JPH03296478A - 超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄装置

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JPH03296478A
JPH03296478A JP9976890A JP9976890A JPH03296478A JP H03296478 A JPH03296478 A JP H03296478A JP 9976890 A JP9976890 A JP 9976890A JP 9976890 A JP9976890 A JP 9976890A JP H03296478 A JPH03296478 A JP H03296478A
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JP
Japan
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cleaning
carrier
cleaning tank
traverse mechanism
movable parts
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JP9976890A
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Junji Haneda
羽田 純司
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HANEDA SEISAKUSHO KK
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HANEDA SEISAKUSHO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば電子機器や精密機器等の洗浄工程で利
用され、洗浄室内の空気清浄度を高めて洗浄能力の向上
を図った超音波洗浄装置に関6tsZJ−〔従来の技術
〕 従来、電子機器や精密機器等の製造工程には、各種パー
ツの清浄化を行う洗浄工程があり、この工程では各種洗
浄液が満たされた洗浄槽内にワークを浸漬し、液中で起
こした超音波振動で発生するキャビテーション現象によ
ってワーク表面から不純物を遊離させて清浄化を行うよ
うにしている。
上記洗浄工程では、密閉構造の洗浄室内に有機溶剤を満
たした多数の洗浄槽を並置し、この室内でキャリアや搬
送手段を利用して完全自動による洗浄を実現した超音波
洗浄装置が使用されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記超音波洗浄装置における搬送手段は、キャリアやワ
ークの洗浄槽内外での昇降動並に各洗浄槽間を順送りす
る水平移送を行うものであり、複雑な動作を実現するた
めに大型化したものを洗浄槽の真上に配設している。
ところで、半導体部品は最近の超LSI化の傾向で、洗
浄工程において超清浄空気雰囲気下での洗浄が要求され
ている。しかし、洗浄槽の真上に大型の搬送手段を配設
する現状の装置では、微細な金属屑等の塵埃の発生源と
して作用する可動部分が洗浄槽の真上に位置しているこ
とになり、前述するような塵埃が洗浄室内に浮遊して空
気洗浄度を低下させたり、洗浄槽内に落下して洗浄液中
の不純物含有量を増加させる。その結果、洗浄室内のキ
ャリアの移送時に塵埃がワークに付着したり、キャリア
の洗浄槽内からの引上げ時に液中の不純物がワークに付
着して洗浄効果を著しく阻害するといった問題点があっ
た。
[課題を解決するための手段] 本発明は、多数の洗浄槽を一連に並置し、天井にHEP
Aフィルタを配した洗浄室と、下端にトレーを固着した
逆U字状の揺動アームと、揺動アームを上記洗浄槽内外
で上下動させる昇降機構と、上記揺動アームを停止させ
る高さ位置を切換えるクラッチ機構と、被洗浄物を収容
したキャリアを保持して水平移送するトラバース機構と
を備えてなることを特徴とする超音波洗浄装置を提供す
ることにより上記問題点を解決するものである。
〔作用〕
上記揺動アームによってキャリアの洗浄槽への引降し、
洗浄槽からの引上げを実現し、上記トラバース機構によ
ってキャリアの水平移送を実現する。また、揺動アーム
を停止させる高さ位置は、キャリアを高い隔壁を乗越え
て水平移送させた場合と、単に同一高さでもって水平移
送させた場合とでは異なっており、この切換えはクラッ
チ機構により行われる。
従って、従来の搬送手段は、揺動アームとトラバース機
構との分割構成とし、特にトラバース機構の可動部分の
大部分を洗浄槽の側方に配して、洗浄槽真上に配設する
可動部分を極力少くする。
そして、余裕のできた上方の空間である天井にHEPA
フィルタを配して、洗浄室内にクリーンエアをダウンフ
ローする。
〔実施例)・。
本発明に係る超音波洗浄装置の実施例を第1図乃至第2
1図を参照しながら説明する。
第1図乃至第3図は超音波洗浄装置の正面図、平面図、
側面図を示している。同図において、(1)は密閉構造
の洗浄室、(2)(2)・・・は−連に並置された洗浄
槽、(3)(3)・・・は天井に配したHEPAフィル
タである。(4)は逆U字状の調整して、不必要な外気
の侵入を防ぎ室内を高い空気清浄度に保持している。
上記洗浄槽(2)(2)・・・には有機溶剤等の各種洗
浄液(19)を貯溜してあり、これらの洗浄液−m−■
■■ 付けたトレー、(6)は揺動アーム (4)を上下動さ
せる昇降機構、(7)は多数のワーク〔図(2a)によ
り回りを囲い、更に種類の異なる洗浄液を貯溜した隣合
う洗浄槽(2)(2)間には隔を固着し、他端を昇降機
構(6)に連結しである。
上記トレー(5)は、第4図に示すように、矩形状の枠
本体(5a)の4隅部に凹部(5b)  (5b)・・
・を形成したものであり、同図に示すように、矩形状の
枠本体(7a)の底に網体(7b)を固着し、棒材を折
曲した引掛部(7c)  (7c)を枠本体(7a)の
両側方に設けたキャリア(7)の底部4隅を前記四部(
5b)  (5b)に係合させて、トレー(5)上での
キャリア(7)の位置ずれを防止して、キャリア(7)
を安定した状態で載置する。
上記昇降機構(6)を第5図乃至第10図を参照して以
下説明する。同図に示す昇降機構(6)において、(2
3)  (23)・・・は各洗浄槽(2)並に搬入、搬
出コンベア(10)  (11)に対応して、仕切壁(
18)を介した裏側に2本一対で垂設したガイドロッド
、(24)  (24)  (25)  (25)はガ
イドロッド(23)  (23)に摺動自在に装着した
スライド部材で、2個宛が上下で対をなす。(26) 
 (27)はスライド部材(24)又は(25)同志を
連結一体化する上、下プレート材で、洗浄槽側の上、下
プレート材(26)  (27)を揺動アーム(4)の
他端に連結一体化する。(28)  (28)・・・は
下プレート材(26)に固着したロー乞 (29)  
(30)は洗浄室(1)の両側に垂設したガイドロッド
(31)(31)にスライド部材(32)  (32)
・・・を介して摺動自在に装着された2本一対の上、下
昇降パーで、チェーン(33)  (33)を介して連
結した駆動源〔図示せず〕により昇降動させる。(34
)  (34)・・・は上昇降バー(29)に固着した
上フツク部材、(35)  (35)・・・は下昇降バ
ー(30)に、更に下方に延ばして固着した鉤状の下フ
ツク部材、(36)は前記上プレート材(26)に固着
され、上フツク部材(34)と係合する第1のフック部
材、(37)は前記上プレート材(26)に固着され、
下フツク部材(35)と係合する第2のフック部材であ
る。
(38)は揺動機構で、回転軸(39)に定ピツチで偏
心カム(40)  (40)・・・を取付けである。前
記偏心カム(40)にローラ(28)を当接させた状態
で回転軸(39)を回転させれば、揺動アーム(4)が
一定のストロークで上下動する。
また、揺動アーム(4)は、対応するコンベアCl0)
  (11) ヤ洗浄!(2Nmよって停止させる高さ
位置のパターンが異なっている。揺動アーム(4)の停
止位置には、洗浄液中の最下部、側壁(2a)から更に
上方の最上部、最下部と最上部間の中間部とがあり、最
下部と最上部間を往復動するCパターンと、最下部と中
間部間を往復動する[F]パターンと、最下部と最上部
間の往復動と最下部と中間部間の往復動が切換わるC、
ツバターンとがある。へパターンは、第5図6及び第6
図に示すように、上フツク部材(34)と第1のフック
部材(36)との保合により実現される。3パターンは
、第5図C及び第7図に示すように、下フツク部材(3
4)と第2のフック部材(37)との保合により実現さ
れる。Cパターンは、第5図C及び第8図に示すように
、Cパターンから6パターンへクラッチ機構(8)によ
り切換えられる。[F]パターンは、第5図[F]及び
第9図に示すように、CパターンからCパターンへクラ
ッチ機構(8)により切換えられる。
上記クラッチ機構(8)を第5図、第8図、第9図及び
第10図を参照して以下説明する。同図に示すクラッチ
機構(8)において、(41)  (42)は上、下昇
降バー(29)  (30)の夫々に配設されたガイド
ロッド、(43)  (44)はガイドロッド(41)
  (42)に装着された摺動自在なスライド部材、(
45)  (45)はスライド部材 (43)  (4
4)を連結一体化するプレート材で、上昇陣バー(29
)の上フツク部材(34)と同一のフック部材を固着す
る。(46)はプレート材(45)  (45)同志を
連結する連結部材で、この連結部材(46)によってク
ラッチ機構(8)(8)・・・の同時切換えを行う。第
5図0.0は、スライド部材(43)  (44)の左
寄りの状態を示しており、■では上フツク部材(34)
と第1のフック部材(36)との保合により、最下部と
最上部間の往復動を実現する。また、0では下フツク部
材(34)と第2のフック部材(36)との保合により
、最下部と中間部間の往復動を実現する。第6図0.0
はスライド部材(34)を横移動させた右寄りの状態を
示しており、0では下フツク部材(34)と第2のフッ
ク部材(36)との係合により、最下部と中間部間の往
復動を実現し、■では上フツク部材(34)と第1のフ
ック部材(36)との係合により、最下部と最上部間の
往復動を実現する。
上記トラバース機構(9)を第11図乃至第13図を参
照して以下説明する。同図に示すトラバース機構(9)
において、(47)は長尺な基台で、並設した2本のガ
イドロッド(48)  (48)にスライダー(49)
  (49)・・・を介して水平動自在に配設される。
(50)  (50)は基台(47)上に横架した2本
のガイドロッド、(51)  (51)・・・はガイド
ロッド(50)  (50)に装着された多数個のスラ
イド部材、(52)  (52)・・・は2個一対のス
ライド部材(51)  (51)上に固着されたプレー
ト材、(53a)(53a)・・・は洗浄槽(2)上に
真直延びた2本−対の腕部材で、最上部でキャリア(7
)の引掛部(7c)  (7c)を保持する。(53b
)(53b)、、、は折曲加工されて洗浄槽(2)上に
延びた2本一対の腕部材で、中間部でキャリア(7)の
引掛部(7c)  (7c)を保持する。  (54)
  (55)はスライド部材(51)  (51)を−
偏置に定ピツチで連結して同期摺動させる第1、第2の
連結部材、(56)は前記第1、第2の連結部材(54
)  (55)を相互に逆方向に移動させる駆動手段で
、駆動源として正逆転可能なモータ(57)と、モータ
(57)の出力軸に取付けたビニオン(58)と、第1
、第2の連結部材(54)  (55)によって連結さ
れた夫々のスライド部材(51)  (51)・・・群
の一個にブラケット(59)  (59)を介して取付
けられ、前記ピニオン(58)と噛合するラック(60
)  (60)とで構成する。従って、モータ(57)
の正逆転により夫々のスライド部材(51)  (51
)・・・群は互いに逆方向に移動し、隣合う腕部材(5
3a )  (53a )又は(53b)(53b)の
近接、離隔が行われる。前記近接時にキャリア(7)と
保持し、離隔時にキャリア(7)を開放する。
上記トラバース機構(9)は、第11図に示すように、
腕部材(53a)(53a)(53b)(53b)を近
接してキャリア(7)を保持した状態で、基台(47)
を水平動させてキャリア(7)を各洗浄槽(2)に順送
りする。また、第12図に示すように、腕部材(53a
)(53a)(53b)(53b)を離隔してキャリア
(7)を開放し、揺動アーム(4)によりキャリア(7
)を洗浄槽(2)内に降下させる。
次に上記構成の超音波洗浄装置(1)の動作例を第14
図乃至第21図を参照して以下説明する。第14図は、
トレー(5)上に載置したキャリア(7)を洗浄流体中
で上下に揺動させるために、各洗浄槽(2)(2)・・
・に対応する揺動アーム(4)(4)・・・を最下部に
、両コンベア(10)  (11)に対応する揺動アー
ム(4)(4)を中間部に停止させた状態を示しており
、腕部材(53a )  (53a )(53b)(5
3b)・・・は開いている。第15図は、キャリア(7
)の引上げ時を示しており、側壁(2a)又は隔壁(2
b)を乗越えて横送りするキャリア(7)は揺動アーム
を最上部に、単に水平横送りするキャリア(7)は揺動
アーム(4)を中間部に停止させる。続いて、第16図
に示すように、腕部材(53a )  (53a ) 
 (53b )  (53b ) −を閉じてキャリア
(7)を保持する。そして、第17図に示すように、揺
動アーム(4)(4)・・・を−旦降下させる。次で、
第18図に示すように、キャリア(7)(7)・・・を
水平方向に順送りする。そして、第19図に示すように
、揺動アーム(4)(4)・・・を上昇させてトレー(
5)(5)・・・上にキャリア(7)(7)・・・を載
置する。この時、揺動アーム(4)を停止させる高さ位
置が異なるものは、フランチ機構により同時に切換えが
行われる。続いて、第20図に示すように、腕部材(5
3a )  (53a )(53b)(53b)・・・
を開いてキャリア(7)(7)・・・を開放する。そし
て、第21図に示すように、揺動アーム(4)(4)・
・・を降下させてキャリア(7)(7)・・・を洗浄流
体中で上下に揺動させる。上記第14図から第21図の
動作を繰返すことにより、キャリア(7)(7)・・・
が搬入コンベア(10)から各洗浄槽(2)(2)・・
・を経て搬出コンベア(11)まで順次移送されて行く
〔発明の効果〕
本発明に係る超音波洗浄装置によれば、キャリアの搬送
手段を、昇降機構に連結した揺動アームとトラバース機
構との分割構成として、洗浄室内の空気清浄度を低下さ
せたり、洗浄液中の不純物濃度を増加させる塵埃の発塵
源として作用する可動部分を洗浄槽の真上では極力少く
する。更に、余裕のできた洗浄槽上方の空間である天井
にHEPAフィルタを配して、洗浄室内にクリーンエア
をダウンフローする。従って、洗浄室内は高い空気清浄
度に維持されると共に、洗浄液も効率の良い洗浄効果を
発揮することができ、被洗浄物の清浄度を著しく向上さ
せ得る洗浄能力の高い装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明に係る超音波洗浄装置の概略
正面図、平面図及び側面図、第4図はトレー及びキャリ
アの斜視図、第5図及び第10図は昇降機構及びクラッ
チ機構の要部背面図、第6図乃至第9図は第5図のA−
A線、B−B線、C−C線、D−D線矢視図、第11図
及び第12図はトラバース機構の要部平面図、第13図
は第11図の側面図、第14図乃至第21図は本発明装
置の動作を説明するための各状態での概略正面図である
。 (1”) −洗浄室、    (2) −洗浄槽、(3
) −HEP八フへルり、 (4) −揺動アーム、(
5)−・トレー    (6) −昇降機構、(7’)
 −キャリア、   (8) −クラッチ機構、(9)
 −)ラバース機構。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)多数の洗浄槽を一連に並置し、天井にHEPAフ
    ィルタを配した洗浄室と、 下端にトレーを固着した逆U字状の揺動アームと、 揺動アームを上記洗浄槽内外で上下動させる昇降機構と
    、 上記揺動アームを停止させる高さ位置を切換えるクラッ
    チ機構と、 被洗浄物を収容したキャリアを保持して水平移送するト
    ラバース機構とを備えてなることを特徴とする超音波洗
    浄装置。
JP2099768A 1990-04-16 1990-04-16 超音波洗浄装置 Expired - Lifetime JPH0696141B2 (ja)

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JPH0696141B2 JPH0696141B2 (ja) 1994-11-30

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