JPH03283018A - 磁気ディスク用カーボン基板のテクスチャー処理方法 - Google Patents
磁気ディスク用カーボン基板のテクスチャー処理方法Info
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- JPH03283018A JPH03283018A JP2083137A JP8313790A JPH03283018A JP H03283018 A JPH03283018 A JP H03283018A JP 2083137 A JP2083137 A JP 2083137A JP 8313790 A JP8313790 A JP 8313790A JP H03283018 A JPH03283018 A JP H03283018A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 53
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 abstract 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 10
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 8
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野）
磁気ディスクへの書き込み、あるいはその再生を行う際
に、ディスク静止時において磁気ヘッド浮揚面と磁気デ
ィスク表面との吸着が生じることがある。この吸着現象
を防止するため、磁気ディスク用基板を表面研磨した後
、その表面を粗面化するテクスチャー（ｔｅｘｔｕｒｅ
）処理が行われる。この発明は、このような磁気ディス
ク用基板のテクスチャー処理方法に係り、特に、カーボ
ン基板のテクスチャー処理方法に関するものである。
に、ディスク静止時において磁気ヘッド浮揚面と磁気デ
ィスク表面との吸着が生じることがある。この吸着現象
を防止するため、磁気ディスク用基板を表面研磨した後
、その表面を粗面化するテクスチャー（ｔｅｘｔｕｒｅ
）処理が行われる。この発明は、このような磁気ディス
ク用基板のテクスチャー処理方法に係り、特に、カーボ
ン基板のテクスチャー処理方法に関するものである。
〔従来の技術）
上述したような吸着現象は、磁気ヘット浮揚面と磁気デ
ィスク表面が極めて平滑で微小間隔で対面しているとき
に、その間が０７、Ｎ２．１１ｔＯ等の分子により埋め
つくされて界面張力による大きな吸着力が発生すること
に起因している。このヘッド吸着が発生すると、モータ
起動時に多大の電力を消費する等の不具合が生じる。
ィスク表面が極めて平滑で微小間隔で対面しているとき
に、その間が０７、Ｎ２．１１ｔＯ等の分子により埋め
つくされて界面張力による大きな吸着力が発生すること
に起因している。このヘッド吸着が発生すると、モータ
起動時に多大の電力を消費する等の不具合が生じる。
このような吸着現象を防ぐ目的で、基板の上に磁性膜な
どを形成するに先立ち、基板表面をいったん鏡面仕上げ
した後、その表面を粗くして適当な表面粗さに調整する
ためのテクスチャー処理が行われている。このテクスチ
ャー処理方法としては、従来、次のような方法が採られ
ている。
どを形成するに先立ち、基板表面をいったん鏡面仕上げ
した後、その表面を粗くして適当な表面粗さに調整する
ためのテクスチャー処理が行われている。このテクスチ
ャー処理方法としては、従来、次のような方法が採られ
ている。
すなわち、炭化ケイ素、アルミナ、あるいはダイヤモン
ドの砥粒を付着させた研磨テープを使用し、ＮｉＰめっ
き基板を回転させた状態で、研磨テープをテープ裏面側
からロールで押し付けながら基板径方向に接触移動させ
、基板表面に同心円状の条こんを付け、いわゆるテクス
チャー付き基板を得るようにしている。
ドの砥粒を付着させた研磨テープを使用し、ＮｉＰめっ
き基板を回転させた状態で、研磨テープをテープ裏面側
からロールで押し付けながら基板径方向に接触移動させ
、基板表面に同心円状の条こんを付け、いわゆるテクス
チャー付き基板を得るようにしている。
しかしながら、上記従来の方法では、基板表面を適当な
表面粗さに調整して粗面化することが難しく必要以上に
粗くなり易いという問題が生じている。そのため、従来
のテクスチャー処理方法によって粗面化された基板を用
いた磁気ディスクにおいては、高記録密度化に対処する
ための磁気ヘッドの浮上高さ（スペーシング）をより小
さくし得なかった。
表面粗さに調整して粗面化することが難しく必要以上に
粗くなり易いという問題が生じている。そのため、従来
のテクスチャー処理方法によって粗面化された基板を用
いた磁気ディスクにおいては、高記録密度化に対処する
ための磁気ヘッドの浮上高さ（スペーシング）をより小
さくし得なかった。
ところで、この記録密度を向上させるために磁気ディス
ク用基板に要求される特性としての高硬度、耐熱性、侵
れた表面精度、軽量性を備えた基板として、カーボン基
板（アモルファスカーボン基板）が提案されている（神
戸製鋼技報、Ｖｏｌ、３９、隘４．３５〜３８頁、１９
８９） 。
ク用基板に要求される特性としての高硬度、耐熱性、侵
れた表面精度、軽量性を備えた基板として、カーボン基
板（アモルファスカーボン基板）が提案されている（神
戸製鋼技報、Ｖｏｌ、３９、隘４．３５〜３８頁、１９
８９） 。
こうした状況のもとで、本発明者らは、カーボン基板の
持つ性質に着目してテクスチャー処理方法の研究を重ね
た結果、カーボン基板を酸化性雰囲気中にて所定の温度
で加熱処理することにより、前記問題点を解決し得るこ
とを見出し、この発明に到達したのである。
持つ性質に着目してテクスチャー処理方法の研究を重ね
た結果、カーボン基板を酸化性雰囲気中にて所定の温度
で加熱処理することにより、前記問題点を解決し得るこ
とを見出し、この発明に到達したのである。
すなわち、この発明は、表面研磨された磁気ディスク用
カーボン基板の表面を必要以上に粗くすることなく容易
に適当な表面粗さに粗面化することができる、磁気ディ
スク用カーボン基板のテクスチャー処理方法の擢供を目
的とする。
カーボン基板の表面を必要以上に粗くすることなく容易
に適当な表面粗さに粗面化することができる、磁気ディ
スク用カーボン基板のテクスチャー処理方法の擢供を目
的とする。
上記の目的を達成するために、この発明による磁気ディ
スク用カーボン基板のテクスチャー処理方法は、表面研
磨された磁気ディスク用カーボン基板を酸化性雰囲気中
にて４００〜７００℃の温度で加熱処理することにより
、前記カーボン基板の表面を粗面化するようにしたこと
を特徴としている。
スク用カーボン基板のテクスチャー処理方法は、表面研
磨された磁気ディスク用カーボン基板を酸化性雰囲気中
にて４００〜７００℃の温度で加熱処理することにより
、前記カーボン基板の表面を粗面化するようにしたこと
を特徴としている。
〔作 用］
表面研磨されたカーボン基板を酸化性雰囲気中にて４０
０℃以上の温度に加熱すると、Ｃ＋Ｏｚ→ＣＯｚの酸化
反応が起こり、カーボンがガス化されてその研磨面に微
細な波状の凹凸が形成される。これにより、加熱処理条
件を選択することにより表面研磨されたカーボン基板表
面を必要以上に粗くすることなく容易に適度に粗面化す
ることができる。
０℃以上の温度に加熱すると、Ｃ＋Ｏｚ→ＣＯｚの酸化
反応が起こり、カーボンがガス化されてその研磨面に微
細な波状の凹凸が形成される。これにより、加熱処理条
件を選択することにより表面研磨されたカーボン基板表
面を必要以上に粗くすることなく容易に適度に粗面化す
ることができる。
また、この発明においては加熱処理温度は４００〜７０
０℃の範囲が適当である。４００℃より低い温度ではカ
ーボン基板表面の粗面化に長時間を要し、７００℃を超
えると表面粗さが粗くなり過ぎ易いためである。
０℃の範囲が適当である。４００℃より低い温度ではカ
ーボン基板表面の粗面化に長時間を要し、７００℃を超
えると表面粗さが粗くなり過ぎ易いためである。
以下、実施例に基づいてこの発明を説明する。
まず、磁気ディスク用カーボン基板の作製について説明
すると、炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化性樹脂
であるフェノール・フォルムアルデヒド樹脂を磁気ディ
スク形状にホットプレス成形した後、これをＮ、ガス雰
囲気中で１５００℃の温度に加熱して予備焼成した０次
いで、これを熱間静水圧加圧装置（ＨＩＰ）を使用して
２６００℃に加熱しつつ１８００気圧の等友釣圧力を加
えて１１１Ｐ処理する。この得られた成形体に所定の端
面加工、表面鏡面仕上げを施して表面粗さがＲａ２０〜
２３人の直径３．５インチの磁気ディスク用カーボン基
板とした。
すると、炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化性樹脂
であるフェノール・フォルムアルデヒド樹脂を磁気ディ
スク形状にホットプレス成形した後、これをＮ、ガス雰
囲気中で１５００℃の温度に加熱して予備焼成した０次
いで、これを熱間静水圧加圧装置（ＨＩＰ）を使用して
２６００℃に加熱しつつ１８００気圧の等友釣圧力を加
えて１１１Ｐ処理する。この得られた成形体に所定の端
面加工、表面鏡面仕上げを施して表面粗さがＲａ２０〜
２３人の直径３．５インチの磁気ディスク用カーボン基
板とした。
次に、ステンレス製トレイに収められた２５枚のカーボ
ン基板を電気炉内に入れ、大気雰囲気中にて後記の第１
表に示す熱処理温度、熱処理時間毎ζこ２５枚づつのカ
ーボン基板を加熱し、テクスチャー処理を行った。また
、比較のため、同じくＲａ２０〜２３人の表面粗さに鏡
面仕上げされたカーボン基板に先に説明した研磨テープ
を使用してテクスチャー処理した。なお、この研磨テー
プによるテクスチャー処理条件は、研磨テープ二６００
０番、押し付は圧カニ２Ｋｇ、基板回転数＝８０Ｏｒｐ
ｍ、ロール硬度：９０、処理時間：２分とした。
ン基板を電気炉内に入れ、大気雰囲気中にて後記の第１
表に示す熱処理温度、熱処理時間毎ζこ２５枚づつのカ
ーボン基板を加熱し、テクスチャー処理を行った。また
、比較のため、同じくＲａ２０〜２３人の表面粗さに鏡
面仕上げされたカーボン基板に先に説明した研磨テープ
を使用してテクスチャー処理した。なお、この研磨テー
プによるテクスチャー処理条件は、研磨テープ二６００
０番、押し付は圧カニ２Ｋｇ、基板回転数＝８０Ｏｒｐ
ｍ、ロール硬度：９０、処理時間：２分とした。
テクスチャー処理後、カーボン基板の表面粗さＲａを測
定した。その結果を第１表に示す。
定した。その結果を第１表に示す。
第１表
テクスチャー処理後の基板表面粗さ（入）（以下、余白
） 第１表から判るように、この発明によるテクスチャー処
理によれば、加熱処理温度を４００〜７００℃の範囲と
してその加熱処理時間を適当に選択することにより、太
線で囲まれた範囲で示すように、鏡面研磨されたカーボ
ン基板の表面粗さをＲａ３０〜１００程度の範囲に調整
することができた。なお、４００℃程度の比較的低温側
の条件でテクスチャー処理する場合には、酸素濃度を上
げるようにして処理時間を短縮するようにしてもよい。
） 第１表から判るように、この発明によるテクスチャー処
理によれば、加熱処理温度を４００〜７００℃の範囲と
してその加熱処理時間を適当に選択することにより、太
線で囲まれた範囲で示すように、鏡面研磨されたカーボ
ン基板の表面粗さをＲａ３０〜１００程度の範囲に調整
することができた。なお、４００℃程度の比較的低温側
の条件でテクスチャー処理する場合には、酸素濃度を上
げるようにして処理時間を短縮するようにしてもよい。
次に、テクスチャー処理したカーボン基板を使用して磁
気ディスクを作製し、ダイナミックフリクションテスタ
ーにて磁気ヘッド浮揚面と磁気ディスク表面との吸着試
験（スティッキング試験）を行った。すなわち、鏡面研
磨されたカーボン基板に５００℃×６０分、６００℃Ｘ
１０分、７００℃Ｘ５分の各加熱処理条件でテクスチャ
ー処理を施し、しかる後、このテクスチャー処理された
各カーボン基板上に、厚み１５００人のＣｒ下地膜と、
厚み６００人のＣｏＮｉＣｒ磁性膜と、厚み５００人の
Ｃ保護膜とをスパッタ法により順次形成して磁気ディス
クを作製した。なお、比較のため、研磨テープを使用し
てテクスチャー処理したカーボン基板とテクスチャー処
理なしのカーボン基板の上にも上記と同様の各膜を形成
して比較用の磁気ディスクを作製し、同様に吸着試験を
行った。
気ディスクを作製し、ダイナミックフリクションテスタ
ーにて磁気ヘッド浮揚面と磁気ディスク表面との吸着試
験（スティッキング試験）を行った。すなわち、鏡面研
磨されたカーボン基板に５００℃×６０分、６００℃Ｘ
１０分、７００℃Ｘ５分の各加熱処理条件でテクスチャ
ー処理を施し、しかる後、このテクスチャー処理された
各カーボン基板上に、厚み１５００人のＣｒ下地膜と、
厚み６００人のＣｏＮｉＣｒ磁性膜と、厚み５００人の
Ｃ保護膜とをスパッタ法により順次形成して磁気ディス
クを作製した。なお、比較のため、研磨テープを使用し
てテクスチャー処理したカーボン基板とテクスチャー処
理なしのカーボン基板の上にも上記と同様の各膜を形成
して比較用の磁気ディスクを作製し、同様に吸着試験を
行った。
（以下、余白）
第２表
（以下、余白）
吸着試験の結果を第２表に示す。第２表から理解される
ように、従来の研磨テープを用いる方法でテクスチャー
処理されたカーボン基板を使用した磁気ディスクにおい
ては、この実施例の条件では吸着現象は発生しなかった
が、磁気ヘッド浮上高さは０．２μｍまでしか実現でき
なかった。
ように、従来の研磨テープを用いる方法でテクスチャー
処理されたカーボン基板を使用した磁気ディスクにおい
ては、この実施例の条件では吸着現象は発生しなかった
が、磁気ヘッド浮上高さは０．２μｍまでしか実現でき
なかった。
これに対してこの発明によるテクスチャー処理が施され
たカーボン基板を使用した磁気ディスクにおいては、磁
気ヘッド吸着を起こすことなく磁気ヘッド浮上高さを０
．１μｍ以下とすることができた。
たカーボン基板を使用した磁気ディスクにおいては、磁
気ヘッド吸着を起こすことなく磁気ヘッド浮上高さを０
．１μｍ以下とすることができた。
以上説明したように、この発明による磁気ディスク用カ
ーボン基板のテクスチャー処理方法では、表面研磨され
た磁気ディスク用カーボン基板を酸化性雰囲気中にて４
００〜７００℃の温度で加熱処理するようにしたので、
この加熱処理によってカーボンがガス化されてその研磨
面に微細な波状の凹凸が形成され、表面研磨されたカー
ボン基板の表面を必要以上に粗くすることなく容易に適
当な表面粗さに粗面化することができる。また、このテ
クスチャー処理方法は工業的に極めて簡便であり、従来
のそれに比べて量産性に優れているという効果も得られ
る。
ーボン基板のテクスチャー処理方法では、表面研磨され
た磁気ディスク用カーボン基板を酸化性雰囲気中にて４
００〜７００℃の温度で加熱処理するようにしたので、
この加熱処理によってカーボンがガス化されてその研磨
面に微細な波状の凹凸が形成され、表面研磨されたカー
ボン基板の表面を必要以上に粗くすることなく容易に適
当な表面粗さに粗面化することができる。また、このテ
クスチャー処理方法は工業的に極めて簡便であり、従来
のそれに比べて量産性に優れているという効果も得られ
る。
これにより、この発明によれば、この発明によるテクス
チャー処理を施したカーボン基板を用いて作製した磁気
ディスクは磁気ディスク装置に適用するにあたり磁気ヘ
ッド浮上高さを０．１μｍ以下とすることが可能となり
、高記録密度化に寄与することができる。
チャー処理を施したカーボン基板を用いて作製した磁気
ディスクは磁気ディスク装置に適用するにあたり磁気ヘ
ッド浮上高さを０．１μｍ以下とすることが可能となり
、高記録密度化に寄与することができる。
Claims (1)
- （１）表面研磨された磁気ディスク用カーボン基板を酸
化性雰囲気中にて４００〜７００℃の温度で加熱処理す
ることにより、前記カーボン基板の表面を粗面化するよ
うにしたことを特徴とする、磁気ディスク用カーボン基
板のテクスチャー処理方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2083137A JPH0713841B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 磁気ディスク用カーボン基板のテクスチャー処理方法 |
| DE4109939A DE4109939C2 (de) | 1990-03-29 | 1991-03-26 | Amorphes Kohlenstoffsubstrat für eine Magnetplatte und Verfahren zur Herstellung desselben |
| GB9106590A GB2242423B (en) | 1990-03-29 | 1991-03-28 | Amorphous carbon substrate for a magnetic disk and a method of manufacturing the same |
| US07/676,569 US5326607A (en) | 1990-03-29 | 1991-03-28 | Amorphous carbon substrate for a magnetic disk and a method of manufacturing the same |
| GB9401690A GB2274839B (en) | 1990-03-29 | 1994-01-28 | Amorphous carbon substrate for a magnetic disk and a method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2083137A JPH0713841B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 磁気ディスク用カーボン基板のテクスチャー処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03283018A true JPH03283018A (ja) | 1991-12-13 |
| JPH0713841B2 JPH0713841B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=13793816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2083137A Expired - Lifetime JPH0713841B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 磁気ディスク用カーボン基板のテクスチャー処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713841B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP2083137A patent/JPH0713841B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0713841B2 (ja) | 1995-02-15 |
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