JPH03294802A - 偏光膜の形成方法 - Google Patents

偏光膜の形成方法

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JPH03294802A
JPH03294802A JP2096371A JP9637190A JPH03294802A JP H03294802 A JPH03294802 A JP H03294802A JP 2096371 A JP2096371 A JP 2096371A JP 9637190 A JP9637190 A JP 9637190A JP H03294802 A JPH03294802 A JP H03294802A
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JP
Japan
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photosensitive resin
polarizing
resin layers
iodine
polarizing film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2096371A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuzo Hayashi
祐三 林
Fumiaki Yamanashi
山梨 文明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH03294802A publication Critical patent/JPH03294802A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は偏光機能を有する偏光膜の形成方法に係り、特
に、液晶表示素子(以下、LCDと称する)に付設され
る偏光膜の形成方法に関する。
〔従来の技術〕
従来のLCDは第6図に示すように、上下のガラス基板
1.2の外表面、つまり透明電極3,4や配向膜5,6
が形成されている面とは逆側の面に、一対の偏向板7.
8が付設されている。これらの偏光板7.8は、シール
材9を介して両ガラス基板1.2を接合し、さらに液晶
10を封入して液晶セルを完成した後、この液晶セルの
前後両面に貼着される。
このようなLCD用偏光板は、ポリビニルアルコール等
からなる偏光基体を延伸して偏光要素としてのヨウ素や
二色性染料を染着せしめたH膜とも称される偏光膜を、
酢酸セルローズ等からなる一対の保護フィルムの間に挟
み込んだ構成になっており、一方の保護フィルムの外表
面に塗布された接着剤によってLCD基板への貼り付け
が行われる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記した従来の偏光板は、基板へ貼着す
る際にごみ等の異物や空気を巻き込みやすいので、LC
Dの表示品位を損なう虞れがあり、歩留まりを低下させ
る要因となっていた。
したがって本発明の目的とするところは、別体の偏光板
を貼着する必要のないLCD用偏光膜の形成方法を提供
することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上述した本発明の目的は、基板上に感光性樹脂層を設け
た後、この感光性樹脂層の表面にホログラフィック技術
による干渉露光および現像を施して無数の細溝を形成し
、これら細溝内に偏光要素としてのヨウ素または二色性
染料を配向・染着させることによって達成される。
〔作用〕
上記手段によれば、偏光要素を配向・染着した感光性樹
脂層が偏光膜として機能するので、別体の偏光板を基板
に貼着する工程が省略でき、異物や空気を巻き込む虞れ
がなくなる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る偏光膜を説明するため
のLCD断面図、第2図はその要部拡大図で、第6図と
対応する部分には同一符号が付しである。
第1.2図に示すLCDは、予め片面に透明電極3.4
や配向膜5,6を形成した上下のガラス基板1.2の他
面にそれぞれ、感光性ポリイミトヤ感光性ポリビニルア
ルコールからなる感光性樹脂層11が塗布形成されてい
て、各感光性樹脂層11の表面には無数の細溝11a内
に偏光要素としてのヨウ素12が配向・染着させてあり
、さらにアクリル系樹脂等からなる保護コート13が各
感光性樹脂層11の表面に塗布形成されていて、この保
護コート13の表面は平坦面となっている。
したがって、ヨウ素12を配向・染着した感光性樹脂層
11が偏光膜として機能し、これを保護コート13で保
護しつつ微細な凹凸平坦化した構造になっている。
このような偏向膜は、第3図に示すような光学系を用い
てホログラフィック技術により形成することができる。
すなわち、この光学系は、ArレーザやHe−Neレー
ザを発生する光源14のレーザ光をコリメータユニット
15を介してビームスプリッタ16に向けて照射し、ミ
ラー17での反射光とミラー18での反射光とが感光性
樹脂層11の表面で干渉縞を形成するように構成されて
おり、ビームスプリッタ16にて分光されたレーザ光の
干渉縞がホログラム面である感光性樹脂層11の表面に
露光されることから、これを現像して洗浄すると、第4
図に示すように、干渉縞に対応して互いに平行に延びる
無数の細溝11aが形成される。そしてこの後、ヨウ素
溶液を用いて感光性樹脂層11の表面にヨウ素12を染
着させると、ヨウ素12は細溝11aに沿って配向され
た状態になるので、ガラス基板1上に偏光膜が直接形成
されることになる。
なお、レーザ光の波長をλ、ミラー18のガラス基板1
に対する偏向角をθとすると、細溝11aのピッチはλ
/sin θとして設定できる。また、偏光要素として
ヨウ素の代わりに二色性染料を用いても良い。
こうしてガラス基板1または2上に直接偏光膜を形成し
たなら、この偏光膜を保護しつつ微細な凹凸を千穎化す
るために保護コート13を塗布形成し、しかる後、これ
らのガラス基板1.2を用いてセルを組み立て、液晶1
0を封入することにより、第1図に示す如きLCDが得
られる。
このように、上記実施例にあっては、ガラス基板上に直
接偏光膜が形成できるので、別体の偏光板を貼り付ける
必要がなく、よって貼着作業時に発生しやすい異物や空
気の巻き込みが起こらず、LCDの製造歩留まりを著し
く向上させることができる。
第5図は本発明の他の実施例に係る偏光膜を説明するた
めのLCD断面図であり、第1図と対応する部分には同
一符号が付しである。
第5図に示すLCDは、上下のガラス基板1゜2の対向
面となる側に偏光膜を設けた場合の例である。すなわち
、この実施例は、ガラス基板1または2上に塗布形成し
た感光性樹脂層11の表面に、前記実施例と同様のホロ
グラフィック技術を用いて無数の細溝を形成した後、偏
光要素としての二色性染料をこれら細溝内に配向・染着
させて偏光膜となし、さらにこの偏光膜上に順次、保護
コート13、透明電極3または4、配向膜5または6を
形成し、しかる後、これらのガラス基板1゜2を用いて
セルを組み立てたものである。したがって、別体の偏光
板を貼り付ける工程が省略できるのみならず、通常のL
CDではNa成分が液晶中へ溶出するのを防止するため
にガラス基板の透明電極形成面にアンダーコート層を設
けていたのに対し、この実施例では保護コート13にア
ンダーコート層としての機能が期待できることから別途
アンダーコート層を形成する必要もなくなる。
なお、上記実施例では偏光膜形成後に透明電極や配向膜
の焼成が行われる関係上、偏光要素として熱に弱いヨウ
素を用いることは好ましくない。
また、上記実施例ではガラス基板上に直接偏光膜を形成
しているが、透明電極をパターニングした後に偏光膜を
形成しても良い。
さらにまた、上述した各実施例ではいずれも、ガラス基
板を用いたLCDにおける偏光膜形成方法について説明
しているが、フィルム基板を用いたLCDの場合も、同
様のホログラフィック技術により偏光膜を形成すること
ができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、ホログラフィッ
ク技術を用いてヨウ素や二色性染料を配向・染着せしめ
た感光性樹脂層が偏光膜として機能するので、別体の偏
光板を基板に貼着する工程が省略できて異物や空気を巻
き込む虞れがなくなり、よってLCDの表示品位が損な
われず、歩留まり向上に寄与するところ大なるLCD用
偏光膜の形成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第4図は本発明の一実施例に係り、第1図
は偏光膜を説明するためのLCD断面図、第2図はその
要部拡大図、第3図は感光性樹脂層の表面をホログラム
面とする光学系の模式図、第4図はこの光学系を用いて
形成した細溝を示す説明図、第5図は本発明の他の実施
例に係る偏光膜を説明するためのLCD断面図、第6図
は従来の偏光板を説明するためのLCD断面図である。 1.2・・・・・・基板、11・・・・・・感光性樹脂
層、11a・・・・・・細溝、12・・・・・・ヨウ素
(偏光要素)、i3・・・・・・保護コート。 1/図 94図 箪2図 1i5図 jI6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  基板上に感光性樹脂層を設けた後、この感光性樹脂層
    の表面にホログラフィック技術による干渉露光および現
    像を施して無数の細溝を形成し、これら細溝内に偏光要
    素としてのヨウ素または二色性染料を配向・染着させる
    ことを特徴とする偏向膜の形成方法。
JP2096371A 1990-04-13 1990-04-13 偏光膜の形成方法 Pending JPH03294802A (ja)

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