPH0330504A - Field effect transistor - Google Patents

Field effect transistor

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JPH0330504A
JPH0330504A JP16615089A JP16615089A JPH0330504A JP H0330504 A JPH0330504 A JP H0330504A JP 16615089 A JP16615089 A JP 16615089A JP 16615089 A JP16615089 A JP 16615089A JP H0330504 A JPH0330504 A JP H0330504A
Authority
JP
Japan
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inductance
capacity
source
electrode
capacitor
Prior art date
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Pending
Application number
JP16615089A
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Japanese (ja)
Inventor
Osamu Shiozaki
修 塩崎
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0330504A publication Critical patent/JPH0330504A/en
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Abstract

PURPOSE:To effectively decrease the output capacity or input capacity of a transistor and to improve high frequency performance by providing an inductance, which is formed by fine metallized patterns, and a capacitor, which is equipped with a certain fixed area and formed by metallized patterns connected to the fine metallize patterns, between a source electrode and a drain electrode. CONSTITUTION:Between a drain electrode 1 and a source electrode 2, an inductance 4 formed by the fine metallized patterns and a capacitor 5 formed by the metallized patterns having a certain fixed area and connecting to the above mentioned fine metallized patterns are equipped. When the capacity between the drain and source (output capacity) is defined as Cds, the value of the inductance 4 is defined as L and the capacity of the capacitor 5 is defined as Co, parallel resonance is made occur at the time of an operational frequency omegaby incorporating the inductance 4 so that the condition of (LCds)<-1/2> can be almost established for the angular frequency omega. Then, the capacity Cds between the drain and source (output capacity) is widely reduced practically and the high frequency performance is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電界効果トランジスタのチップの構造に利用さ
れ、特に、ソース接地で使用される高周波高出力用の電
界効果トランジスタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is utilized in the structure of a field effect transistor chip, and particularly relates to a high frequency, high power field effect transistor used with a common source.

〔概要〕〔overview〕

本発明は、電界効果トランジスタにおいて、ソース電極
とドレイン電極またはゲート電極間に、細いメタライズ
パターンからなるインダクタンスと、このインダクタン
スに接続されたある一定の面積を持つメタライズパター
ンからなるコンデンサとを設けることにより、 実効的にトランジスタの出力容量およびまたは入力容量
を減少させ、高周波性能を向上させたものである。
The present invention provides a field effect transistor in which an inductance made of a thin metallized pattern is provided between a source electrode and a drain electrode or a gate electrode, and a capacitor made of a metallized pattern having a certain area connected to this inductance. , which effectively reduces the output capacitance and/or input capacitance of the transistor and improves high frequency performance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の電界効果トランジスタのチップでは、ド
レイン電極、ゲート電極およびソース電極は、各々平面
的に分離された配置に設けられている構造になっていた
Conventionally, this type of field effect transistor chip has a structure in which a drain electrode, a gate electrode, and a source electrode are each provided in a planarly separated arrangement.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

前述した従来の電界効果トランジスタのチップにおいて
は、ゲート−ソース間合1c9.およびドレイン−ソー
ス間合1cdsが、それぞれ入力側および出力側に接続
されるため、高周波で動作する場合、入力および出力側
インピーダンスが小さくなり、また、周波数の変動に対
して位相差が大きくなるため、外部整合回路との整合性
が不十分となり、高周波性能の低下をひきおこす欠点が
ある。
In the conventional field effect transistor chip described above, the gate-source distance is 1c9. and drain-source distance of 1 cds are connected to the input and output sides, respectively, so when operating at high frequencies, the input and output side impedances become small, and the phase difference increases with frequency fluctuations. However, there is a drawback that the matching with the external matching circuit becomes insufficient, causing a decline in high frequency performance.

本発明の目的は、前記の欠点を除去することにより、高
周波性能の向上を図ったチップ構造を有する電界効果ト
ランジスタを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a field effect transistor having a chip structure that improves high frequency performance by eliminating the above-mentioned drawbacks.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極
を備えた電界効果トランジスタに右いて、細いメタライ
ズパターンにより形成されたインダクタンスと、ある一
定の面積を持ち前記細いメタライズパターンに接続され
たメタライズパターンにより形成されたコンデンサとを
、前記ソース電極とドレイン電極間に設けたことを特徴
とする。
The present invention relates to a field effect transistor having a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode, and includes an inductance formed by a thin metallized pattern and a metallized pattern having a certain area and connected to the thin metallized pattern. A capacitor is provided between the source electrode and the drain electrode.

また、本発明は、ソース電極、ドレイン電極およびゲー
ト電極を備えた電界効果トランジスタにおいて、細いメ
タライズパターンにより形成されたインダクタンスと、
ある一定の面積を持ち前記細いメタライズパターンに接
続されたメタライズパターンにより形成されたコンデン
サとを、前記ソース電極と前記ゲート電極間に設けたこ
とを特徴とする。
The present invention also provides a field effect transistor including a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode, including an inductance formed by a thin metallized pattern,
A capacitor having a certain area and formed by a metallized pattern connected to the thin metallized pattern is provided between the source electrode and the gate electrode.

〔作用〕[Effect]

ドレイン電極とソース電極とが互いにインダクタンスと
直流阻止用のコンデンサによって接続され、ドレイン−
ソース間容量Cd%と前記インダクタンスとが高周波動
作時に、その周波数にて並列共振することにより実効的
にドレイン−ソース間容量Cd、 (出力容量)が低減
される。また、同じく、ゲート電極とソース電極とが互
いにインダクタンスと直流阻止用のコンデンサによって
接続され、ゲート−ソース間容量Cgsと前記インダク
タンスとが高周波動作時にその周波数にて並列共振する
ことにより、実効的にゲート−ソース間容量C9−(入
力容量)が低減される。
The drain electrode and the source electrode are connected to each other by an inductance and a DC blocking capacitor, and the drain
When the source capacitance Cd% and the inductance resonate in parallel at that frequency during high frequency operation, the drain-source capacitance Cd, (output capacitance) is effectively reduced. Similarly, the gate electrode and the source electrode are connected to each other by an inductance and a DC blocking capacitor, and the gate-source capacitance Cgs and the inductance resonate in parallel at that frequency during high frequency operation, so that the effective Gate-source capacitance C9- (input capacitance) is reduced.

従って、高周波性能の向上を図ることが可能となる。Therefore, it is possible to improve high frequency performance.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図(a)は本発明の第一実施例の要部を示す平面図
、右よび第1図b〕はその等価回路図である。
FIG. 1(a) is a plan view showing essential parts of a first embodiment of the present invention, and FIG. 1(a) and FIG. 1(b) are equivalent circuit diagrams thereof.

本第−実施例は、ドレイン電極1、ソース電極2および
ゲート電極3を備えた電界効果トランジスタにおいて、 本発明の特徴とするところの、細いメタライズパターン
により形成されたインダクタンス4と、ある一定の面積
を持ち前記細いメタライズパターンに接続されたメタラ
イズパターンにより形成されるコンデンサ5とが、ドレ
イン電極lとソース電極2との間に設けられている。
The present embodiment describes a field effect transistor having a drain electrode 1, a source electrode 2, and a gate electrode 3, and an inductance 4 formed by a thin metallized pattern, which is a feature of the present invention, and an inductance having a certain area. A capacitor 5 is provided between the drain electrode l and the source electrode 2. The capacitor 5 is formed by a metallized pattern connected to the thin metallized pattern.

次に、本第−実施例の動作について説明する。Next, the operation of the present embodiment will be explained.

第1図ら)に示すように、ドレイン−ソース間容量(出
力容量)をCdsとし、インダクタンス4の値をし、コ
ンデンサ5の容lを00とする、そして、角周波数をω
として、 ωL>> ωC0 のようにC8を選ぶ、 が成立するようにインダクタンス4を作り込めば、動作
周波数ωのとき並列共振を起こし、実質的にドレイン−
ソース間容量(出力容量)C4,は大幅に低減され、高
周波性能が向上される。
As shown in Figure 1, the drain-source capacitance (output capacitance) is Cds, the inductance is 4, the capacitance l of the capacitor 5 is 00, and the angular frequency is ω.
If C8 is selected such that ωL>> ωC0, and if the inductance 4 is created so that
The inter-source capacitance (output capacitance) C4 is significantly reduced and high frequency performance is improved.

第2図(a)は本発明の第二実施例の要部を示す平面図
および第2図ら)はその等価回路図である。
FIG. 2(a) is a plan view showing essential parts of a second embodiment of the present invention, and FIG. 2(a) is an equivalent circuit diagram thereof.

本第二実施例は、インダクタンス4aとコンデンサ5a
とをソース電極2とゲート電極3との間に設けたもので
ある。第一実施例の場合と同様にして、ゲート−ソース
間容量C9%(人力容量)とインダクタンス4aとが動
作周波数において並列共振することによって、電界効果
トランジスタの人力容量を実効的に減少させ、高周波特
性の向上を図ることができる。
The second embodiment has an inductance 4a and a capacitor 5a.
is provided between the source electrode 2 and the gate electrode 3. As in the case of the first embodiment, the gate-source capacitance C9% (manpower capacitance) and the inductance 4a resonate in parallel at the operating frequency, thereby effectively reducing the manpower capacitance of the field effect transistor, and It is possible to improve the characteristics.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明は、電界効果トランジスタ
のチップにおいて、ソース電極とドレイン電極またはソ
ース電極間にインダクタンスと直流阻止のコンデンサと
を付加することによって、電界効果トランジスタ出力容
量または人力容量を実効的に減少させ、高周波性能を向
上させる効果がある。
As explained above, the present invention effectively increases the field effect transistor output capacitance or human power capacitance by adding an inductance and a DC blocking capacitor between the source electrode and the drain electrode or source electrode in the field effect transistor chip. This has the effect of reducing the energy consumption and improving high frequency performance.

1・・・ドレイン電極、2・・・ソース電極、3・・・
ゲート電極、4.4a・・・インダクタンス、5.5a
・・・コンデンサ。
1...Drain electrode, 2...Source electrode, 3...
Gate electrode, 4.4a...Inductance, 5.5a
...Capacitor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極を備え
た電界効果トランジスタにおいて、 細いメタライズパターンにより形成されたインダクタン
スと、ある一定の面積を持ち前記細いメタライズパター
ンに接続されたメタライズパターンにより形成されたコ
ンデンサとを、前記ソース電極とドレイン電極間に設け
た ことを特徴とする電界効果トランジスタ。 2、ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極を備え
た電界効果トランジスタにおいて、 細いメタライズパターンにより形成されたインダクタン
スと、ある一定の面積を持ち前記細いメタライズパター
ンに接続されたメタライズパターンにより形成されたコ
ンデンサとを、前記ソース電極と前記ゲート電極間に設
けた  ことを特徴とする電界効果トランジスタ。
[Claims] 1. In a field effect transistor comprising a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode, an inductance formed by a thin metallized pattern, and a metallized pattern having a certain area and connected to the thin metallized pattern. A field effect transistor characterized in that a capacitor formed by the above is provided between the source electrode and the drain electrode. 2. In a field effect transistor equipped with a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode, an inductance formed by a thin metallized pattern, and a capacitor formed by a metallized pattern having a certain area and connected to the thin metallized pattern. is provided between the source electrode and the gate electrode. A field effect transistor.
JP16615089A 1989-06-27 1989-06-27 Field effect transistor Pending JPH0330504A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013213153A1 (en) 2012-07-19 2014-02-20 Panasonic Corp. Image transmission device, image transmission method, image transmission program, image recognition and authentication system and image receiving device
JP2017169168A (en) * 2016-03-18 2017-09-21 三菱電機株式会社 Power amplifier
WO2022224354A1 (en) * 2021-04-20 2022-10-27 三菱電機株式会社 Semiconductor device

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