JPH03288279A - パターン認識方法 - Google Patents
パターン認識方法Info
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- JPH03288279A JPH03288279A JP2089931A JP8993190A JPH03288279A JP H03288279 A JPH03288279 A JP H03288279A JP 2089931 A JP2089931 A JP 2089931A JP 8993190 A JP8993190 A JP 8993190A JP H03288279 A JPH03288279 A JP H03288279A
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- area
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 4
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 title description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 12
- 238000012567 pattern recognition method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はパターン認識方法に関し、詳しくは、不鮮明な
エリアを有する基準パターンと検査パターンを照合する
ための手段に関する。
エリアを有する基準パターンと検査パターンを照合する
ための手段に関する。
（従来の技術）
例えば基板に実装される電子部品や、基板に形成された
位置基準マークのような検査対象物の位置検出や形状認
識等のためのパターン認識は、電子部品や位置基準マー
ク等の実際のサンプルを予めカメラで観察して得られた
基準パターンと、検査対象物をカメラで観察して得られ
た検査パターンを照合することにより行われる。
位置基準マークのような検査対象物の位置検出や形状認
識等のためのパターン認識は、電子部品や位置基準マー
ク等の実際のサンプルを予めカメラで観察して得られた
基準パターンと、検査対象物をカメラで観察して得られ
た検査パターンを照合することにより行われる。
（発明が解決しようとする課題）
ところで、上記のようにサンプルや検査対象物をカメラ
などの光学手段で観察する場合、光源から照射された光
がサンプルや検査対象物の表面に部分的に鏡面反射され
るなどして、全体形状を明瞭に観察できず、部分的に不
鮮明なエリアが生じる場合が多く、この不鮮明なエリア
のために認識精度が低下しやすいものであった。
などの光学手段で観察する場合、光源から照射された光
がサンプルや検査対象物の表面に部分的に鏡面反射され
るなどして、全体形状を明瞭に観察できず、部分的に不
鮮明なエリアが生じる場合が多く、この不鮮明なエリア
のために認識精度が低下しやすいものであった。
そこで本発明は、上記のような問題を解消するパターン
認識方法を提供することを目的とする。
認識方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
このために本発明は、サンプルを光学手段により観察し
て基準パターンの不鮮明なエリアを検出し、次いで同じ
光学手段により検査対象物を観察して検査パターンを検
出し、この基準パターンと検査パターンを照合するに際
し、上記不鮮明なエリアを除外して照合するようにして
いる。
て基準パターンの不鮮明なエリアを検出し、次いで同じ
光学手段により検査対象物を観察して検査パターンを検
出し、この基準パターンと検査パターンを照合するに際
し、上記不鮮明なエリアを除外して照合するようにして
いる。
また、サンプルを光学手段により観察して、基準パター
ンの鮮明なエリアを検出し、次いで同じ光学手段により
検査対象物を観察して検査パターンを検出し、この基準
パターンと検査パターンを照合するに際し、この鮮明な
エリアを照合するようにしたものである。
ンの鮮明なエリアを検出し、次いで同じ光学手段により
検査対象物を観察して検査パターンを検出し、この基準
パターンと検査パターンを照合するに際し、この鮮明な
エリアを照合するようにしたものである。
（作用）
上記構成によれば、不鮮明なエリアを除外し、鮮明に観
察されたエリアについてパターンの照合を行うので、認
識精度をあげることができる。
察されたエリアについてパターンの照合を行うので、認
識精度をあげることができる。
（実施例 ）
次に、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第３図は、カメラ１０、リング光源１１等の光学手段に
より、テーブル１３に載置された基板のようなサンプル
１２に形成された文字Ａを観察している様子を示すもの
である。第１図において、１は上記カメラ１０によりサ
ンプル１２を観察して得られた基準パターンであり、８
ｘ８＝６４の画素Ｇを有している。本実施例は、文字Ａ
のパターンを照合するものであるが、光源１１から照射
された光がサンプル１２の表面に部分的に鏡面反射され
るなどして、文字Ａの全体形状は明瞭に観察されず、図
中、影線を付した部分は、不鮮明に観察されるエリアＥ
１１゜Ｅ１２となっている。
より、テーブル１３に載置された基板のようなサンプル
１２に形成された文字Ａを観察している様子を示すもの
である。第１図において、１は上記カメラ１０によりサ
ンプル１２を観察して得られた基準パターンであり、８
ｘ８＝６４の画素Ｇを有している。本実施例は、文字Ａ
のパターンを照合するものであるが、光源１１から照射
された光がサンプル１２の表面に部分的に鏡面反射され
るなどして、文字Ａの全体形状は明瞭に観察されず、図
中、影線を付した部分は、不鮮明に観察されるエリアＥ
１１゜Ｅ１２となっている。
検査パターン２は、上記テーブル１３に検査対象物を載
置して観察して得られたパターンである。この検査対象
物も、上記サンプル１２と同じ光学手段に観察されてい
るので、上記基準パターン１とほぼ同一の部分に、不鮮
明に観察されるエリアＥ２１．Ｅ２２が生じている。
置して観察して得られたパターンである。この検査対象
物も、上記サンプル１２と同じ光学手段に観察されてい
るので、上記基準パターン１とほぼ同一の部分に、不鮮
明に観察されるエリアＥ２１．Ｅ２２が生じている。
そこで本手段は、無効パターン３を設定する。
この無効パターン３は、上記エリアＥ１１．Ｅ１２に対
応する画素Ｇに無効エリアＥ３１．Ｅ３２を設定し、こ
の無効エリアＥ３１．Ｅ３２を、後述する演算から除外
するものである。
応する画素Ｇに無効エリアＥ３１．Ｅ３２を設定し、こ
の無効エリアＥ３１．Ｅ３２を、後述する演算から除外
するものである。
４は論理回路（Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ ｏｒ）であって
、上記基準パターン１と検査パターン２は、この論理回
路４の入力部に接続されている。、５はＮＡＮＤ回路で
あって、その入力部には、論理回路４と、無効パターン
３例の論理回路６の出力部が接続されており、このＮＡ
ＮＤ回路５は、演算部７に接続されている。また論理回
路６の一方の入力部は、切換スイッチ部８に接続されて
いる。このスイッチ部８は、可変接点８１と、０．１の
２つの固定接点８２，８３を有しでいる。上記各パター
ン１． ２． ３の各画素Ｇは、２値化若しくは多値化
されたデータを有しており、各画素Ｇのデータを論理回
路４．６に出力する。
、上記基準パターン１と検査パターン２は、この論理回
路４の入力部に接続されている。、５はＮＡＮＤ回路で
あって、その入力部には、論理回路４と、無効パターン
３例の論理回路６の出力部が接続されており、このＮＡ
ＮＤ回路５は、演算部７に接続されている。また論理回
路６の一方の入力部は、切換スイッチ部８に接続されて
いる。このスイッチ部８は、可変接点８１と、０．１の
２つの固定接点８２，８３を有しでいる。上記各パター
ン１． ２． ３の各画素Ｇは、２値化若しくは多値化
されたデータを有しており、各画素Ｇのデータを論理回
路４．６に出力する。
本手段は上記構成より成り、次に不鮮明なエリアＥｌｌ
、Ｅ１２を除外するパターン認識方法を説明する。この
場合、上記可変接点８１は、Ｏ側の固定接点８２に接続
しておく。
、Ｅ１２を除外するパターン認識方法を説明する。この
場合、上記可変接点８１は、Ｏ側の固定接点８２に接続
しておく。
さて、基準パターン１及び検査パターン２において、文
字Ａが取り込まれた画素Ｇの２値化値は１、他の部分は
Ｏである。したがって、基準パターン１と検査パターン
２の６４個の各画素Ｇの０．１信号を論理回路４に順次
入力していった場合、０．０又は１．１で両画素Ｇのデ
ータが一致しているときは、論理回路４の出力は０、ま
た１、０又は０．１で不一致のときの同出力は１である
。このように基準パターン１と検査パターン２の画素Ｇ
のデータが不一致で、論理回路４の出力が１のときは、
ＮＡＮＤ回路５の出力は常に０である。また両画素Ｇの
データが一致していて、論理回路４の出力が０の場合、
ＮＡＮＤ回路５の出力は、もう一方の論理回路６の出力
により決定される。すなわち無効パターン３において、
上記無効エリアＥ３１゜Ｅ３２以外の画素Ｇのデータは
Ｏであり、この場合、論理回路６の入力部は０．０、出
力は０であり、したがってＮＡＮＤ回路５の出力は１で
あって、演算部７に入力される。ところが上記無効エリ
アＥ３１．Ｅ３２の画素Ｇは１であるので、論理回路６
０入力部は１．０となり、その出力は１となるので、Ｎ
ＡＮＤ回路５の出力は０となる。このことは、無効エリ
アＥ３１゜Ｅ３２においては、基準パターン１と検査パ
ターン２の画素Ｇのデータがたとえ一致していても、Ｎ
ＡＮＤ回路５の出力は０となって、演算部７の演算から
除外されることを意味する。このように本方法は、不鮮
明な無効エリアＥ３１゜Ｅ３２はマツチングの演算から
除外するようにしているので、認識精度をあげることが
できる。
字Ａが取り込まれた画素Ｇの２値化値は１、他の部分は
Ｏである。したがって、基準パターン１と検査パターン
２の６４個の各画素Ｇの０．１信号を論理回路４に順次
入力していった場合、０．０又は１．１で両画素Ｇのデ
ータが一致しているときは、論理回路４の出力は０、ま
た１、０又は０．１で不一致のときの同出力は１である
。このように基準パターン１と検査パターン２の画素Ｇ
のデータが不一致で、論理回路４の出力が１のときは、
ＮＡＮＤ回路５の出力は常に０である。また両画素Ｇの
データが一致していて、論理回路４の出力が０の場合、
ＮＡＮＤ回路５の出力は、もう一方の論理回路６の出力
により決定される。すなわち無効パターン３において、
上記無効エリアＥ３１゜Ｅ３２以外の画素Ｇのデータは
Ｏであり、この場合、論理回路６の入力部は０．０、出
力は０であり、したがってＮＡＮＤ回路５の出力は１で
あって、演算部７に入力される。ところが上記無効エリ
アＥ３１．Ｅ３２の画素Ｇは１であるので、論理回路６
０入力部は１．０となり、その出力は１となるので、Ｎ
ＡＮＤ回路５の出力は０となる。このことは、無効エリ
アＥ３１゜Ｅ３２においては、基準パターン１と検査パ
ターン２の画素Ｇのデータがたとえ一致していても、Ｎ
ＡＮＤ回路５の出力は０となって、演算部７の演算から
除外されることを意味する。このように本方法は、不鮮
明な無効エリアＥ３１゜Ｅ３２はマツチングの演算から
除外するようにしているので、認識精度をあげることが
できる。
なお認識精度は、（マツチング画素数／無効エリアＥ３
１，３２の画素数を除外した有効画素数）として求めら
れる。
１，３２の画素数を除外した有効画素数）として求めら
れる。
ところで、上記のように光学手段でサンプルや検査対象
物を観察した場合、大部分は不鮮明で、一部分のみが鮮
明に観察される場合があり、次に第２図を参照しながら
、このような場合のマツチング方法を説明する。この場
合、可変接点８１は１例の固定接点８３に接続する。
物を観察した場合、大部分は不鮮明で、一部分のみが鮮
明に観察される場合があり、次に第２図を参照しながら
、このような場合のマツチング方法を説明する。この場
合、可変接点８１は１例の固定接点８３に接続する。
第２図の基準パターン１において、エリアＥ４１は鮮明
に観察されているが、これ以外の部分は不鮮明に観察さ
れている。また検査パターン２においても、このエリア
Ｅ４１とほぼ同様のエリアＥ４２だけが鮮明に観察され
ている。
に観察されているが、これ以外の部分は不鮮明に観察さ
れている。また検査パターン２においても、このエリア
Ｅ４１とほぼ同様のエリアＥ４２だけが鮮明に観察され
ている。
そこで上記エリアＥ４１に対応する分に有効パターン３
°の有効エリアＥ４３を設定し、この有効エリアＥ４３
についてのみ、以下に述べるようにマツチングを行う。
°の有効エリアＥ４３を設定し、この有効エリアＥ４３
についてのみ、以下に述べるようにマツチングを行う。
論理回路６のスイッチ部８例の入力部は常に１であり、
また有効パターン３″において、有効エリアＥ４３以外
の画素ＧのデータはＯであることから、論理回路６の出
力は１であり、ＮＡＮＤ回路５の出力はＯとなる。この
ことは、有効エリアＥ４３以外の部分は、演算から除外
されることを意味する。そして、この有効エリアＥ４３
において、基準パターン１の画素Ｇのデータと、検査パ
ターン２の画素Ｇのデータが一致している時は、ＮＡＮ
Ｄ回路５の出力は１１不一致のときの同出力は０である
。このように本方法によれば、鮮明な有効エリアＥ４３
についてのみ、マツチングの演算が行われる。
また有効パターン３″において、有効エリアＥ４３以外
の画素ＧのデータはＯであることから、論理回路６の出
力は１であり、ＮＡＮＤ回路５の出力はＯとなる。この
ことは、有効エリアＥ４３以外の部分は、演算から除外
されることを意味する。そして、この有効エリアＥ４３
において、基準パターン１の画素Ｇのデータと、検査パ
ターン２の画素Ｇのデータが一致している時は、ＮＡＮ
Ｄ回路５の出力は１１不一致のときの同出力は０である
。このように本方法によれば、鮮明な有効エリアＥ４３
についてのみ、マツチングの演算が行われる。
（発明の効果）
以上説明したように本発明は、不鮮明に観察・されるエ
リアは除外し、鮮明に観察されるエリアについてのみ、
マツチングの演算を行うようにしているので、認識精度
を大巾に向上させることができる。
リアは除外し、鮮明に観察されるエリアについてのみ、
マツチングの演算を行うようにしているので、認識精度
を大巾に向上させることができる。
図は本発明の実施例を示すものであって、第１図はマツ
チング手段のブロック図、第２図は他のマツチング手段
のブロック図、第３図は観察装置の斜視図である。 １・・・基準パターン ・・検査パターン １０．１１・・・光学手段 １２・・・サンプル
チング手段のブロック図、第２図は他のマツチング手段
のブロック図、第３図は観察装置の斜視図である。 １・・・基準パターン ・・検査パターン １０．１１・・・光学手段 １２・・・サンプル
Claims (2)
- （１）サンプルを光学手段により観察して基準パターン
の不鮮明なエリアを検出し、次いで同じ光学手段により
検査対象物を観察して検査パターンを検出し、この基準
パターンと検査パターンを照合するに際し、上記不鮮明
なエリアを除外して照合するようにしたことを特徴とす
るパターン認識方法。 - （２）サンプルを光学手段により観察して、基準パター
ンの鮮明なエリアを検出し、次いで同じ光学手段により
検査対象物を観察して検査パターンを検出し、この基準
パターンと検査パターンを照合するに際し、この鮮明な
エリアを照合するようにしたことを特徴とするパターン
認識方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2089931A JP3000615B2 (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | パターン認識方法 |
| US08/962,842 US6320977B1 (en) | 1990-04-04 | 1997-11-03 | Method and apparatus for positional detection using pattern matching process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2089931A JP3000615B2 (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | パターン認識方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03288279A true JPH03288279A (ja) | 1991-12-18 |
| JP3000615B2 JP3000615B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=13984442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2089931A Expired - Fee Related JP3000615B2 (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | パターン認識方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000615B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006154794A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-06-15 | Agilent Technol Inc | プリント装置、プリントシステムおよびトナー飛散補償を行う方法 |
| WO2009041005A1 (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Panasonic Corporation | 検査装置及び検査方法 |
| WO2014052063A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Illinois Tool Works Inc. | Method of dispensing material based on edge detection |
-
1990
- 1990-04-04 JP JP2089931A patent/JP3000615B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006154794A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-06-15 | Agilent Technol Inc | プリント装置、プリントシステムおよびトナー飛散補償を行う方法 |
| WO2009041005A1 (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Panasonic Corporation | 検査装置及び検査方法 |
| JP4495250B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2010-06-30 | パナソニック株式会社 | 検査装置及び検査方法 |
| JPWO2009041005A1 (ja) * | 2007-09-28 | 2011-01-13 | パナソニック株式会社 | 検査装置及び検査方法 |
| US8224063B2 (en) | 2007-09-28 | 2012-07-17 | Panasonic Corporation | Inspection apparatus and inspection method |
| WO2014052063A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Illinois Tool Works Inc. | Method of dispensing material based on edge detection |
| US9411779B2 (en) | 2012-09-28 | 2016-08-09 | Illinois Tool Works Inc. | Method of dispensing material based on edge detection |
| US9779494B2 (en) | 2012-09-28 | 2017-10-03 | Illinois Tool Works Inc. | Apparatus for dispensing material based on edge detection |
| TWI625420B (zh) * | 2012-09-28 | 2018-06-01 | 伊利諾工具工程公司 | 依據邊緣偵測而分配材料之方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3000615B2 (ja) | 2000-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |