JPH03283403A - 金属磁性粉末の製造方法 - Google Patents
金属磁性粉末の製造方法Info
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- JPH03283403A JPH03283403A JP2080831A JP8083190A JPH03283403A JP H03283403 A JPH03283403 A JP H03283403A JP 2080831 A JP2080831 A JP 2080831A JP 8083190 A JP8083190 A JP 8083190A JP H03283403 A JPH03283403 A JP H03283403A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、塗布型磁気記録媒体の原料で、保磁力(以下
Hcと称する)が高く、かつ残留磁束密度(以下σSと
称する)が高い鉄を主体とする金属磁性粉末の製造方法
に関する。
Hcと称する)が高く、かつ残留磁束密度(以下σSと
称する)が高い鉄を主体とする金属磁性粉末の製造方法
に関する。
従来の技術
近年、磁気記録・再生装置の小型、軽量化に伴い、磁気
記録媒体の高記録密度化が要求されている。その結果、
磁気記録媒体に使用されている磁性粉末は、従来から使
用されているγ−Fe2O3等の酸化鉄系から高He、
高σSのため高密度記録が可能な鉄を主体とした金属磁
性粉末が主流になりつつある。
記録媒体の高記録密度化が要求されている。その結果、
磁気記録媒体に使用されている磁性粉末は、従来から使
用されているγ−Fe2O3等の酸化鉄系から高He、
高σSのため高密度記録が可能な鉄を主体とした金属磁
性粉末が主流になりつつある。
この金属磁性粉末は、磁気発現に形状異方性を利用する
ことから現在多く採用されている製造方法は、湿式法で
針状ゲータイトを製造し、その形状を崩さずに水素等の
還元ガスで還元してメタル化する方法である。そのさい
、還元反応時の粒子間焼結を防止するため、還元処理前
のゲータイト表面にM2O3を被着する方法(特開昭5
2−134858)、SiO2で被着する方法(特開昭
48−83100)が一般に行われている。
ことから現在多く採用されている製造方法は、湿式法で
針状ゲータイトを製造し、その形状を崩さずに水素等の
還元ガスで還元してメタル化する方法である。そのさい
、還元反応時の粒子間焼結を防止するため、還元処理前
のゲータイト表面にM2O3を被着する方法(特開昭5
2−134858)、SiO2で被着する方法(特開昭
48−83100)が一般に行われている。
また、表面にM、03.およびSiO2を被着した金属
磁性粉末の比較については、M2O3被着した金属磁性
粉末の方が長期間の磁気特性(特にσS)の劣化が小さ
く、またテープ製造時の金属磁性粉末の塗料化工程にお
いて、M2O3と相性の良いスルフォン酸基系樹脂が開
発された結果、磁気記録媒体の性能が一段と向上したこ
とから、現状はM2O3被着した金属磁性粉末が主流と
なっている。
磁性粉末の比較については、M2O3被着した金属磁性
粉末の方が長期間の磁気特性(特にσS)の劣化が小さ
く、またテープ製造時の金属磁性粉末の塗料化工程にお
いて、M2O3と相性の良いスルフォン酸基系樹脂が開
発された結果、磁気記録媒体の性能が一段と向上したこ
とから、現状はM2O3被着した金属磁性粉末が主流と
なっている。
発明が解決しようとする課題
金属磁性粉末に要求される主な特性は下記の通りである
。
。
■針状粒子の形状が均一である。
■磁気特性(He:磁気記録会再生装置で規制される値
に制御する。σS:高い程良いが一般的には12Oem
u/g以上)が規格値を達成している。
に制御する。σS:高い程良いが一般的には12Oem
u/g以上)が規格値を達成している。
■塗料化時の分散性が良い。
その中でHcについては高密度記録化(小型化)という
開発方向から、使用される磁性粉末もγ−Fe2O3→
コバルト被着したγ−Fe2O3→金属磁性粉末と高H
c化に推移してきており、金属磁性粉末についても昭和
60年に商品化された8脂膳ビデオテープレコーダー(
V T R)用記録媒体のHC:約14500 eと比
較して、平成元年に商品化されたVTR用記録媒体のH
cは約18000 e程度(金属磁性粉末は記録媒体に
するとHeが約80〜1000eアツプする。そのため
使用される金属磁性粉末に要求されるHcは約1500
0 e程度、)にアップされている。また今後も高密度
化の方向から更に高Hc化が予想される。
開発方向から、使用される磁性粉末もγ−Fe2O3→
コバルト被着したγ−Fe2O3→金属磁性粉末と高H
c化に推移してきており、金属磁性粉末についても昭和
60年に商品化された8脂膳ビデオテープレコーダー(
V T R)用記録媒体のHC:約14500 eと比
較して、平成元年に商品化されたVTR用記録媒体のH
cは約18000 e程度(金属磁性粉末は記録媒体に
するとHeが約80〜1000eアツプする。そのため
使用される金属磁性粉末に要求されるHcは約1500
0 e程度、)にアップされている。また今後も高密度
化の方向から更に高Hc化が予想される。
しかし、M2O3を被着した金属磁性粉末は、SiO2
を被着した磁性粉末と比較してHCの発現が小さいため
、今後の高Hc化には問題がある。
を被着した磁性粉末と比較してHCの発現が小さいため
、今後の高Hc化には問題がある。
M2O3被着金属磁性粉末のHcが発現しない原因につ
いては、SiO2被着と比較して粒子の形状保持力が弱
いため、水素ガスで還元しメタル化するとき粒子形状が
変形し、形状異方性が低下するためと推定される。
いては、SiO2被着と比較して粒子の形状保持力が弱
いため、水素ガスで還元しメタル化するとき粒子形状が
変形し、形状異方性が低下するためと推定される。
そのためにM2O3にSiO2を複合被着した方法(特
開昭57−118708)等が実施されている。しかし
本発明者の結果では、スルホン酸基系樹脂を用いて塗料
化すると、M2O3を単独被着した金属磁性粉末と比較
して塗料分散性が劣る。
開昭57−118708)等が実施されている。しかし
本発明者の結果では、スルホン酸基系樹脂を用いて塗料
化すると、M2O3を単独被着した金属磁性粉末と比較
して塗料分散性が劣る。
この原因は、たとえSiO2を被着後M 2O3を被着
しても、水素ガスによる還元工程の事前処理である焼鈍
工程(水分の抜は穴を封孔するため500〜800℃に
加熱処理する。)でSiO2が粒子表面に拡散し、粒子
表面の等電点を酸性側にするため、酸性のスルフォン酸
基との相性が悪くなり(AQ 2O3は等電点がアルカ
リ、)、樹脂との分散性を低下させると推定される。
しても、水素ガスによる還元工程の事前処理である焼鈍
工程(水分の抜は穴を封孔するため500〜800℃に
加熱処理する。)でSiO2が粒子表面に拡散し、粒子
表面の等電点を酸性側にするため、酸性のスルフォン酸
基との相性が悪くなり(AQ 2O3は等電点がアルカ
リ、)、樹脂との分散性を低下させると推定される。
本発明者等の結果では、金属磁性粉末に重量当たり0.
5%以上SiO2が含有するとHcは向上するが、粒子
表面の等電点は酸性側に推移し、塗料分散性、耐蝕性は
低下した。
5%以上SiO2が含有するとHcは向上するが、粒子
表面の等電点は酸性側に推移し、塗料分散性、耐蝕性は
低下した。
以上のことから、SiO2含有量が0.4重量%以下で
M2O3を被着した金属磁性粉末のHcを向上させる技
術の確立が、磁気記録媒体の特性アップのおおきな課題
と考えられる。
M2O3を被着した金属磁性粉末のHcを向上させる技
術の確立が、磁気記録媒体の特性アップのおおきな課題
と考えられる。
本発明は、上記組成でHcを15000 e以上に向上
させ、かつ高σSな金属磁性粉末を簡単に製造する方法
を提供することを目的とする。
させ、かつ高σSな金属磁性粉末を簡単に製造する方法
を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、M2O3を被着(S i 02含有量が金属
磁性粉末の重量当たり0.4%以下、)シた金属磁性粉
末の課題であるHe向上のため、α−Fe2O3(アル
ミニウム化合物被着したゲータイトを加熱脱水した。)
の還元反応を2段階で、すなわち、■還元初期のFe2
O3−+Fe3O4反応は300〜380℃の低温で、
■その後のFe、、Oa→メタル・Fe反応は380〜
450℃の高温で、還元することを特徴とする。
磁性粉末の重量当たり0.4%以下、)シた金属磁性粉
末の課題であるHe向上のため、α−Fe2O3(アル
ミニウム化合物被着したゲータイトを加熱脱水した。)
の還元反応を2段階で、すなわち、■還元初期のFe2
O3−+Fe3O4反応は300〜380℃の低温で、
■その後のFe、、Oa→メタル・Fe反応は380〜
450℃の高温で、還元することを特徴とする。
鉄を主体とした金属磁性粉末のHcは、形状異方性で発
現することから、金属磁性粉末のHeは粒子の針状比(
長軸長/短軸長)に影響される。
現することから、金属磁性粉末のHeは粒子の針状比(
長軸長/短軸長)に影響される。
そのため、還元時の形状の崩れ(形状異方性の低下)を
防止するため、一般には出発原料であるゲータイトにS
iO2、あるいはM2O3を被着して製造している。こ
のさい、SiO2を被着した金属磁性粉末は、Heが1
700〜18000 e程度発現するが、A12O3を
被着した金属磁性粉末は、本発明の結果では第1図に示
すように最大的14500 e程度である。
防止するため、一般には出発原料であるゲータイトにS
iO2、あるいはM2O3を被着して製造している。こ
のさい、SiO2を被着した金属磁性粉末は、Heが1
700〜18000 e程度発現するが、A12O3を
被着した金属磁性粉末は、本発明の結果では第1図に示
すように最大的14500 e程度である。
第1図は、長軸長が0.34mの炭酸塩系ゲータイトに
アルミニウム化合物を(M、o 3として)4%被着し
、700℃で加熱脱水したα−Fe2O3を流動還元炉
で還元したときの還元温度と、金属磁性粉末のHcの関
係である。そのため、現在市販されているHcが180
00 eの磁気記録媒体(記録媒体にすると、金属磁性
粉末のHeは80〜1000e上昇することから、金属
磁性粉末のHcは15000e以上必要、)には、還元
温度を変化させてもHeの目標値を達成出来ない。
アルミニウム化合物を(M、o 3として)4%被着し
、700℃で加熱脱水したα−Fe2O3を流動還元炉
で還元したときの還元温度と、金属磁性粉末のHcの関
係である。そのため、現在市販されているHcが180
00 eの磁気記録媒体(記録媒体にすると、金属磁性
粉末のHeは80〜1000e上昇することから、金属
磁性粉末のHcは15000e以上必要、)には、還元
温度を変化させてもHeの目標値を達成出来ない。
Hcが発現しない原因は、Hcのピークが380℃迄は
、表面に被着したM2O3によって形状異方性を崩さず
にメタル粒子の結晶化が進むためHcは発現するが、そ
れ以上の還元温度になるとM2O3被着暦が焼結ぎみと
なり(形状保持効果が低下)、さらに粒子成長したメタ
ル粒子により形状異方性が乱されるためHeが低下した
と推定される。
、表面に被着したM2O3によって形状異方性を崩さず
にメタル粒子の結晶化が進むためHcは発現するが、そ
れ以上の還元温度になるとM2O3被着暦が焼結ぎみと
なり(形状保持効果が低下)、さらに粒子成長したメタ
ル粒子により形状異方性が乱されるためHeが低下した
と推定される。
以上のことから、還元時の粒子の焼結現象を抑制して、
かつ高温還元が可能になれば、M2O3被着した金属磁
性粉末のHeは向上出来るとの考えに基すき、本発明を
完成させるに到った。
かつ高温還元が可能になれば、M2O3被着した金属磁
性粉末のHeは向上出来るとの考えに基すき、本発明を
完成させるに到った。
すなわち、α−Fe2O3からメタル@Feになる反応
は(1) 、 (2)式に示すように2段階からなり、
本発明はその反応を利用してHeを向上させる方法であ
る。
は(1) 、 (2)式に示すように2段階からなり、
本発明はその反応を利用してHeを向上させる方法であ
る。
3Fe2O3 + H2=2Fe304 + H2
O” ” ” (1)Fe、04 + 4H2= 3F
e + 4H2Om m m (2)(1)のFe
50.が生成する反応は発熱反応であり、反応速度は共
存する水分、水素ガス量には影響されず、還元温度のみ
影響される。また、この反応は粒子が焼結し易い、(2
)のメタル・鉄生成反応は吸熱反応で、反応速度は共存
する水分、水素ガス量、還元温度ともに影響される。
O” ” ” (1)Fe、04 + 4H2= 3F
e + 4H2Om m m (2)(1)のFe
50.が生成する反応は発熱反応であり、反応速度は共
存する水分、水素ガス量には影響されず、還元温度のみ
影響される。また、この反応は粒子が焼結し易い、(2
)のメタル・鉄生成反応は吸熱反応で、反応速度は共存
する水分、水素ガス量、還元温度ともに影響される。
以上のことから、M2O3系の金属磁性粉末のHcが発
現しない原因は、粒子が焼結しゃすいFe3O4生成反
応過程で還元反応で生成する水分により粒子が焼結する
ため、粒子の形状保持効果が低下し、Hcが発現しない
と推定した。そこでFe、04の生成反応、および、α
−Fe2O3の水素ガスによる還元速度を熱分析装置で
求めた。結果を第2図に示す、方法はサンプル量100
mg、水素ガス量2fl/ls:nで還元したときの
重量減量の経時変化を求め、その結果からα−Fe2O
3の還元率の経時変化を換算した。
現しない原因は、粒子が焼結しゃすいFe3O4生成反
応過程で還元反応で生成する水分により粒子が焼結する
ため、粒子の形状保持効果が低下し、Hcが発現しない
と推定した。そこでFe、04の生成反応、および、α
−Fe2O3の水素ガスによる還元速度を熱分析装置で
求めた。結果を第2図に示す、方法はサンプル量100
mg、水素ガス量2fl/ls:nで還元したときの
重量減量の経時変化を求め、その結果からα−Fe2O
3の還元率の経時変化を換算した。
その結果、還元反応は(1)のFe3O4生成反応が選
択的におこり、その反応が終了後、(2)のメタル・鉄
生成反応が生じる。 Fe30aの生成速度は温度に非
常に影響し、今回の実験では42O℃還元で約30秒で
終了するのに対して、290℃では約40分を要する・
すなわち、Hcのピークである380℃還元に対して、
42O℃還元で発生する水分量は約4倍となり、水素中
の水蒸気分圧は同様に4倍となる。
択的におこり、その反応が終了後、(2)のメタル・鉄
生成反応が生じる。 Fe30aの生成速度は温度に非
常に影響し、今回の実験では42O℃還元で約30秒で
終了するのに対して、290℃では約40分を要する・
すなわち、Hcのピークである380℃還元に対して、
42O℃還元で発生する水分量は約4倍となり、水素中
の水蒸気分圧は同様に4倍となる。
以上の結果から、Hcがピークの380℃以上の還元温
度で低下する原因は、(1)式のFe、04生成反応で
生成する多量の水分でFe3O4が焼結し形状異方性が
低下するためと考えられる。
度で低下する原因は、(1)式のFe、04生成反応で
生成する多量の水分でFe3O4が焼結し形状異方性が
低下するためと考えられる。
そこで、第1段階でFe3O4が完全に生成するまで低
温で還元し、その後第2段階反応で粒子の結晶化を促進
するためHcのピーク温度である380℃で還元する2
段階還元法を考え実験した。供試材は第1図の実験で用
いたα−Fe2O3を使用し、第1段階の還元温度を3
00〜380℃まで変化させ、保定時間は30分間とし
た。
温で還元し、その後第2段階反応で粒子の結晶化を促進
するためHcのピーク温度である380℃で還元する2
段階還元法を考え実験した。供試材は第1図の実験で用
いたα−Fe2O3を使用し、第1段階の還元温度を3
00〜380℃まで変化させ、保定時間は30分間とし
た。
第3図に各温度条件層別の還元時間と金属磁性粉末のH
eの関係を示す、第3図の結果、予想したようにFe3
O4の生成反応を緩やかに、すなわちFe3O4生成時
の水分発生量を低下させればFe、04の焼結減少が抑
制され、M2O3を被着した金属磁性粉末のHcは向上
することを確認した。
eの関係を示す、第3図の結果、予想したようにFe3
O4の生成反応を緩やかに、すなわちFe3O4生成時
の水分発生量を低下させればFe、04の焼結減少が抑
制され、M2O3を被着した金属磁性粉末のHcは向上
することを確認した。
次に、第1段階の還元温度を330℃−30分に固定し
、第2段階の還元温度を変化させて実験した。還元時間
と金属磁性粉末のHeの関係を第4図に、金属磁性粉末
のσSの関係を第5図に示す、その結果、2段階還元を
しない第1図の結果と異なり、Heのピーク温度は上昇
し、かつHeも向上した。但し、第2段階の還元温度が
470℃以上では粒子が焼結するためかHeが幾分低下
した0以上の結果、Fe、Oa生成時の共存水分量を低
減(還元温度を低下させれば)すれば、SiO2含有量
が0.4%以下のM2O3を被着した金属磁性粉末でも
Heは向上出来ることを見出した。
、第2段階の還元温度を変化させて実験した。還元時間
と金属磁性粉末のHeの関係を第4図に、金属磁性粉末
のσSの関係を第5図に示す、その結果、2段階還元を
しない第1図の結果と異なり、Heのピーク温度は上昇
し、かつHeも向上した。但し、第2段階の還元温度が
470℃以上では粒子が焼結するためかHeが幾分低下
した0以上の結果、Fe、Oa生成時の共存水分量を低
減(還元温度を低下させれば)すれば、SiO2含有量
が0.4%以下のM2O3を被着した金属磁性粉末でも
Heは向上出来ることを見出した。
また、第5図で示すように、磁気記録媒体の出力アップ
(S/N比向上)に効果のあるσSについても1本発明
で還元すれば還元温度を高くすることが可能なことから
向上することが可能である。
(S/N比向上)に効果のあるσSについても1本発明
で還元すれば還元温度を高くすることが可能なことから
向上することが可能である。
以上のように、本発明はα−Fe2O3からメタル・鉄
への還元を2段階、すなわち、300〜360℃で還元
した後、380℃で還元することによりSiO2含有量
が0.4%以下でM2O3を被着した金属磁性粉末でも
高Heで、かつ高σSな金属磁性粉末を製造する方法で
ある。
への還元を2段階、すなわち、300〜360℃で還元
した後、380℃で還元することによりSiO2含有量
が0.4%以下でM2O3を被着した金属磁性粉末でも
高Heで、かつ高σSな金属磁性粉末を製造する方法で
ある。
作用
本発明は以上のように、現在81■VTR等の記録媒体
に多く使用されているスルフォン酸基系樹脂への分散性
が良好な、表面にAi、o3を被着した金属磁性粉末の
課題であるHcを向上させる方法であり、そのためα−
Fe2O3の還元を300〜380℃の低温還元する第
1段階と380〜450℃で高温還元する第2段階から
構成される。
に多く使用されているスルフォン酸基系樹脂への分散性
が良好な、表面にAi、o3を被着した金属磁性粉末の
課題であるHcを向上させる方法であり、そのためα−
Fe2O3の還元を300〜380℃の低温還元する第
1段階と380〜450℃で高温還元する第2段階から
構成される。
まず、本発明で使用するα−Fe2O3の出発原料であ
るα−Fe00H(−船釣には使用するアルカリ剤で方
法を区別しており、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム
、アンモニア中和法等がある。)、および表面に被着す
るアルミニウム化合物(有機、無機化合物等)の種類は
特に制限されない、アルミニウム化合物の被着量はM2
O3換算でα−F eoOHの重量当たり3〜9%が望
ましい、3%未満では還元時水分等の影響で粒子が焼結
しHeが向上しない、また、9%超では還元に長時間を
要し、かつσSが目標値(12Oemu/g)を達成し
ない。
るα−Fe00H(−船釣には使用するアルカリ剤で方
法を区別しており、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム
、アンモニア中和法等がある。)、および表面に被着す
るアルミニウム化合物(有機、無機化合物等)の種類は
特に制限されない、アルミニウム化合物の被着量はM2
O3換算でα−F eoOHの重量当たり3〜9%が望
ましい、3%未満では還元時水分等の影響で粒子が焼結
しHeが向上しない、また、9%超では還元に長時間を
要し、かつσSが目標値(12Oemu/g)を達成し
ない。
α−FeOOH合成反応で残存する不純物(硫酸、塩素
、アルカリ等のイオン)の洗浄は、本発明ではSiO2
量を0.4%以下に制御していることから。
、アルカリ等のイオン)の洗浄は、本発明ではSiO2
量を0.4%以下に制御していることから。
SiO2の殆ど含有していないイオン交換水、蒸留水等
を使用する。 SiO2含有量を0.4%以下にする理
由は、金属磁性粉末の5in2量を増加させると、徐々
にスルフォン酸基系樹脂への分散性が低下(記録媒体の
出力、S/N比等が低下する。)する傾向にあり、本発
明者の結果ではその限界は0.4%であった。α−Fe
00Hをα−Fe2O3に加熱脱水(焼鈍)する時の加
熱温度は、600〜750℃が望ましい。
を使用する。 SiO2含有量を0.4%以下にする理
由は、金属磁性粉末の5in2量を増加させると、徐々
にスルフォン酸基系樹脂への分散性が低下(記録媒体の
出力、S/N比等が低下する。)する傾向にあり、本発
明者の結果ではその限界は0.4%であった。α−Fe
00Hをα−Fe2O3に加熱脱水(焼鈍)する時の加
熱温度は、600〜750℃が望ましい。
還元炉は一般的に使われている流動、回転、および固定
床炉で可能であるが、本発明では還元反応で生成する水
分を速やかに反応炉から離脱する必要があることから、
流動還元炉が望ましい、また、還元剤である水素ガスの
量については、還元炉の種類、α−Fe2O3の粒子形
状でほぼ決定するが、本発明ではFe3O4生成時の水
分発生量を還元温度でコントロールする方式なので、第
1段階の還元温度を低くすれば水素ガス量は還元炉で決
まる量の最低量で良い。
床炉で可能であるが、本発明では還元反応で生成する水
分を速やかに反応炉から離脱する必要があることから、
流動還元炉が望ましい、また、還元剤である水素ガスの
量については、還元炉の種類、α−Fe2O3の粒子形
状でほぼ決定するが、本発明ではFe3O4生成時の水
分発生量を還元温度でコントロールする方式なので、第
1段階の還元温度を低くすれば水素ガス量は還元炉で決
まる量の最低量で良い。
次に本発明で重要な第1段階の還元温度は、300〜3
60℃が望ましい、300℃未満だとα−Fe2O3→
Fe3O4が非常に遅くなり効率的でない、360℃超
ではHcの向上が望めない、また、還元時間については
α−Fe2O3→Fe3O4反応が完了する、すなわち
α−Fe2O3の還元率が約11%に達することが必要
である。
60℃が望ましい、300℃未満だとα−Fe2O3→
Fe3O4が非常に遅くなり効率的でない、360℃超
ではHcの向上が望めない、また、還元時間については
α−Fe2O3→Fe3O4反応が完了する、すなわち
α−Fe2O3の還元率が約11%に達することが必要
である。
還元速度は温度以外にα−Fe2O3の挿入量で異なる
が、本発明者の結果では330℃で約30分選元すれば
充分であるが、更に2時間まで還元しても金属磁性粉末
のHcは同じであった。この結果から、第1段階の還元
はFe50.→メタル・Fe反応が開始しても本発明の
目的であるHc向上を阻害しない。
が、本発明者の結果では330℃で約30分選元すれば
充分であるが、更に2時間まで還元しても金属磁性粉末
のHcは同じであった。この結果から、第1段階の還元
はFe50.→メタル・Fe反応が開始しても本発明の
目的であるHc向上を阻害しない。
しかし、あまり長時間低温還元をすると、第1と第2段
階の合計の還元時間が長くなり効率的でない、第2段階
の還元温度は380〜450℃が望ましい、380℃未
満では結晶成長が不完全であることがらHeが向上せず
、またσSも低い、450℃超では、粒子間焼結等が発
生しHeを低下させる。
階の合計の還元時間が長くなり効率的でない、第2段階
の還元温度は380〜450℃が望ましい、380℃未
満では結晶成長が不完全であることがらHeが向上せず
、またσSも低い、450℃超では、粒子間焼結等が発
生しHeを低下させる。
また、本発明は第1段階でM 2O3の形状異方性を損
なわないように低温還元することから、第2段階では還
元温度を高くすることが可能である。
なわないように低温還元することから、第2段階では還
元温度を高くすることが可能である。
第2段階の還元温度を高くすると、第5図に示すように
金属磁性粉末のσSを大幅に向上させることが可能であ
る。そのため、第2段階の還元温度は出来るだけ高くす
るのが好ましい。
金属磁性粉末のσSを大幅に向上させることが可能であ
る。そのため、第2段階の還元温度は出来るだけ高くす
るのが好ましい。
実施例
以下本発明を実施例によって具体的に説明する。
実施例1
長軸長が0.35 g mのα−Fe2O3をイオン交
換水で洗浄したのち、アルミニウム化合物を被着しくα
−FeOOHの重量当たりM2O3換算で4%被着)、
乾燥後、700℃で加熱脱水(焼鈍)し、α−Fe2O
3とした。尚、SiO2含有量は0.1%であった。そ
のα−Fe2O3を径が40曹層φの流動還元炉に約8
0g挿入し、水素ガス量は15!;L/sin、温度パ
ターンは第1段階を330℃、30 i+in、第2段
階の還元を380℃、2.5 Hr、第1と第2の昇温
をlO℃/5hinとした。
換水で洗浄したのち、アルミニウム化合物を被着しくα
−FeOOHの重量当たりM2O3換算で4%被着)、
乾燥後、700℃で加熱脱水(焼鈍)し、α−Fe2O
3とした。尚、SiO2含有量は0.1%であった。そ
のα−Fe2O3を径が40曹層φの流動還元炉に約8
0g挿入し、水素ガス量は15!;L/sin、温度パ
ターンは第1段階を330℃、30 i+in、第2段
階の還元を380℃、2.5 Hr、第1と第2の昇温
をlO℃/5hinとした。
還元後、メタル・Feの表面を酸化、安定化させ金属磁
性粉末を製造する。このようにして得られた金属磁性粉
末の磁気特性を第1表に示す。
性粉末を製造する。このようにして得られた金属磁性粉
末の磁気特性を第1表に示す。
実施例2
第1段階の保定時間を80m1nに変更した以外は全て
実施例1と同一条件で製造した。その結果を第1表に示
す。
実施例1と同一条件で製造した。その結果を第1表に示
す。
実施例3
第1段階の還元温度を300℃に変更した以外は全て実
施例1と同一条件で製造した。その結果を第1表に示す
。
施例1と同一条件で製造した。その結果を第1表に示す
。
実施例4
第2段階の還元を400℃、1.5 Hrに変更した以
外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結果を第
1表に示す。
外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結果を第
1表に示す。
実施例5
第2段階の還元を450℃、IHrに変更した以外は全
て実施例1と同一条件で製造した。その結果を第1表に
示す。
て実施例1と同一条件で製造した。その結果を第1表に
示す。
比較例1
還元温度をパターン化せず380℃、3Hr還元に変更
した以外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結
果を第1表に示す。
した以外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結
果を第1表に示す。
比較例2
還元温度をパターン化せず42O℃、2Hr還尤に変更
した以外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結
果を第1表に示す。
した以外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結
果を第1表に示す。
比較例3
還元温度をパターン化せず450℃、IHr還元に変更
した以外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結
果を第1表に示す。
した以外は全て実施例1と同一条件で製造した。その結
果を第1表に示す。
以上の結果から明らかなように本発明の方法で製造すれ
ば、5in2含有量が0.4重量%以下としたM2O3
被着金属磁性粉末でもHe、およびσSを向上出来る。
ば、5in2含有量が0.4重量%以下としたM2O3
被着金属磁性粉末でもHe、およびσSを向上出来る。
第1表
発明の効果
以上の如く本発明は、加熱脱水したα−Fe2O3を2
段階、すなわちwS1段階の還元を300〜360℃の
低温、第2段階の還元を380〜450℃の高温で製造
する事によりSiO2を0.4重量%以下にしたM2O
3被着金属磁性粉末でも、高Hcで、かつ高σSな金属
磁性粉末を簡単に製造することが出来る。
段階、すなわちwS1段階の還元を300〜360℃の
低温、第2段階の還元を380〜450℃の高温で製造
する事によりSiO2を0.4重量%以下にしたM2O
3被着金属磁性粉末でも、高Hcで、かつ高σSな金属
磁性粉末を簡単に製造することが出来る。
また、第1段階の還元温度(水分発生量)を制御するこ
とにより、α−Fe2O3を還元した後の水素ガスから
水分を除去した(完全に水分を除去するには高価な設備
が必要、)を再使用する場合でも、水素ガス中の水分除
去装置は完全に水分を除去する設備は必要ない、そのた
め、設備コストは安価になる。
とにより、α−Fe2O3を還元した後の水素ガスから
水分を除去した(完全に水分を除去するには高価な設備
が必要、)を再使用する場合でも、水素ガス中の水分除
去装置は完全に水分を除去する設備は必要ない、そのた
め、設備コストは安価になる。
第1図はα−Fe2O3を水素ガスで還元した時の還元
温度と、金属磁性粉末のHeの関係図、第2図はα−F
e2O3を熱天秤装置で、水素ガスで還元した時の還元
時間とα−Fe2O3還元率の関係図、第3図は2段階
還元法でα−Fe2O3を還元した時の還元時間とHe
の関係図(図中の温度は第1段階の還元温度を示す、第
2段階の還元温度は380℃で実施した。)、第4図は
2段階還元法でα−Fe2O3を還元した時の還元時間
と金属磁性粉末のHeの関係図(第1段階還元温度は3
30℃、図中の温度は第2段階の還元温度を示す、)、
第5図はWS4図の条件で還元時間と金属磁性粉末のσ
Sの関係図である。
温度と、金属磁性粉末のHeの関係図、第2図はα−F
e2O3を熱天秤装置で、水素ガスで還元した時の還元
時間とα−Fe2O3還元率の関係図、第3図は2段階
還元法でα−Fe2O3を還元した時の還元時間とHe
の関係図(図中の温度は第1段階の還元温度を示す、第
2段階の還元温度は380℃で実施した。)、第4図は
2段階還元法でα−Fe2O3を還元した時の還元時間
と金属磁性粉末のHeの関係図(第1段階還元温度は3
30℃、図中の温度は第2段階の還元温度を示す、)、
第5図はWS4図の条件で還元時間と金属磁性粉末のσ
Sの関係図である。
Claims (1)
- アルミニウム化合物を被着した針状α−Fe_2O_
3を水素ガスで加熱還元し、さらに表面層を酸化安定化
して金属磁性粉末を製造する方法に於いて、前記金属磁
性粉末に含有する不可避なSiO_2含有量を金属磁性
粉末重量当たり0.4%以下に制御し、かつ前記加熱還
元処理を300℃〜360℃でα−Fe_2O_3をF
e_3O_4に還元したのち、380℃〜450℃で還
元することを特徴とする金属磁性粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2080831A JP2634923B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 金属磁性粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2080831A JP2634923B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 金属磁性粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03283403A true JPH03283403A (ja) | 1991-12-13 |
JP2634923B2 JP2634923B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=13729352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2080831A Expired - Lifetime JP2634923B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 金属磁性粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2634923B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58161705A (ja) * | 1982-03-16 | 1983-09-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁性金属粉の製造法 |
JPS649604A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Kao Corp | Manufacture of ferromagnetic metal powder |
JPH01168801A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-04 | Tosoh Corp | 金属磁性粉末の製造方法 |
JPH0258809A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-28 | Dowa Mining Co Ltd | 磁気記録媒体用金属磁性粉の製造法 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2080831A patent/JP2634923B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58161705A (ja) * | 1982-03-16 | 1983-09-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁性金属粉の製造法 |
JPS649604A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Kao Corp | Manufacture of ferromagnetic metal powder |
JPH01168801A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-04 | Tosoh Corp | 金属磁性粉末の製造方法 |
JPH0258809A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-28 | Dowa Mining Co Ltd | 磁気記録媒体用金属磁性粉の製造法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2634923B2 (ja) | 1997-07-30 |
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