JPH03294458A - 析出硬化型銅合金の溶体化処理方法 - Google Patents
析出硬化型銅合金の溶体化処理方法Info
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- JPH03294458A JPH03294458A JP9629890A JP9629890A JPH03294458A JP H03294458 A JPH03294458 A JP H03294458A JP 9629890 A JP9629890 A JP 9629890A JP 9629890 A JP9629890 A JP 9629890A JP H03294458 A JPH03294458 A JP H03294458A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、Cu−5i −N i−P系の析出硬化型銅
合金の溶体化処理方法に関する。
合金の溶体化処理方法に関する。
[従来の技術]
析出硬化型銅合金の時効硬化を充分に行うには、溶体化
処理によって析出に寄与する成分の固溶・均質化を行っ
た後に時効硬化処理を行う必要がある。このような時効
硬化処理の結果、析出相を銅器相中に微細に分布させる
ことができる。
処理によって析出に寄与する成分の固溶・均質化を行っ
た後に時効硬化処理を行う必要がある。このような時効
硬化処理の結果、析出相を銅器相中に微細に分布させる
ことができる。
しかし、溶体化処理で析出硬化型銅合金の冷却が遅いと
、銅合金母相中に析出硬化にあまり寄与しない析出相が
析出する。これは、溶体化処理時に析出硬化型銅合金母
相中に導入された空孔が、その析出を促進するからであ
る。析出硬化にあまり寄与しない析出相が析出した析出
硬化型銅合金は、時効硬化処理を行っても充分に強化で
きない。
、銅合金母相中に析出硬化にあまり寄与しない析出相が
析出する。これは、溶体化処理時に析出硬化型銅合金母
相中に導入された空孔が、その析出を促進するからであ
る。析出硬化にあまり寄与しない析出相が析出した析出
硬化型銅合金は、時効硬化処理を行っても充分に強化で
きない。
そこで、従来の析出硬化型銅合金の溶体化処理方法は、
溶体化処理の際に析出硬化型銅合金を1000℃/分程
度の冷却速度で急冷していた。
溶体化処理の際に析出硬化型銅合金を1000℃/分程
度の冷却速度で急冷していた。
なお、母相の単相化する温度まで加熱した押出加工前の
ビレット溶体化処理、熱間圧延前のケーク溶体化処理等
も溶体化処理の範鴫に包含される。
ビレット溶体化処理、熱間圧延前のケーク溶体化処理等
も溶体化処理の範鴫に包含される。
[発明が解決しようとする課Jl]
しかしながら、溶体化処理で析出硬化型銅合金を効率よ
く急冷するには、急冷処理の可能な溶体化処理設備が必
要である。このような溶体化処理設備は、大型であり、
設備価格も高い。しかも、従来の場合には、材料の熱容
量を小さくしなければならず、工業的な処理方法として
適さない問題があった。
く急冷するには、急冷処理の可能な溶体化処理設備が必
要である。このような溶体化処理設備は、大型であり、
設備価格も高い。しかも、従来の場合には、材料の熱容
量を小さくしなければならず、工業的な処理方法として
適さない問題があった。
本発明は、かかる事情を鑑みてなされたものであり、簡
易な設備で実施可能であり、しがも、最終の冷却工程中
に析出硬化に寄与しない析出相が析出するのを防止でき
る析出硬化型銅合金の溶体化処理方法を提供するもので
ある。
易な設備で実施可能であり、しがも、最終の冷却工程中
に析出硬化に寄与しない析出相が析出するのを防止でき
る析出硬化型銅合金の溶体化処理方法を提供するもので
ある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、Cuを主成分とし、析出硬化成分として0,
01〜5.0重量%のSi、0.7〜15.0重量%の
Ni、および0.005〜0.5重量%のPを含有する
析出硬化型銅合金を900〜1000℃の温度で10分
以上加熱してCuにSi、Ni、およびPを固溶させる
第1溶体化処理工程と、該第1溶体化処理後の銅合金を
所定の温度まで冷却する第1冷却工程と、該第1冷却工
程後の銅合金に前記第1溶体化処理の際の温度よりも低
い温度で、かつ、800〜900℃の温度で5分以上の
加熱を施してCuにSi、Ni1およびPを固溶させる
第2溶体化処理工程と、該第2溶体化処理後の銅合金を
5℃/分以上の冷却速度で冷却する第2冷却工程とを具
備することを特徴とする析出硬化型銅合金の溶体化処理
方法である。
01〜5.0重量%のSi、0.7〜15.0重量%の
Ni、および0.005〜0.5重量%のPを含有する
析出硬化型銅合金を900〜1000℃の温度で10分
以上加熱してCuにSi、Ni、およびPを固溶させる
第1溶体化処理工程と、該第1溶体化処理後の銅合金を
所定の温度まで冷却する第1冷却工程と、該第1冷却工
程後の銅合金に前記第1溶体化処理の際の温度よりも低
い温度で、かつ、800〜900℃の温度で5分以上の
加熱を施してCuにSi、Ni1およびPを固溶させる
第2溶体化処理工程と、該第2溶体化処理後の銅合金を
5℃/分以上の冷却速度で冷却する第2冷却工程とを具
備することを特徴とする析出硬化型銅合金の溶体化処理
方法である。
[作用]
本発明の析出硬化型銅合金の溶体化処理方法によれば、
まず、第1溶体化処理により、析出硬化に寄与する成分
である5iSNi、およびPが固溶化する。次に、これ
を所定温度まで冷却する。
まず、第1溶体化処理により、析出硬化に寄与する成分
である5iSNi、およびPが固溶化する。次に、これ
を所定温度まで冷却する。
次いで、冷却後の銅合金に第2溶体化処理を所定時間施
す。この第2溶体化処理の際に第1溶体化処理で析出硬
化型銅合金母相中に導入された空孔の濃度が減少する。
す。この第2溶体化処理の際に第1溶体化処理で析出硬
化型銅合金母相中に導入された空孔の濃度が減少する。
これにより、析出硬化型銅合金を急冷することなく、し
かも、最終の冷却工程で析出硬化に寄与しない析出相が
析出するのを抑えることができる。この結果、均質な過
飽和固溶体を得ることができ、時効処理の際に析出硬化
に寄与する成分を充分に析出させて、析出硬化型銅合金
を充分に強化できる。
かも、最終の冷却工程で析出硬化に寄与しない析出相が
析出するのを抑えることができる。この結果、均質な過
飽和固溶体を得ることができ、時効処理の際に析出硬化
に寄与する成分を充分に析出させて、析出硬化型銅合金
を充分に強化できる。
[実施例]
以下、本発明の析出硬化型銅合金の溶体化処理方法をそ
の工程順に説明する。
の工程順に説明する。
強化する析出硬化型銅合金は、Cu−5iNi −P系
のものである。
のものである。
Cu−5i−Ni−P系の析出硬化型銅合金は、Cuを
主成分とし、0.01〜5.0重量%のS i、0.7
’〜15.0重量% (7) N i 。
主成分とし、0.01〜5.0重量%のS i、0.7
’〜15.0重量% (7) N i 。
0.005〜0.5重量%のP1不可避不純物、および
必要に°応じて固溶強化成分を含有するものである。S
iの含有量が0.01重量%未満であると、充分に強化
された析出硬化型銅合金が得られない。また、Siの含
有量が5.0重−%を超えると、析出硬化型銅合金が溶
体化処理の際に過剰のSiを固溶化し、析出硬化型銅合
金結晶に歪みを発生させる。この歪みによって、析出硬
化型銅合金結晶に格子欠陥ができる。その結果、優れた
特性を有する析出硬化型銅合金を得ることができない。
必要に°応じて固溶強化成分を含有するものである。S
iの含有量が0.01重量%未満であると、充分に強化
された析出硬化型銅合金が得られない。また、Siの含
有量が5.0重−%を超えると、析出硬化型銅合金が溶
体化処理の際に過剰のSiを固溶化し、析出硬化型銅合
金結晶に歪みを発生させる。この歪みによって、析出硬
化型銅合金結晶に格子欠陥ができる。その結果、優れた
特性を有する析出硬化型銅合金を得ることができない。
また、Ni、Pの含有量の限定理由は、Siの場合と同
様である。
様である。
固溶強化成分は、時効硬化処理後も合金中に固溶して強
度向上に寄与する。このようなものとして、P、Al
、Sn、Zn、Mn5S iが挙げられる。また、固溶
強化成分の含有量は、SnおよびMnについては3重量
%以下、その他のものについては0.5重量%以下であ
ることが好ましい。
度向上に寄与する。このようなものとして、P、Al
、Sn、Zn、Mn5S iが挙げられる。また、固溶
強化成分の含有量は、SnおよびMnについては3重量
%以下、その他のものについては0.5重量%以下であ
ることが好ましい。
このような析出硬化型合金を次のように溶体化処理する
。
。
まず、析出硬化型銅合金に次のような加熱温度で10分
以上の第1溶体化処理を施す。第1溶体化処理の際の加
熱温度は、900〜1000’Cに設定する。第1溶体
化処理は、析出硬化型銅合金中の析出硬化に寄与する成
分を固溶させるためのものである。したがって、第1溶
体化処理の際の加熱温度は、析出硬化型銅合金の銅母相
が単相化する温度よりも高く、銅母相単相域で素材の酸
化や溶融等の劣化が起こらない範囲で、可能なかぎり高
く設定するのが好ましい。しかし、銅母相が、単相化す
る温度付近では、銅母相が均質化するまでに非常に長い
時間を要し、非能率的である。そこで、第1溶体化処理
の際の加熱温度は、銅母相が単相化する温度よりも少な
くとも50℃以上高く設定する方がよい。
以上の第1溶体化処理を施す。第1溶体化処理の際の加
熱温度は、900〜1000’Cに設定する。第1溶体
化処理は、析出硬化型銅合金中の析出硬化に寄与する成
分を固溶させるためのものである。したがって、第1溶
体化処理の際の加熱温度は、析出硬化型銅合金の銅母相
が単相化する温度よりも高く、銅母相単相域で素材の酸
化や溶融等の劣化が起こらない範囲で、可能なかぎり高
く設定するのが好ましい。しかし、銅母相が、単相化す
る温度付近では、銅母相が均質化するまでに非常に長い
時間を要し、非能率的である。そこで、第1溶体化処理
の際の加熱温度は、銅母相が単相化する温度よりも少な
くとも50℃以上高く設定する方がよい。
また、第1溶体化処理の時間は、析出硬化型銅合金中に
析出硬化に寄与する成分が均質に固溶するに充分な時間
に設定する。この第1溶体化処理時間は、具体的には1
0分以上に設定するのが望ましい。
析出硬化に寄与する成分が均質に固溶するに充分な時間
に設定する。この第1溶体化処理時間は、具体的には1
0分以上に設定するのが望ましい。
次に、第1溶体化処理後め析出硬化型銅合金を第2溶体
化処理を行う際の温度まで冷却する。次いで、析出硬化
型銅合金に第2溶体化処理を所定時間施す。なお、第1
溶体化処理後の析出硬化型銅合金を第2溶体化処理の温
度まで冷却するときの冷却速度は、工業的に問題がなけ
れば、どのような冷却速度に保持してもさしつかえない
。
化処理を行う際の温度まで冷却する。次いで、析出硬化
型銅合金に第2溶体化処理を所定時間施す。なお、第1
溶体化処理後の析出硬化型銅合金を第2溶体化処理の温
度まで冷却するときの冷却速度は、工業的に問題がなけ
れば、どのような冷却速度に保持してもさしつかえない
。
また、第2溶体化処理の際の加熱温度は、800〜90
0℃に設定する。
0℃に設定する。
第2溶体化処理は、第1溶体化処理によって析出硬化型
銅合金母相中に導入された空孔を減少させるためのもの
である。銅合金母相中の空孔濃度が高いと、冷却工程の
際に析出する成分元素の拡散が活発になる。また、空孔
自体が核生成サイトを形成して析出硬化に寄与しない析
出相を増加させる。そこで、第2溶体化処理によって空
孔密度を減少させて、平衡空孔濃度にするものである。
銅合金母相中に導入された空孔を減少させるためのもの
である。銅合金母相中の空孔濃度が高いと、冷却工程の
際に析出する成分元素の拡散が活発になる。また、空孔
自体が核生成サイトを形成して析出硬化に寄与しない析
出相を増加させる。そこで、第2溶体化処理によって空
孔密度を減少させて、平衡空孔濃度にするものである。
平衡空孔濃度とは、時効硬化処理に支障を与えない程度
の空孔濃度をいう。第2溶体化処理の際の温度を銅合金
母相が単相化する温度付近の温度に保持することによっ
て、銅合金母相内で平衡空孔濃度を達成することができ
る。
の空孔濃度をいう。第2溶体化処理の際の温度を銅合金
母相が単相化する温度付近の温度に保持することによっ
て、銅合金母相内で平衡空孔濃度を達成することができ
る。
また、第2溶体化処理の際の時間は、銅合金母相内に平
衡空孔濃度か得られるように設定する。
衡空孔濃度か得られるように設定する。
この第2溶体化処理の時間は、具体的には5分以上に設
定するのが好ましい。
定するのが好ましい。
第2溶体化処理後の析出硬化型銅合金の冷却速度は、5
℃/分以上に設定する。これは、冷却速度が5℃/分未
満であると、第2冷却工程で析出硬化に寄与しない析出
相の析出を充分に抑えられないからである。
℃/分以上に設定する。これは、冷却速度が5℃/分未
満であると、第2冷却工程で析出硬化に寄与しない析出
相の析出を充分に抑えられないからである。
このようにCu−5i −N i−P系の析出硬化型銅
合金に第1溶体化処理を施し、析出硬化に寄与する成分
を銅器相中に固溶させる。次いで、析出硬化型銅合金を
第1冷却工程を経て第2溶体化処理の際の温度まで冷却
する。次いで、これに第2溶体化処理を施して、第1溶
体化処理で析出硬化型銅合金母相中に導入された空孔の
濃度を減少させる。その後、第2冷却工程によって、析
出硬化型銅合金内に、均質な過飽和固溶体を形成させる
。これにより、その後の時効硬化処理において析出硬化
に寄与する成分が微細に分布する。この結果、析出硬化
型銅合金を充分に強化することができる。
合金に第1溶体化処理を施し、析出硬化に寄与する成分
を銅器相中に固溶させる。次いで、析出硬化型銅合金を
第1冷却工程を経て第2溶体化処理の際の温度まで冷却
する。次いで、これに第2溶体化処理を施して、第1溶
体化処理で析出硬化型銅合金母相中に導入された空孔の
濃度を減少させる。その後、第2冷却工程によって、析
出硬化型銅合金内に、均質な過飽和固溶体を形成させる
。これにより、その後の時効硬化処理において析出硬化
に寄与する成分が微細に分布する。この結果、析出硬化
型銅合金を充分に強化することができる。
以下、本発明の効果を確認にするために行った実験例に
ついて説明する。
ついて説明する。
実験例1〜3
ます、析出硬化成分として0.5重量%のSi、3.0
重量%のNi、0.2重量%のPを含有する析出硬化型
銅合金を、電気炉内で1200℃に加熱し、溶解した。
重量%のNi、0.2重量%のPを含有する析出硬化型
銅合金を、電気炉内で1200℃に加熱し、溶解した。
この溶解した析出硬化型銅合金を鋳造して長さ200m
m、幅80mm、厚さ20m1の寸法の板状体とした。
m、幅80mm、厚さ20m1の寸法の板状体とした。
この板状体を800℃で厚さ5III11に熱間圧延し
た。さらに、これを厚さllll11に冷間圧延して薄
板状体を作製した。
た。さらに、これを厚さllll11に冷間圧延して薄
板状体を作製した。
次に、得られた薄板状体に950℃で30分間加熱して
第1溶体化処理を施した。第1溶体化処理後、薄板状体
を880℃まで10℃/分の冷却速度で冷却した。次に
、これを880℃の温度で30分間保持して、薄板状体
に第2溶体化処理を施した。その後、第2溶体化処理後
の薄板状体を室温まで250℃/分の冷却速度で冷却し
た。
第1溶体化処理を施した。第1溶体化処理後、薄板状体
を880℃まで10℃/分の冷却速度で冷却した。次に
、これを880℃の温度で30分間保持して、薄板状体
に第2溶体化処理を施した。その後、第2溶体化処理後
の薄板状体を室温まで250℃/分の冷却速度で冷却し
た。
このようにして、本発明を適用して溶体化処理を行った
析出硬化型銅合金薄板状体(実験例1)を得た。また、
室温まで冷却する冷却速度を100℃/分、40℃/分
にした点以外は、上記と同様にして析出硬化型銅合金薄
板状体(実験例2.3)を得た。
析出硬化型銅合金薄板状体(実験例1)を得た。また、
室温まで冷却する冷却速度を100℃/分、40℃/分
にした点以外は、上記と同様にして析出硬化型銅合金薄
板状体(実験例2.3)を得た。
このようにして得た3つの析出硬化型銅合金薄板状体に
500℃で30分間の時効硬化処理を施した後、氷水中
に投入して焼入れした。その後、それぞれの析出硬化型
銅合金薄板状体の引張り強度を調べた。その結果を溶体
化処理条件と共に下記第1表に示す。
500℃で30分間の時効硬化処理を施した後、氷水中
に投入して焼入れした。その後、それぞれの析出硬化型
銅合金薄板状体の引張り強度を調べた。その結果を溶体
化処理条件と共に下記第1表に示す。
なお、引張強度は、前記薄板状体を所定の寸法に切断し
て引張り試験片を作製し、この試験片をアムスラー型引
張り試験機に取り付けて測定した。
て引張り試験片を作製し、この試験片をアムスラー型引
張り試験機に取り付けて測定した。
比較例1〜3
実験例1と同様の薄板状体を用いて、これに950℃で
60分間溶体化処理を施した。その後、加熱処理後の薄
板状体を室温まで250℃/分の速度で冷却した。
60分間溶体化処理を施した。その後、加熱処理後の薄
板状体を室温まで250℃/分の速度で冷却した。
このようにして、従来の溶体化処理を施した析出硬化型
銅合金薄板状体(比較例1)を得た。
銅合金薄板状体(比較例1)を得た。
また、室温まで冷却する速度を100℃/分、40℃/
分にした点以外は比較例1と同様にして比較例2,3の
析出硬化型銅合金薄板状体を得た。
分にした点以外は比較例1と同様にして比較例2,3の
析出硬化型銅合金薄板状体を得た。
これらの析出硬化型銅合金薄板状体の引張り強度を、実
験例1と同様にして調べた。その結果を下記第1表に併
記する。
験例1と同様にして調べた。その結果を下記第1表に併
記する。
実験例4〜6
まず、析出硬化成分として0.6重量%のSi、3.0
重量%のNi、0.05重量%のP1固溶強化成分とし
て0.5重量%のZnを含有する析出硬化型銅合金を電
気炉内で1200℃に加熱し溶解した。これに実験例1
と同様に圧延処理して薄板状体を得た。
重量%のNi、0.05重量%のP1固溶強化成分とし
て0.5重量%のZnを含有する析出硬化型銅合金を電
気炉内で1200℃に加熱し溶解した。これに実験例1
と同様に圧延処理して薄板状体を得た。
次に、得られた薄板状体に930℃で30分間加熱して
第1溶体化処理を施した。第1溶体化処理工程後、薄板
状体を840℃まで10℃/分の冷却速度で冷却した。
第1溶体化処理を施した。第1溶体化処理工程後、薄板
状体を840℃まで10℃/分の冷却速度で冷却した。
次に、840℃の温度で30分間保持して、薄板状体に
第2溶体化処理を施した。その後、第2溶体化処理後の
薄板状体を室温まで250℃/分の冷却速度で冷却した
。
第2溶体化処理を施した。その後、第2溶体化処理後の
薄板状体を室温まで250℃/分の冷却速度で冷却した
。
このようにして、実験例4の析出硬化型銅合金薄板状体
を得た。また、室温まで冷却する速度を100℃/分、
40℃/分にした点以外は実験例4と同様にして実験例
5.6の析出硬化型銅合金薄板状体を得た。
を得た。また、室温まで冷却する速度を100℃/分、
40℃/分にした点以外は実験例4と同様にして実験例
5.6の析出硬化型銅合金薄板状体を得た。
これらの析出硬化型銅合金薄板状体の引張り強度を時効
硬化処理の温度を480”Cにした点以外は実験例1と
同様にして調べた。実験例1と同様にして調べた。その
結果を、下記第1表に併記する。
硬化処理の温度を480”Cにした点以外は実験例1と
同様にして調べた。実験例1と同様にして調べた。その
結果を、下記第1表に併記する。
比較例4〜6
実験例4と同様の薄板状体を用いて、これに930℃で
60分間溶体化処理を施した。その後、加熱処理後の薄
板状体を室温まで250”C/分の冷却速度で冷却した
。
60分間溶体化処理を施した。その後、加熱処理後の薄
板状体を室温まで250”C/分の冷却速度で冷却した
。
このようにして、従来の溶体化処理を施した比較例4の
析出硬化型銅合金薄板状体を得た。また、室温まで冷却
する速度を100”C/分、40℃/分にした点以外は
比較例4と同様にして比較例5.6の析出硬化型銅合金
薄板状体を得た。
析出硬化型銅合金薄板状体を得た。また、室温まで冷却
する速度を100”C/分、40℃/分にした点以外は
比較例4と同様にして比較例5.6の析出硬化型銅合金
薄板状体を得た。
これらの析出硬化型銅合金薄板状体の引張り強度を、実
験例4と同様にして調べた。その結果を、下記第1表に
併記する。
験例4と同様にして調べた。その結果を、下記第1表に
併記する。
第
表
第1表から明らかなように、本発明の溶体化処理方法を
行って得た析出硬化型銅合金(実験例1〜6)は、時効
硬化処理後の引張強度が高いものであった。これに対し
て、従来の溶体化処理方法を行って得られた析出硬化型
銅合金(比較例1〜6)は、いずれも時効硬化後の引張
強度が低いものであった。
行って得た析出硬化型銅合金(実験例1〜6)は、時効
硬化処理後の引張強度が高いものであった。これに対し
て、従来の溶体化処理方法を行って得られた析出硬化型
銅合金(比較例1〜6)は、いずれも時効硬化後の引張
強度が低いものであった。
以上の結果、明らかなように本発明の析出硬化型銅合金
の溶体化処理方法は、次のような効果を奏する。
の溶体化処理方法は、次のような効果を奏する。
■急冷することなしに優れた特性を有する析出硬化型銅
合金に効率よく溶体化処理することができる。
合金に効率よく溶体化処理することができる。
■熱間圧延時の加熱による溶体化処理、連続焼鈍炉やベ
ル炉による溶体化処理が可能となる。
ル炉による溶体化処理が可能となる。
[発明の効果コ
以上説明した如く、本発明にかかる析出硬化型銅合金の
溶体化処理方法によれば、簡易な設備で実施可能であり
、しかも、最終の冷却工程中に析出硬化に寄与しない析
出相が析出するのを防止できるものである。
溶体化処理方法によれば、簡易な設備で実施可能であり
、しかも、最終の冷却工程中に析出硬化に寄与しない析
出相が析出するのを防止できるものである。
Claims (1)
- Cuを主成分とし、析出硬化成分として0.01〜5
.0重量%のSi、0.7〜15.0重量%のNi、お
よび0.005〜0.5重量%のPを含有する析出硬化
型銅合金を900〜1000℃の温度で10分以上加熱
してCuにSi、Ni、およびPを固溶させる第1溶体
化処理工程と、該第1溶体化処理後の銅合金を所定の温
度まで冷却する第1冷却工程と、該第1冷却工程後の銅
合金に前記第1溶体化処理の際の温度よりも低い温度で
、かつ、800〜900℃の温度で5分以上の加熱を施
してCuにSi、Ni、およびPを固溶させる第2溶体
化処理工程と、該第2溶体化処理後の銅合金を5℃/分
以上の冷却速度で冷却する第2冷却工程とを具備するこ
とを特徴とする析出硬化型銅合金の溶体化処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2096298A JP2871801B2 (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 析出硬化型銅合金の溶体化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2096298A JP2871801B2 (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 析出硬化型銅合金の溶体化処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03294458A true JPH03294458A (ja) | 1991-12-25 |
JP2871801B2 JP2871801B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=14161133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2096298A Expired - Lifetime JP2871801B2 (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 析出硬化型銅合金の溶体化処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2871801B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0679727A2 (de) * | 1994-04-29 | 1995-11-02 | DIEHL GMBH & CO. | Verfahren zur Herstellung einer Kupfer-Nickel-Silizium-Legierung und deren Verwendung |
US5837068A (en) * | 1993-08-03 | 1998-11-17 | Kazuaki Fukamichi And Ykk Corporation | Magnetoresistance effect material, process for producing the same, and magnetoresistive element |
US6149741A (en) * | 1996-07-30 | 2000-11-21 | Establissements Griset | Copper-based alloy having a high electrical conductivity and a high softening temperature for application in electronics |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP2096298A patent/JP2871801B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5837068A (en) * | 1993-08-03 | 1998-11-17 | Kazuaki Fukamichi And Ykk Corporation | Magnetoresistance effect material, process for producing the same, and magnetoresistive element |
EP0679727A2 (de) * | 1994-04-29 | 1995-11-02 | DIEHL GMBH & CO. | Verfahren zur Herstellung einer Kupfer-Nickel-Silizium-Legierung und deren Verwendung |
EP0679727A3 (ja) * | 1994-04-29 | 1995-11-29 | Diehl Gmbh & Co | |
US6149741A (en) * | 1996-07-30 | 2000-11-21 | Establissements Griset | Copper-based alloy having a high electrical conductivity and a high softening temperature for application in electronics |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2871801B2 (ja) | 1999-03-17 |
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