JPH0328334A - タンタルスクラップから高純度タンタル及びその誘導体の回収法 - Google Patents
タンタルスクラップから高純度タンタル及びその誘導体の回収法Info
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- JPH0328334A JPH0328334A JP1162580A JP16258089A JPH0328334A JP H0328334 A JPH0328334 A JP H0328334A JP 1162580 A JP1162580 A JP 1162580A JP 16258089 A JP16258089 A JP 16258089A JP H0328334 A JPH0328334 A JP H0328334A
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- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title claims description 49
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims abstract description 30
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 17
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- -1 tantalum alkoxide Chemical class 0.000 claims description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 13
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 9
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 9
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000039 congener Substances 0.000 claims description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract description 8
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 abstract description 6
- 229910004537 TaCl5 Inorganic materials 0.000 abstract 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 abstract 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical group CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 150000003481 tantalum Chemical class 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;tantalum Chemical compound [Ta].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004160 TaO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N dioxotantalum Chemical compound O=[Ta]=O NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I manganese(3+) 5,10,15-tris(1-methylpyridin-1-ium-4-yl)-20-(1-methylpyridin-4-ylidene)porphyrin-22-ide pentachloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mn+3].C1=CN(C)C=CC1=C1C(C=C2)=NC2=C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)C([N-]2)=CC=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C(C=C2)N=C2C(C=2C=C[N+](C)=CC=2)=C2N=C1C=C2 OHZZTXYKLXZFSZ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- VPDYSPXEGTXWEU-UHFFFAOYSA-K niobium(3+);trichloride Chemical compound Cl[Nb](Cl)Cl VPDYSPXEGTXWEU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、タンタルスクラップから高純度タンタル及び
タンタル誘導体の回収に関するものである。詳しくは、
Mn,FeSAl、Ni,Mg等を微量不純物として含
むタンタル含有スクラップから高純度のタンタル及びタ
ンタル誘導体を回収し、電子材料及び耐蝕材料として再
供給するものである。またさらに、今後のタンタル高純
度かつニオブを含まないことを特徴とする機能性材料の
展開においても期待される。
タンタル誘導体の回収に関するものである。詳しくは、
Mn,FeSAl、Ni,Mg等を微量不純物として含
むタンタル含有スクラップから高純度のタンタル及びタ
ンタル誘導体を回収し、電子材料及び耐蝕材料として再
供給するものである。またさらに、今後のタンタル高純
度かつニオブを含まないことを特徴とする機能性材料の
展開においても期待される。
[発明の背景]
タンタルの用途としては現在、70%がコンデンサー用
であり、世界においてタンタルコンデンサースクラップ
の発生は増加傾向にあり世界的に枯渇しているタンタル
をコンデンサー及び他のスクラップから高純度タンタル
及びタンタル誘導体を回収することは非常に大きな意味
を持つことになる。さらに、タンタルと同族元素である
ニオブの分離技術が完全には確立されておらず、電子材
料分野においては使用用途において限られている。
であり、世界においてタンタルコンデンサースクラップ
の発生は増加傾向にあり世界的に枯渇しているタンタル
をコンデンサー及び他のスクラップから高純度タンタル
及びタンタル誘導体を回収することは非常に大きな意味
を持つことになる。さらに、タンタルと同族元素である
ニオブの分離技術が完全には確立されておらず、電子材
料分野においては使用用途において限られている。
このようにニオブを含まないタンタルのユーザー要望に
対応すべく鋭意研究を進めた結果本発明を完成するに至
った。
対応すべく鋭意研究を進めた結果本発明を完成するに至
った。
[従来技術及びその問題点]
従来のタンタルスクラップからのタンタルの回収法は使
用済みタンタルコンデンサーを微粉化し被酸化性の酸浸
出により二酸化マンガンを除去した後、酸素を含むタン
タル粉末を固相真空脱ガス法または高真空電子ビーム溶
解法により精製高純度化する方法である。固相真空脱ガ
ス法及び高真空電子ビーム法では、タンタルの低級酸化
物( T a O ,T a O 2等)の蒸発により
、脱酸が進行する。また、この段階では酸浸出後のタン
タル粉末中の微量残存するMn及び他のFe,Ni等の
微量金属不純物を蒸発させ除去するという効果がある。
用済みタンタルコンデンサーを微粉化し被酸化性の酸浸
出により二酸化マンガンを除去した後、酸素を含むタン
タル粉末を固相真空脱ガス法または高真空電子ビーム溶
解法により精製高純度化する方法である。固相真空脱ガ
ス法及び高真空電子ビーム法では、タンタルの低級酸化
物( T a O ,T a O 2等)の蒸発により
、脱酸が進行する。また、この段階では酸浸出後のタン
タル粉末中の微量残存するMn及び他のFe,Ni等の
微量金属不純物を蒸発させ除去するという効果がある。
しかしながら、この方法ではタンタル中のニオブの分離
は出来ずまたタンタルロスが大きく経済性のあるプロセ
スとは言い難い。そのほか、スクラップコンデンサーを
水素−プラズマまたは水素雰囲気アーク溶解による方法
等もあるが前述の方法と同じくタンタル中のニオブの分
離精製までに至っていない。
は出来ずまたタンタルロスが大きく経済性のあるプロセ
スとは言い難い。そのほか、スクラップコンデンサーを
水素−プラズマまたは水素雰囲気アーク溶解による方法
等もあるが前述の方法と同じくタンタル中のニオブの分
離精製までに至っていない。
[発明の構或]
本発明者らは、前述の状況に鑑みタンタルの高純度化か
つニオブフリーの回収法に関して鋭意研究を進めた結果
、本発明を完威させるに至った。
つニオブフリーの回収法に関して鋭意研究を進めた結果
、本発明を完威させるに至った。
すなわち、本発明の第lの目的はタンタルスクラップを
、 a)250℃以上に加熱して直接塩素ガスと反応させ無
水塩化物を得る連続塩素化工程 b) a)工程で得られる塩化物の沸点差を利用し、
タンタル以外の低沸点物及び高沸点物を蒸留精製により
除去する工程 C) a)工程またはa)工程及びb)工程から得ら
れる五塩化タンタルを水素還元しタンタル同族元素であ
るニオブを分離除去して高純度五塩化タンタルを回収す
る工程 d) c)工程から得られた五塩化タンタルをアルコ
ールと反応させタンタルアルコキサイドを得る工程 からなることを特徴とする高純度タンタルアルコキサイ
ドの回収法を提供するものであり、第2の目的は、前記
方法により得られたタンタルアルコキサイドを必要に応
じこれに炭素を共存させ加水分゛解することを特徴とす
る高純度タンタル酸化物の回収法を提供するものであり
、また、第3の目的は前記方法により得られたタンタル
酸化物またはタンタルアルコキサイドを炭素を共存下に
加水分解して得たタンタル酸化物・炭素複合物を真空還
元することを特徴とする高純度タンタルの回収法を提供
するものである。
、 a)250℃以上に加熱して直接塩素ガスと反応させ無
水塩化物を得る連続塩素化工程 b) a)工程で得られる塩化物の沸点差を利用し、
タンタル以外の低沸点物及び高沸点物を蒸留精製により
除去する工程 C) a)工程またはa)工程及びb)工程から得ら
れる五塩化タンタルを水素還元しタンタル同族元素であ
るニオブを分離除去して高純度五塩化タンタルを回収す
る工程 d) c)工程から得られた五塩化タンタルをアルコ
ールと反応させタンタルアルコキサイドを得る工程 からなることを特徴とする高純度タンタルアルコキサイ
ドの回収法を提供するものであり、第2の目的は、前記
方法により得られたタンタルアルコキサイドを必要に応
じこれに炭素を共存させ加水分゛解することを特徴とす
る高純度タンタル酸化物の回収法を提供するものであり
、また、第3の目的は前記方法により得られたタンタル
酸化物またはタンタルアルコキサイドを炭素を共存下に
加水分解して得たタンタル酸化物・炭素複合物を真空還
元することを特徴とする高純度タンタルの回収法を提供
するものである。
次に、本発明を更に詳細に説明する。第1図に本発明の
フローを示したのでそれに基づいて説明する。一般に金
属と塩素の反応は進行することから本発明も大気圧下で
タンタルスクラップを250℃以上、好ましくは300
−500℃において直接塩素ガスを反応させ、塩素化反
応熱を利用し連続塩素化反応を生じせしめる。このとき
の塩素化反応式は一般的に M+nC 12−MC l2n として表され、各金属塩化物を生成し各金属塩化物は凝
縮器にて回収される。この時、高沸点塩化物は塩素化反
応装置下部に部分的に蓄積され定期的に排出除去される
。また不純物としての鉄、アルミニウムは塩化物出口に
食塩塔を設置することにより300℃以上、好ましくは
300−400℃にて難揮発性錯塩のFeNaC14及
びA I N a C I aとして分離除去される。
フローを示したのでそれに基づいて説明する。一般に金
属と塩素の反応は進行することから本発明も大気圧下で
タンタルスクラップを250℃以上、好ましくは300
−500℃において直接塩素ガスを反応させ、塩素化反
応熱を利用し連続塩素化反応を生じせしめる。このとき
の塩素化反応式は一般的に M+nC 12−MC l2n として表され、各金属塩化物を生成し各金属塩化物は凝
縮器にて回収される。この時、高沸点塩化物は塩素化反
応装置下部に部分的に蓄積され定期的に排出除去される
。また不純物としての鉄、アルミニウムは塩化物出口に
食塩塔を設置することにより300℃以上、好ましくは
300−400℃にて難揮発性錯塩のFeNaC14及
びA I N a C I aとして分離除去される。
この時外装被覆材等により反応開始に若干の間があるが
一端反応が生じると連続的に継続する。このように鉄、
アルミニウム及びニッケル、タングステン等の高沸点塩
化物を分離除去された五塩化タンタルは更に、四塩化珪
素等の低沸点塩化物を蒸留分離後、五塩化タンタル沸点
242℃にて蒸留精製し高沸点塩化物から常圧蒸留分離
する。以上の操作から得られたニオプ以外の不純物は除
去され高純度の五塩化タンタルとなっている。しかしな
がら、当該五塩化タンタルは五塩化ニオプ沸点254℃
と非常に近接しており十分な分離精製は困難である。我
々はこの点において鋭意研究を進めた結果、五塩化ニオ
プと水素との反応により三八塩化二オブ生或ならびに五
塩化タンタルがこの還元反応に関与しない熱力学的条件
下にてニオブを析出分離除去することを見いだし、本発
明を完威するに至った。五塩化二オブと水素の反応にお
いては、塩素の配位数の異なった低級塩化物が生成され
るが、本発明においては反応温度4 0 0−6 0
0℃、好ましくは500−580℃にて五塩化ニオブを
ガスーガス還元することにより三八塩化ニオブを析出分
離除去することができる。このとき同時に五塩化タンタ
ルは反応系外に排出され、凝縮器にてニオブを含まない
高純度五塩化タンタルとして得ることが出来る。
一端反応が生じると連続的に継続する。このように鉄、
アルミニウム及びニッケル、タングステン等の高沸点塩
化物を分離除去された五塩化タンタルは更に、四塩化珪
素等の低沸点塩化物を蒸留分離後、五塩化タンタル沸点
242℃にて蒸留精製し高沸点塩化物から常圧蒸留分離
する。以上の操作から得られたニオプ以外の不純物は除
去され高純度の五塩化タンタルとなっている。しかしな
がら、当該五塩化タンタルは五塩化ニオプ沸点254℃
と非常に近接しており十分な分離精製は困難である。我
々はこの点において鋭意研究を進めた結果、五塩化ニオ
プと水素との反応により三八塩化二オブ生或ならびに五
塩化タンタルがこの還元反応に関与しない熱力学的条件
下にてニオブを析出分離除去することを見いだし、本発
明を完威するに至った。五塩化二オブと水素の反応にお
いては、塩素の配位数の異なった低級塩化物が生成され
るが、本発明においては反応温度4 0 0−6 0
0℃、好ましくは500−580℃にて五塩化ニオブを
ガスーガス還元することにより三八塩化ニオブを析出分
離除去することができる。このとき同時に五塩化タンタ
ルは反応系外に排出され、凝縮器にてニオブを含まない
高純度五塩化タンタルとして得ることが出来る。
これらの過程を化学反応式にて述べるとNbC 15(
g> +1/2H2(g)−NbC14(g)・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・(1)7NbC14(g)− Nb C l8(s)+4NbC l5(g)−(2
)3 となり、(2)式の反応速度は早く(1)式の反応が律
速となっている。この(1)及び(2)の反応において
共存する五塩化タンタルは、反応に関与せず三八塩化二
オブ生成ゾーンから系外へ排出されニオブを析出分離す
ることが出来る。設定温度以上においては、三八塩化二
オブよりさらに低級塩化物(非常に不安定)生或及び不
均化反応が生じ所望の塩化物は得られず、ニオブ塩化物
は五塩化タンタルと共に反応系外に排出され二オブ分離
精製効果は上がらない。このようにして回収された高純
度五塩化タンタルはアルコールとの反応及びアンモニア
またはアミン等の中和剤にて副生塩酸を中和することか
らタンタルは容易に高純度タンタルアルコキサイドとし
て回収できる。この反応は T a C 1 s + 5 R O H= T a
( O R ) 5+5 H C 1・・・・・・・・
・・・・・・・(1)HC 1+N}13−NHC 1
4・・・・・・・・・・・・・・・(2)(1)および
(2)式からなり、副生塩化アンモニウムは濾別分離に
よりタンタルアルコキサイドが回収される。この反応に
おいて、アルコールは特に限定するものではなく、エチ
ルアルコール,プロビルアルコール,ブチルアルコール
等が好ましく用いられる。この反応から得られたアルコ
キサイドは過剰のアルコール、ベンゼンが共存しており
、容易に減圧蒸留にてこの混合溶媒を回収リサイクルす
ることができかつタンタルアルコキサイドの商品化とな
り、アルコキサイドはCvD材料等へ供給される。. 次にこのアルコキサイドに水を添加し加水分解反応を行
わせることにより従来法のタンタル酸化物を得るために
用いられた中和剤すなわちアルカリ、アルカリ土類金属
の汚染を伴わないタンタル酸化物かつサブミクロンオー
ダーの超微粉が回収できる。この反応は T a ( O R ) + 5 H 2 05 一Ta205+5ROH・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・(3)で表され、この加水分解反応段階
において金属化に対処すべく微粉活性炭を水と同時添加
することにより均質超微粒子の酸化物・炭素複合体が得
られ、真空炉温度1300℃にて、従来にない低温での
タンタル酸化物の還元ができる。この還元反応は Ta205+5C−2Nb+5CO−・・−(4)で表
され、高純度かつニオブを含まない金属タンタルが回収
される。
g> +1/2H2(g)−NbC14(g)・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・(1)7NbC14(g)− Nb C l8(s)+4NbC l5(g)−(2
)3 となり、(2)式の反応速度は早く(1)式の反応が律
速となっている。この(1)及び(2)の反応において
共存する五塩化タンタルは、反応に関与せず三八塩化二
オブ生成ゾーンから系外へ排出されニオブを析出分離す
ることが出来る。設定温度以上においては、三八塩化二
オブよりさらに低級塩化物(非常に不安定)生或及び不
均化反応が生じ所望の塩化物は得られず、ニオブ塩化物
は五塩化タンタルと共に反応系外に排出され二オブ分離
精製効果は上がらない。このようにして回収された高純
度五塩化タンタルはアルコールとの反応及びアンモニア
またはアミン等の中和剤にて副生塩酸を中和することか
らタンタルは容易に高純度タンタルアルコキサイドとし
て回収できる。この反応は T a C 1 s + 5 R O H= T a
( O R ) 5+5 H C 1・・・・・・・・
・・・・・・・(1)HC 1+N}13−NHC 1
4・・・・・・・・・・・・・・・(2)(1)および
(2)式からなり、副生塩化アンモニウムは濾別分離に
よりタンタルアルコキサイドが回収される。この反応に
おいて、アルコールは特に限定するものではなく、エチ
ルアルコール,プロビルアルコール,ブチルアルコール
等が好ましく用いられる。この反応から得られたアルコ
キサイドは過剰のアルコール、ベンゼンが共存しており
、容易に減圧蒸留にてこの混合溶媒を回収リサイクルす
ることができかつタンタルアルコキサイドの商品化とな
り、アルコキサイドはCvD材料等へ供給される。. 次にこのアルコキサイドに水を添加し加水分解反応を行
わせることにより従来法のタンタル酸化物を得るために
用いられた中和剤すなわちアルカリ、アルカリ土類金属
の汚染を伴わないタンタル酸化物かつサブミクロンオー
ダーの超微粉が回収できる。この反応は T a ( O R ) + 5 H 2 05 一Ta205+5ROH・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・(3)で表され、この加水分解反応段階
において金属化に対処すべく微粉活性炭を水と同時添加
することにより均質超微粒子の酸化物・炭素複合体が得
られ、真空炉温度1300℃にて、従来にない低温での
タンタル酸化物の還元ができる。この還元反応は Ta205+5C−2Nb+5CO−・・−(4)で表
され、高純度かつニオブを含まない金属タンタルが回収
される。
以下、本発明の実施例を示し、具体的に説明する。
実施例1
表−1.タンタルコンデンサースクラップ組成表−3
高純度五塩化ニオプ 表−1に示したタンタルスクラップを、第2図に示した
石英製塩素化精製装置に500g挿入後窒素ガスにて空
気を置換したのち温度250℃に昇温後、塩素800−
1000ml/minの速度にて流し、表−2に示した
組成の塩化物を得た。
高純度五塩化ニオプ 表−1に示したタンタルスクラップを、第2図に示した
石英製塩素化精製装置に500g挿入後窒素ガスにて空
気を置換したのち温度250℃に昇温後、塩素800−
1000ml/minの速度にて流し、表−2に示した
組成の塩化物を得た。
表−2 精製五塩化タンタル不純物分析値W, Zr
. Cu, Mg, Sn, Na, Ca
,Co,V. ・・・・・・ND 次にT I C 1 4等の低沸点塩化物を分離すべく
230−240℃にて常圧蒸留をおこない、更に温度2
45℃にあげ五塩化タンタルの蒸留分離を行い表−3に
示した高純度五塩化タンタルを回収した。
. Cu, Mg, Sn, Na, Ca
,Co,V. ・・・・・・ND 次にT I C 1 4等の低沸点塩化物を分離すべく
230−240℃にて常圧蒸留をおこない、更に温度2
45℃にあげ五塩化タンタルの蒸留分離を行い表−3に
示した高純度五塩化タンタルを回収した。
この段階ではニオプは完全に除去されておらず、第3図
に示した水素還元装置を用い、還元温度;550℃、■
流量; 6 2 ml / m in s N 2流
量;2 62ml/min,塩化物追出温度;245℃の条件に
て反応を行わせ還元1段目及び還元2段目においてニオ
ブを析出分離した。
に示した水素還元装置を用い、還元温度;550℃、■
流量; 6 2 ml / m in s N 2流
量;2 62ml/min,塩化物追出温度;245℃の条件に
て反応を行わせ還元1段目及び還元2段目においてニオ
ブを析出分離した。
凝縮器にて回収した五塩化タンタルの不純物分析値を表
−4に示した。
−4に示した。
表−4 五塩化タンタル中の不純物(PPM)次に得ら
れた五塩化タンタル;50グラムをN−ブタノール;1
00mlおよびベンゼン3 0 0 ml混合溶液に加
えて反応させ、さらにアンモニアガスを吹き込み、塩化
アンモニウム白色沈殿を濾別したのち200トールにて
、47℃でベンゼンを除去し、82℃にてアルコールを
蒸留分離し最終的に120℃まで加熱精製し高純度のタ
ンタルブトキサイドを得た。
れた五塩化タンタル;50グラムをN−ブタノール;1
00mlおよびベンゼン3 0 0 ml混合溶液に加
えて反応させ、さらにアンモニアガスを吹き込み、塩化
アンモニウム白色沈殿を濾別したのち200トールにて
、47℃でベンゼンを除去し、82℃にてアルコールを
蒸留分離し最終的に120℃まで加熱精製し高純度のタ
ンタルブトキサイドを得た。
表−5 タンタルアルコキサイド中の不純物(PPM)
一6に得られた高純度タンタルの不純物分析値を示した
。
。
表−6 高純度金属タンタルの不純物分析値(PPM)
さらに0.2M−タンタルブトキサイドのブタノール溶
液1 0 0 0 mlとIM一水ブタノール1000
mlを混合し、常温にて加水分解反応を行い生成白色沈
殿を遠心分離、水洗を繰り返した後、真空乾燥により粒
径分布0.2−0.5μmのタンタル酸化物の超微分を
得た。
液1 0 0 0 mlとIM一水ブタノール1000
mlを混合し、常温にて加水分解反応を行い生成白色沈
殿を遠心分離、水洗を繰り返した後、真空乾燥により粒
径分布0.2−0.5μmのタンタル酸化物の超微分を
得た。
また、0.2M−タンタルプトキサイドのプタノール溶
液1000mlに5、4グラムの活性炭を混合し、IM
一水のブタノール溶液を加え加水分解させ沈殿を遠心分
離、水洗、真空乾燥を行い活性炭を核にしたタンタル・
活性炭複合体を回収した。得られた複合粉体をプレスに
て10關φ*5lIm Hの円盤成形し、真空還元炉に
て1300℃にて還元が進行し高純度の金属タンタルを
得た。表[発明の効果] 本発明は、タンタルスクラップから高純度タンタル及び
タンタル誘導体が容易に回収でき、資源のリサイクル及
び付加価値の増大が可能となる。
液1000mlに5、4グラムの活性炭を混合し、IM
一水のブタノール溶液を加え加水分解させ沈殿を遠心分
離、水洗、真空乾燥を行い活性炭を核にしたタンタル・
活性炭複合体を回収した。得られた複合粉体をプレスに
て10關φ*5lIm Hの円盤成形し、真空還元炉に
て1300℃にて還元が進行し高純度の金属タンタルを
得た。表[発明の効果] 本発明は、タンタルスクラップから高純度タンタル及び
タンタル誘導体が容易に回収でき、資源のリサイクル及
び付加価値の増大が可能となる。
l〉 同族元素であるニオブを含まない、ニオプフリー
の高純度タンタル及び誘導体が回収できる。
の高純度タンタル及び誘導体が回収できる。
2)無水塩化物を経由することから
◆機能性材料の出発原料であるアルコキサイドを容易に
高純度で製造できる。
高純度で製造できる。
・超微分酸化物がアルカリ・アルカリ土類金属の汚染な
くして容易に製造できる。
くして容易に製造できる。
これらの点から、新たな新機能性を開発することができ
、かつ、ニオブフリーからの機能性の解明に寄与するこ
とができる。
、かつ、ニオブフリーからの機能性の解明に寄与するこ
とができる。
第1図は本発明のタンタル及びタンタル誘導体の回収フ
ローチャートを示すものであり、第2図は本発明の一実
施例で用いる塩素化・精製装置の概念図を、第3図は本
発明の一実施例で用いる水素還元装置の概念図を示すも
のである。 l・・・塩素化塔、 2・・・食塩塔3・・・凝
縮器、 4・・・塩化物蒸発器5・・・還元回
収塔1段目、6・・・還元回収塔2段目7・・・未反応
塩化物回収トラップ
ローチャートを示すものであり、第2図は本発明の一実
施例で用いる塩素化・精製装置の概念図を、第3図は本
発明の一実施例で用いる水素還元装置の概念図を示すも
のである。 l・・・塩素化塔、 2・・・食塩塔3・・・凝
縮器、 4・・・塩化物蒸発器5・・・還元回
収塔1段目、6・・・還元回収塔2段目7・・・未反応
塩化物回収トラップ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、タンタルスクラップを、 a)250℃以上に加熱して直接塩素ガスと反応させ無
水塩化物を得る連続塩素化工程 b)a)工程で得られる塩化物の沸点差を利用し、タン
タル以外の低沸点物及び高沸点物を蒸留精製により除去
する工程 c)a)工程またはa)工程及びb)工程から得られる
五塩化タンタルを水素還元しタンタル同族元素であるニ
オブを分離除去して五塩化タンタルを回収する工程 d)c)工程から得られた五塩化タンタルをアルコール
と反応させタンタルアルコキサイドを得る工程 からなることを特徴とする高純度タンタルアルコキサイ
ドの回収法。 2、特許請求の範囲第1項で得られたタンタルアルコキ
サイドを必要に応じこれに炭素を共存させ加水分解する
ことを特徴とする高純度タンタル酸化物の回収法。 3、特許請求の範囲第2項で得られたタンタル酸化物ま
たはタンタルアルコキサイドを炭素を共存下に加水分解
して得たタンタル酸化物・炭素複合物を真空還元するこ
とを特徴とする高純度タンタルの回収法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16258089A JP2894725B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | タンタルスクラップから高純度タンタル及びその誘導体の回収法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16258089A JP2894725B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | タンタルスクラップから高純度タンタル及びその誘導体の回収法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0328334A true JPH0328334A (ja) | 1991-02-06 |
JP2894725B2 JP2894725B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=15757291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16258089A Expired - Fee Related JP2894725B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | タンタルスクラップから高純度タンタル及びその誘導体の回収法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2894725B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007277091A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-10-25 | Dowa Holdings Co Ltd | 酸化タンタルおよびその製造方法 |
JP2008231509A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Toho Titanium Co Ltd | 高純度金属およびその製造方法 |
US7981191B2 (en) | 2007-10-15 | 2011-07-19 | Hi-Temp Specialty Metals, Inc. | Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material |
WO2019187836A1 (ja) | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 東邦チタニウム株式会社 | タンタル塩化物および、タンタル塩化物の製造方法 |
CN111270080A (zh) * | 2020-04-15 | 2020-06-12 | 云南锡业股份有限公司铜业分公司 | 一种高效回收焊锡电解阳极泥中有价金属的系统及方法 |
CN111321301A (zh) * | 2020-04-15 | 2020-06-23 | 云南锡业股份有限公司铜业分公司 | 一种高效回收锡二次原料中有价金属的系统及方法 |
CN112723393A (zh) * | 2021-01-04 | 2021-04-30 | 湖南省华京粉体材料有限公司 | 一种从废钽/铌酸锂中制备高纯五氯化钽/铌和氯化锂的方法 |
CN115974156A (zh) * | 2023-03-03 | 2023-04-18 | 李静 | 一种五氯化钽的提纯方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102508852B1 (ko) * | 2016-02-18 | 2023-03-09 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 염화탄탈륨 제조 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61155222A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-14 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | ニオブとタンタルの分離法 |
JPS62223020A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-10-01 | Tosoh Corp | ニオブとタンタルの分離方法 |
JPS6475632A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-22 | Tosoh Corp | Recovering method for tantalum from scrap tantalum |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP16258089A patent/JP2894725B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61155222A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-14 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | ニオブとタンタルの分離法 |
JPS62223020A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-10-01 | Tosoh Corp | ニオブとタンタルの分離方法 |
JPS6475632A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-22 | Tosoh Corp | Recovering method for tantalum from scrap tantalum |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008231509A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Toho Titanium Co Ltd | 高純度金属およびその製造方法 |
JP2007277091A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-10-25 | Dowa Holdings Co Ltd | 酸化タンタルおよびその製造方法 |
US7981191B2 (en) | 2007-10-15 | 2011-07-19 | Hi-Temp Specialty Metals, Inc. | Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material |
WO2019187836A1 (ja) | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 東邦チタニウム株式会社 | タンタル塩化物および、タンタル塩化物の製造方法 |
KR20200138161A (ko) | 2018-03-28 | 2020-12-09 | 도호 티타늄 가부시키가이샤 | 탄탈 염화물 및 탄탈 염화물의 제조 방법 |
CN111270080A (zh) * | 2020-04-15 | 2020-06-12 | 云南锡业股份有限公司铜业分公司 | 一种高效回收焊锡电解阳极泥中有价金属的系统及方法 |
CN111321301A (zh) * | 2020-04-15 | 2020-06-23 | 云南锡业股份有限公司铜业分公司 | 一种高效回收锡二次原料中有价金属的系统及方法 |
CN112723393A (zh) * | 2021-01-04 | 2021-04-30 | 湖南省华京粉体材料有限公司 | 一种从废钽/铌酸锂中制备高纯五氯化钽/铌和氯化锂的方法 |
CN112723393B (zh) * | 2021-01-04 | 2023-09-26 | 湖南省华京粉体材料有限公司 | 一种从废钽/铌酸锂中制备高纯五氯化钽/铌和氯化锂的方法 |
CN115974156A (zh) * | 2023-03-03 | 2023-04-18 | 李静 | 一种五氯化钽的提纯方法 |
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---|---|
JP2894725B2 (ja) | 1999-05-24 |
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