JPH08241521A - 基板のテクスチャー処理方法 - Google Patents
基板のテクスチャー処理方法Info
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- JPH08241521A JPH08241521A JP4318195A JP4318195A JPH08241521A JP H08241521 A JPH08241521 A JP H08241521A JP 4318195 A JP4318195 A JP 4318195A JP 4318195 A JP4318195 A JP 4318195A JP H08241521 A JPH08241521 A JP H08241521A
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- δrp
- δra
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面プロフィールが良く、ＣＳＳ耐久性に優
れ、エラーが起き難い記録媒体を提供することを目的と
する。 【構成】 下記の（１）式および／または（２）式を満
足する条件下でテクスチャー処理が行われるテクスチャ
ー処理方法。 （１）式 １００Å／分≦表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）≦６
０００Å／分 Ｒｐ；中心線高さ ｔ ；時間 （２）式 ３０Å／分≦表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）≦１０
００Å／分 Ｒａ；中心線平均粗さ ｔ ；時間
れ、エラーが起き難い記録媒体を提供することを目的と
する。 【構成】 下記の（１）式および／または（２）式を満
足する条件下でテクスチャー処理が行われるテクスチャ
ー処理方法。 （１）式 １００Å／分≦表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）≦６
０００Å／分 Ｒｐ；中心線高さ ｔ ；時間 （２）式 ３０Å／分≦表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）≦１０
００Å／分 Ｒａ；中心線平均粗さ ｔ ；時間
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録媒体の基板、特に
ガラス状カーボンのようなカーボン基板のテクスチャー
処理方法に関する。
ガラス状カーボンのようなカーボン基板のテクスチャー
処理方法に関する。
【０００２】
【発明の背景】現在、ハードディスク用基板の材料とし
て提案されているものは、表面に１０μｍ程度のＮｉ−
Ｐメッキを施したアルミニウム合金が主流である。しか
し、アルミニウム合金製の基板は、厚さが薄くなると、
剛性が不足する問題点が有る。すなわち、剛性が不足す
ると、鏡面加工の際、基板にうねりが生じて平坦化でき
ず、うねりが有る基板をディスクに使用すると、回転む
らが生じ、又、磁気ヘッドの浮上量を小さく出来ない不
都合が有る。更には、スピンドルへのチャッキングの際
にディスクが変形する不都合も有る。
て提案されているものは、表面に１０μｍ程度のＮｉ−
Ｐメッキを施したアルミニウム合金が主流である。しか
し、アルミニウム合金製の基板は、厚さが薄くなると、
剛性が不足する問題点が有る。すなわち、剛性が不足す
ると、鏡面加工の際、基板にうねりが生じて平坦化でき
ず、うねりが有る基板をディスクに使用すると、回転む
らが生じ、又、磁気ヘッドの浮上量を小さく出来ない不
都合が有る。更には、スピンドルへのチャッキングの際
にディスクが変形する不都合も有る。
【０００３】又、ディスクの製造は、基板上に蒸着やス
パッリング等の薄膜形成手段で磁性膜を形成する方法が
一般的である。この際、基板温度は数百℃となる為、耐
熱性が要求される。しかし、アルミニウム合金を主材料
とした基板にあっては、耐熱性が不足する問題点が有
る。すなわち、基板が熱変形する不都合が有る。更に、
成膜後に基板を加熱すると磁性膜の保磁力が高くなるこ
とが知られており、この観点から熱処理が行われること
も有り、耐熱性が一層要求されている。
パッリング等の薄膜形成手段で磁性膜を形成する方法が
一般的である。この際、基板温度は数百℃となる為、耐
熱性が要求される。しかし、アルミニウム合金を主材料
とした基板にあっては、耐熱性が不足する問題点が有
る。すなわち、基板が熱変形する不都合が有る。更に、
成膜後に基板を加熱すると磁性膜の保磁力が高くなるこ
とが知られており、この観点から熱処理が行われること
も有り、耐熱性が一層要求されている。
【０００４】このようなことから、アルミニウム合金と
は全く異なる材料としてカーボン、特にガラス状カーボ
ンが注目を浴びている。そして、本出願人によっても、
ガラス状カーボンをハードディスクの基板として利用す
ることが提案（特開昭６０−３５３３３号公報）されて
いる。
は全く異なる材料としてカーボン、特にガラス状カーボ
ンが注目を浴びている。そして、本出願人によっても、
ガラス状カーボンをハードディスクの基板として利用す
ることが提案（特開昭６０−３５３３３号公報）されて
いる。
【０００５】
【発明の開示】すなわち、 基板加工時における内外周加工やチャンファー加工
の際、割れや欠けが起き難く、又、テクスチヤー形成や
薄膜形成の際のハンドリング時においての信頼性の面か
ら高強度であること、 磁気ヘッドの追従性から基板のうねりを小さくする
必要があり、基板材料の剛性が高いこと、 高記録密度化する為に基板の表面平滑性が良好で、
微小な欠陥も無いこと、 磁性膜の特性を向上させる為に基板は非磁性である
こと、 耐食性、耐候性が良好であること、 耐衝撃性に富むこと、 製造時の信頼性、及びＣＳＳ特性（耐久性）の面か
ら高硬度であること、 ＣＳＳ特性を高め、ハードディスクドライブのスピ
ンドル負荷を低減化する為に、基板は軽量であること、 静電気によるゴミ等の付着防止の為に基板材料の固
有抵抗が小さいことに注目し、ガラス状カーボンをハー
ドディスクの基板とした磁気記録媒体が提案され、この
ものは各方面から称賛を浴びている。
の際、割れや欠けが起き難く、又、テクスチヤー形成や
薄膜形成の際のハンドリング時においての信頼性の面か
ら高強度であること、 磁気ヘッドの追従性から基板のうねりを小さくする
必要があり、基板材料の剛性が高いこと、 高記録密度化する為に基板の表面平滑性が良好で、
微小な欠陥も無いこと、 磁性膜の特性を向上させる為に基板は非磁性である
こと、 耐食性、耐候性が良好であること、 耐衝撃性に富むこと、 製造時の信頼性、及びＣＳＳ特性（耐久性）の面か
ら高硬度であること、 ＣＳＳ特性を高め、ハードディスクドライブのスピ
ンドル負荷を低減化する為に、基板は軽量であること、 静電気によるゴミ等の付着防止の為に基板材料の固
有抵抗が小さいことに注目し、ガラス状カーボンをハー
ドディスクの基板とした磁気記録媒体が提案され、この
ものは各方面から称賛を浴びている。
【０００６】このような優れた特長を呈するガラス状カ
ーボンを用いて磁気記録媒体を構成した場合、ガラス状
カーボンからなる基板の表面プロフィールによって記録
・再生特性に大きな違いが生じることが判って来た。そ
こで、所望の表面プロフィールを形成する為の研究開発
が鋭意推し進められ、例えば酸化性雰囲気中での高温加
熱処理や化学的エッチング等による処理が試みられた。
しかし、これらの手法では再現性に乏しく、新たな技術
の開発が求められた。
ーボンを用いて磁気記録媒体を構成した場合、ガラス状
カーボンからなる基板の表面プロフィールによって記録
・再生特性に大きな違いが生じることが判って来た。そ
こで、所望の表面プロフィールを形成する為の研究開発
が鋭意推し進められ、例えば酸化性雰囲気中での高温加
熱処理や化学的エッチング等による処理が試みられた。
しかし、これらの手法では再現性に乏しく、新たな技術
の開発が求められた。
【０００７】このようなことから、アルミニウム基板の
場合に用いられていたテクスチャー技術に目が向けられ
た。しかし、研磨テープや遊離砥粒を用いたアルミニウ
ム基板の場合のテクスチャー技術をカーボン基板に適用
しても、好ましいものは得られなかった。すなわち、ヘ
ッド浮上量が低く、かつ、ＣＳＳ耐久性に優れたものが
得られなかった。
場合に用いられていたテクスチャー技術に目が向けられ
た。しかし、研磨テープや遊離砥粒を用いたアルミニウ
ム基板の場合のテクスチャー技術をカーボン基板に適用
しても、好ましいものは得られなかった。すなわち、ヘ
ッド浮上量が低く、かつ、ＣＳＳ耐久性に優れたものが
得られなかった。
【０００８】この問題点に対する研究が鋭意推し進めら
れて行った結果、ＲａやＲｐの物理量の形成速度を上手
く制御すれば、表面プロフィールが良い基板を得ること
が出来ることに気付いた。このような啓示に基づいて本
発明が達成されたものであり、表面プロフィールが良
く、ＣＳＳ耐久性に優れ、エラーが起き難い記録媒体を
提供することを目的とする。
れて行った結果、ＲａやＲｐの物理量の形成速度を上手
く制御すれば、表面プロフィールが良い基板を得ること
が出来ることに気付いた。このような啓示に基づいて本
発明が達成されたものであり、表面プロフィールが良
く、ＣＳＳ耐久性に優れ、エラーが起き難い記録媒体を
提供することを目的とする。
【０００９】この本発明の目的は、下記の（１）式およ
び／または（２）式を満足する条件下でテクスチャー処
理が行われることを特徴とする基板のテクスチャー処理
方法によって達成される。 （１）式 １００Å／分≦表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）≦６
０００Å／分 Ｒｐ；中心線高さ ｔ ；時間 （２）式 ３０Å／分≦表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）≦１０
００Å／分 Ｒａ；中心線平均粗さ ｔ ；時間 尚、ΔＲｐ／Δｔは好ましくは１００〜５０００Å／分
であり、より好ましくは１００〜２０００Å／分であ
り、又、ΔＲａ／Δｔは好ましくは３０〜４００Å／分
であり、より好ましくは５０〜１００Å／分である。
び／または（２）式を満足する条件下でテクスチャー処
理が行われることを特徴とする基板のテクスチャー処理
方法によって達成される。 （１）式 １００Å／分≦表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）≦６
０００Å／分 Ｒｐ；中心線高さ ｔ ；時間 （２）式 ３０Å／分≦表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）≦１０
００Å／分 Ｒａ；中心線平均粗さ ｔ ；時間 尚、ΔＲｐ／Δｔは好ましくは１００〜５０００Å／分
であり、より好ましくは１００〜２０００Å／分であ
り、又、ΔＲａ／Δｔは好ましくは３０〜４００Å／分
であり、より好ましくは５０〜１００Å／分である。
【００１０】上記のような処理を行うことによって、Ｒ
ａが約４０〜１００Å、Ｒｐ／Ｒａ（但し、Ｒａは中心
線平均粗さ、Ｒｐは中心線高さ）が約１〜６（望ましく
は、約２．５〜５）のカーボン基板が得られる。あるい
は、Ｒａが約１０〜４０Å（望ましくは、約２５〜４０
Å）、Ｒｐ／Ｒａが約４〜１５（望ましくは、約５〜１
０）のカーボン基板が得られる。
ａが約４０〜１００Å、Ｒｐ／Ｒａ（但し、Ｒａは中心
線平均粗さ、Ｒｐは中心線高さ）が約１〜６（望ましく
は、約２．５〜５）のカーボン基板が得られる。あるい
は、Ｒａが約１０〜４０Å（望ましくは、約２５〜４０
Å）、Ｒｐ／Ｒａが約４〜１５（望ましくは、約５〜１
０）のカーボン基板が得られる。
【００１１】すなわち、アルミナ、炭化珪素、ダイヤモ
ンド、ジルコニア、酸化セリウム、シリカ等の大きさが
♯３０００〜８０００（好ましくは♯４０００〜７００
０）の研磨材粒子が有機バインダによってベースフィル
ム上に設けられた研磨テープをカーボン基板に１〜４ｋ
ｇ／ｃｍ2 （好ましくは２〜３ｋｇ／ｃｍ2 ）の力で押
し付け、研磨テープの送り速度を１００〜６００ｍｍ／
ｍｉｎ（好ましくは３００〜５００ｍｍ／ｍｉｎ）、研
磨テープの揺動速度を０〜７００往復／分（好ましくは
２００〜５００往復／分）、揺動幅を最大数ｍｍ程度、
基板の回転速度を２０〜３００ｒｐｍ（好ましくは４０
〜１００ｒｐｍ）、時間を２〜６０秒（好ましくは２〜
２０秒）の条件に設定し、処理を行うと、上記（１）式
や（２）式の条件が満足されるテクスチャー処理が行わ
れる。つまり、テクスチャー処理における研磨テープの
種類、遊離砥粒の種類、研磨時間、研磨時の圧力など種
々の条件を上記（１）式や（２）式の条件が満足される
ように設定して行えば、表面プロフィールの良い基板が
得られる。
ンド、ジルコニア、酸化セリウム、シリカ等の大きさが
♯３０００〜８０００（好ましくは♯４０００〜７００
０）の研磨材粒子が有機バインダによってベースフィル
ム上に設けられた研磨テープをカーボン基板に１〜４ｋ
ｇ／ｃｍ2 （好ましくは２〜３ｋｇ／ｃｍ2 ）の力で押
し付け、研磨テープの送り速度を１００〜６００ｍｍ／
ｍｉｎ（好ましくは３００〜５００ｍｍ／ｍｉｎ）、研
磨テープの揺動速度を０〜７００往復／分（好ましくは
２００〜５００往復／分）、揺動幅を最大数ｍｍ程度、
基板の回転速度を２０〜３００ｒｐｍ（好ましくは４０
〜１００ｒｐｍ）、時間を２〜６０秒（好ましくは２〜
２０秒）の条件に設定し、処理を行うと、上記（１）式
や（２）式の条件が満足されるテクスチャー処理が行わ
れる。つまり、テクスチャー処理における研磨テープの
種類、遊離砥粒の種類、研磨時間、研磨時の圧力など種
々の条件を上記（１）式や（２）式の条件が満足される
ように設定して行えば、表面プロフィールの良い基板が
得られる。
【００１２】本発明は、特にカーボン材料（特に、ガラ
ス状カーボン）を用いて形成される基板に適用される。
すなわち、例えば特公昭６３−４６００４号公報、特公
平３−１１００５号公報、特開平１−２３０４７号公報
などに記載されている磁気記録媒体用のカーボン製基板
に適用される。尚、上記のようなガラス状カーボン製基
板は、先ず、仕上げ研磨に供される。この仕上げ研磨
は、研磨クロスを上下の定盤に貼り付けた両面ラッピン
グ装置により遊離砥粒などの研磨液を用いて鏡面仕上げ
することで得られる。そして、この仕上げ研磨後のガラ
ス状カーボンの表面プロフィールは、表面粗さＲａが約
５〜１０Åになっている。
ス状カーボン）を用いて形成される基板に適用される。
すなわち、例えば特公昭６３−４６００４号公報、特公
平３−１１００５号公報、特開平１−２３０４７号公報
などに記載されている磁気記録媒体用のカーボン製基板
に適用される。尚、上記のようなガラス状カーボン製基
板は、先ず、仕上げ研磨に供される。この仕上げ研磨
は、研磨クロスを上下の定盤に貼り付けた両面ラッピン
グ装置により遊離砥粒などの研磨液を用いて鏡面仕上げ
することで得られる。そして、この仕上げ研磨後のガラ
ス状カーボンの表面プロフィールは、表面粗さＲａが約
５〜１０Åになっている。
【００１３】この鏡面仕上げ後、研磨テープと遊離砥粒
とを用いて本発明になる機械的なテクスチャー処理を行
う。テクスチャー処理は、図１に示す如く、一定速度で
回転しているガラス状カーボン製基板１にゴム硬度（ゴ
ム硬度計、ＡＳＴＭ ＳＨＯＲＥ Ａ ＴＹＰＥ）が４
０〜８０度（好ましくは５５〜６５度）のコンタクトロ
ーラ２により前記したような範囲内の所定加工圧で研磨
テープ３を押し当てて加工する。この時、コンタクトロ
ーラ２は必要に応じて前記した範囲内で揺動させる。加
工中、研磨テープ３は前記した範囲内の一定速度で送ら
れ、研磨液が供給される。尚、遊離砥粒による場合、研
磨テープはバフテープに、研磨液は遊離砥粒を含む研磨
液が用いられる。
とを用いて本発明になる機械的なテクスチャー処理を行
う。テクスチャー処理は、図１に示す如く、一定速度で
回転しているガラス状カーボン製基板１にゴム硬度（ゴ
ム硬度計、ＡＳＴＭ ＳＨＯＲＥ Ａ ＴＹＰＥ）が４
０〜８０度（好ましくは５５〜６５度）のコンタクトロ
ーラ２により前記したような範囲内の所定加工圧で研磨
テープ３を押し当てて加工する。この時、コンタクトロ
ーラ２は必要に応じて前記した範囲内で揺動させる。加
工中、研磨テープ３は前記した範囲内の一定速度で送ら
れ、研磨液が供給される。尚、遊離砥粒による場合、研
磨テープはバフテープに、研磨液は遊離砥粒を含む研磨
液が用いられる。
【００１４】上記のようにして得たカーボン製基板に下
地膜、磁性膜、保護膜、潤滑剤膜を設けることによっ
て、磁気記録媒体が得られる。以下、実施例により本発
明をさらに具体的に説明する。
地膜、磁性膜、保護膜、潤滑剤膜を設けることによっ
て、磁気記録媒体が得られる。以下、実施例により本発
明をさらに具体的に説明する。
【００１５】
【実施例】フルフリルアルコール５００重量部、９２％
パラホルムアルデヒド４８０重量部および水３０重量部
を７５℃で攪拌して溶解させ、攪拌下でフェノール５２
０重量部、水酸化ナトリウム８．８重量部および水４５
重量部の混合液を滴下した。滴下終了後、７５℃で３時
間反応させた。この後、フェノール８０重量部、水酸化
ナトリウム８．８重量部および水４５重量部の混合液を
更に滴下し、７５℃で４．５時間反応させた。３０℃ま
で冷却した後に、６０％パラトルエンスルホン酸水溶液
で中和した。この中和物を減圧下で脱水して１７０重量
部の水を除去し、フルフリルアルコール５００重量部を
添加混合した。得られた樹脂の粘度は２０℃で３７０ｃ
ｐｓであった。尚、この樹脂が含むことのできる水量を
測定したところ３９重量％であった。
パラホルムアルデヒド４８０重量部および水３０重量部
を７５℃で攪拌して溶解させ、攪拌下でフェノール５２
０重量部、水酸化ナトリウム８．８重量部および水４５
重量部の混合液を滴下した。滴下終了後、７５℃で３時
間反応させた。この後、フェノール８０重量部、水酸化
ナトリウム８．８重量部および水４５重量部の混合液を
更に滴下し、７５℃で４．５時間反応させた。３０℃ま
で冷却した後に、６０％パラトルエンスルホン酸水溶液
で中和した。この中和物を減圧下で脱水して１７０重量
部の水を除去し、フルフリルアルコール５００重量部を
添加混合した。得られた樹脂の粘度は２０℃で３７０ｃ
ｐｓであった。尚、この樹脂が含むことのできる水量を
測定したところ３９重量％であった。
【００１６】この熱硬化性樹脂１００重量部に対し、パ
ラトルエンスルホン酸７０重量部、水２０重量部、セロ
ソルブ１０重量部の混合溶液３．５重量部を添加し、十
分攪拌した後、厚さ５ｍｍの型に注入し、減圧脱泡し
た。次に、５０℃で３時間、さらに８０℃で２日間加熱
硬化した。得られた樹脂硬化物を有機物焼成炉（中外炉
工業製）に入れ、窒素雰囲気中にて２〜５℃／時の昇温
速度で７００℃まで加熱し、さらに０．５ｍＴｏｒｒ程
度の真空中にて５〜２０℃／時の昇温速度で１２００℃
まで加熱焼成し、この温度で２時間保持し、この後に冷
却した。
ラトルエンスルホン酸７０重量部、水２０重量部、セロ
ソルブ１０重量部の混合溶液３．５重量部を添加し、十
分攪拌した後、厚さ５ｍｍの型に注入し、減圧脱泡し
た。次に、５０℃で３時間、さらに８０℃で２日間加熱
硬化した。得られた樹脂硬化物を有機物焼成炉（中外炉
工業製）に入れ、窒素雰囲気中にて２〜５℃／時の昇温
速度で７００℃まで加熱し、さらに０．５ｍＴｏｒｒ程
度の真空中にて５〜２０℃／時の昇温速度で１２００℃
まで加熱焼成し、この温度で２時間保持し、この後に冷
却した。
【００１７】次に、前処理工程にて得られたガラス状カ
ーボンを熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）装置の試料室に挿
入し、アルゴンガスにて加圧しながら５００℃／時の昇
温速度で１５００℃まで加熱し、１５００℃、２０００
気圧で１時間保持し、この後冷却した。得られたガラス
状カーボンの密度は１．６５ｇ／ｃｍ3 であり、破断面
を見ると明らかにガラス状であった。
ーボンを熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）装置の試料室に挿
入し、アルゴンガスにて加圧しながら５００℃／時の昇
温速度で１５００℃まで加熱し、１５００℃、２０００
気圧で１時間保持し、この後冷却した。得られたガラス
状カーボンの密度は１．６５ｇ／ｃｍ3 であり、破断面
を見ると明らかにガラス状であった。
【００１８】そして、＃５００〜＃８０００の砥粒にて
鏡面研磨し、研磨面の表面孔状態および孔径を走査型電
子顕微鏡にて観察した。孔径は０．０５〜０．０１μｍ
以下であり、問題となるような欠陥（開孔や結晶粒界
等）は存在しなかった。又、表面平滑性はＲａで１．０
ｎｍであり、極めて良好であった。更に、当該材料の曲
げ強度をＪＩＳ規格Ｒ１６０１に基づき測定した結果、
曲げ強度は２９．８ｋｇ／ｍｍ2 であった。又、弾性率
は２５００ｋｇｆ／ｍｍ2であった。
鏡面研磨し、研磨面の表面孔状態および孔径を走査型電
子顕微鏡にて観察した。孔径は０．０５〜０．０１μｍ
以下であり、問題となるような欠陥（開孔や結晶粒界
等）は存在しなかった。又、表面平滑性はＲａで１．０
ｎｍであり、極めて良好であった。更に、当該材料の曲
げ強度をＪＩＳ規格Ｒ１６０１に基づき測定した結果、
曲げ強度は２９．８ｋｇ／ｍｍ2 であった。又、弾性率
は２５００ｋｇｆ／ｍｍ2であった。
【００１９】このようにして得たガラス状カーボンから
なる基板に対して、下記の表−１に示す条件での仕上げ
研磨を行った。 表−１ 研磨装置；スピードファム製両面ラッピング装置ＤＳＬ
−９Ｂ 研磨クロス；サーフィン０１８−３ 加工圧；１５０ｇ／ｃｍ2 加工時間；１０分，３０分 研磨剤；スノーテックスＺＬ：水＝１：９ ｐＨ２〜１０ この後、図１に示す装置を用い、下記の表−２に示す条
件下でテクスチャー処理を施した。
なる基板に対して、下記の表−１に示す条件での仕上げ
研磨を行った。 表−１ 研磨装置；スピードファム製両面ラッピング装置ＤＳＬ
−９Ｂ 研磨クロス；サーフィン０１８−３ 加工圧；１５０ｇ／ｃｍ2 加工時間；１０分，３０分 研磨剤；スノーテックスＺＬ：水＝１：９ ｐＨ２〜１０ この後、図１に示す装置を用い、下記の表−２に示す条
件下でテクスチャー処理を施した。
【００２０】表−２ テープ；日本ミクロコーティング社製♯４０００〜♯８
０００フラットタイプ テープ送り速度；３００〜５００ｍｍ／分 加工圧力；２〜３ｋｇ／ｃｍ2 テープ揺動；２００〜５００往復／分、揺動幅１ｍｍ ローラゴム硬度；６０度 ワーク回転数；４０〜１００ｒｐｍ 加工時間；５〜１００秒 研磨液；ジョンソン製のＪＳ６０２ ３ｗｔ％研磨液 表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）；４〜１１１６Å／
分 表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）；４〜１０１Å／分 このようにテクスチャー処理が行われたガラス状カーボ
ン製基板上にＣｒ膜、ＣｏＣｒＰｔ磁性膜、カーボン膜
を設け、そして潤滑剤溶液を塗布し、ガラス状炭素−Ｃ
ｒ膜−ＣｏＣｒＰｔ膜−Ｃａｒｂｏｎ膜構成の磁気記録
媒体を得た。
０００フラットタイプ テープ送り速度；３００〜５００ｍｍ／分 加工圧力；２〜３ｋｇ／ｃｍ2 テープ揺動；２００〜５００往復／分、揺動幅１ｍｍ ローラゴム硬度；６０度 ワーク回転数；４０〜１００ｒｐｍ 加工時間；５〜１００秒 研磨液；ジョンソン製のＪＳ６０２ ３ｗｔ％研磨液 表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）；４〜１１１６Å／
分 表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）；４〜１０１Å／分 このようにテクスチャー処理が行われたガラス状カーボ
ン製基板上にＣｒ膜、ＣｏＣｒＰｔ磁性膜、カーボン膜
を設け、そして潤滑剤溶液を塗布し、ガラス状炭素−Ｃ
ｒ膜−ＣｏＣｒＰｔ膜−Ｃａｒｂｏｎ膜構成の磁気記録
媒体を得た。
【００２１】上記のようにして構成された磁気記録媒体
のＣＳＳテスト及び２μインチのＧＨＴテストを行った
ので、テクスチャー処理によるガラス状炭素基板の表面
プロフィールと共に表−３に示す。 表−３ ΔRp ΔRa Δt 加工 Ra Rp Rp/Ra ΔRp ΔRa CSS 2μ エラ /Δt /Δt 時間 回数 GHT ー特性 実施例１ 1116 84 60/5 5 24 154 6.4 93 7 OK OK Ｓ 実施例２ 678 54 60/10 10 26 174 6.7 113 9 OK OK Ｓ 実施例３ 284 30 60/15 15 24 132 5.5 71 7 OK OK Ｓ 実施例４ 252 36 60/20 20 29 145 5.0 84 12 OK OK Ｓ 実施例５ 546 30 60/20 20 27 243 9.0 182 10 OK OK Ｓ 実施例６ 345 69 60/20 20 40 176 4.4 115 23 OK OK Ｓ 実施例７ 146 68 60/30 30 51 134 2.7 73 34 OK OK Ｓ 実施例８ 183 69 60/40 40 63 183 2.9 122 46 OK OK Ａ 実施例９ 240 72 60/40 40 65 221 3.4 160 48 OK OK Ａ 実施例10 261 101 60/40 40 84 235 2.8 174 67 OK OK Ａ 実施例11 228 84 60/45 45 80 232 2.9 171 63 OK OK Ａ 実施例12 211 80 60/60 60 97 272 2.8 211 80 OK OK Ａ 比較例１ 26 5 60/40 40 20 78 3.9 17 3 NG OK Ｂ 比較例２ 33 9 60/45 45 24 86 3.6 25 7 NG OK Ｂ 比較例３ 40 22 60/60 60 39 101 2.6 40 22 NG OK Ｂ 比較例４ 10 6 60/60 60 23 71 3.1 10 6 NG OK Ｂ 比較例５ 18 16 60/60 60 33 79 2.4 18 16 NG OK Ｂ 比較例６ 13 11 60/80 80 31 78 2.5 17 15 NG OK Ｂ 比較例７ 61 15 60/90 90 39 152 3.9 91 22 NG OK Ｃ 比較例８ 12 7 60/100 100 29 81 2.8 20 12 NG OK Ｃ 比較例９ 4 4 60/100 100 23 67 2.9 6 6 NG OK Ｃ ＊Ｒａ，Ｒｐは、表面粗さ計 TENCOR P2で測定（針曲率
半径0.6 μｍＲ、測定長さ250 μｍ、カットオフなし） ＊ＣＳＳ回数は、半径１８ｍｍの位置において、７０％
ＡｌＴｉＣ（４μ”）のヘッドを用い、ヘッド荷重は６
ｇで、３６００ｒｐｍのモーターオンタイムを８秒、モ
ーターオフタイムを８秒とし、摩擦係数が０．６より小
さくなった時点における回数が２万回以上のものをＯ
Ｋ、２万回未満のものをＮＧで表示 ＊２μインチのＧＨＴテストによる合格をＯＫ、不合格
をＮＧで表示 ＊ΔRp／Δt,ΔRa／Δt の単位はÅ／分 ＊Δt 、加工時間の単位は秒 ＊Ra，Rp，ΔRp，ΔRaの単位はÅ ＊エラー特性は、ＰＲＯＱＵＩＰ社製のＭＧ−１５０Ｔ
装置を用い、７０％スライダーヘッドを使用し、記録密
度５１ＫＦＣＺの条件で評価した。スライスレベルは７
０％とし、１６ビット未満のミッシングエラーの個数及
び最大欠陥長を調べた。Ｓは最大欠陥個数が０〜１５、
最大欠陥長が１６ｂｉｔ、１トラックの最大欠陥個数が
０〜１のものであり、Ａは最大欠陥個数が１６〜４５、
最大欠陥長が４８ｂｉｔ、１トラックの最大欠陥個数が
２〜３のものであり、Ｂは最大欠陥個数が１６〜４５、
最大欠陥長が７２０ｂｉｔ、１トラックの最大欠陥個数
が４〜４５のものであり、Ｃは最大欠陥個数が４６以
上、最大欠陥長が７２１ｂｉｔ以上、１トラックの最大
欠陥個数が４６以上のものである。 これによれば、本発明になるものは、ＣＳＳ耐久性に優
れ、かつ、２μインチのＧＨＴテストに合格しており、
ヘッド浮上量が低いことから、再生特性にも優れている
ことが判る。
のＣＳＳテスト及び２μインチのＧＨＴテストを行った
ので、テクスチャー処理によるガラス状炭素基板の表面
プロフィールと共に表−３に示す。 表−３ ΔRp ΔRa Δt 加工 Ra Rp Rp/Ra ΔRp ΔRa CSS 2μ エラ /Δt /Δt 時間 回数 GHT ー特性 実施例１ 1116 84 60/5 5 24 154 6.4 93 7 OK OK Ｓ 実施例２ 678 54 60/10 10 26 174 6.7 113 9 OK OK Ｓ 実施例３ 284 30 60/15 15 24 132 5.5 71 7 OK OK Ｓ 実施例４ 252 36 60/20 20 29 145 5.0 84 12 OK OK Ｓ 実施例５ 546 30 60/20 20 27 243 9.0 182 10 OK OK Ｓ 実施例６ 345 69 60/20 20 40 176 4.4 115 23 OK OK Ｓ 実施例７ 146 68 60/30 30 51 134 2.7 73 34 OK OK Ｓ 実施例８ 183 69 60/40 40 63 183 2.9 122 46 OK OK Ａ 実施例９ 240 72 60/40 40 65 221 3.4 160 48 OK OK Ａ 実施例10 261 101 60/40 40 84 235 2.8 174 67 OK OK Ａ 実施例11 228 84 60/45 45 80 232 2.9 171 63 OK OK Ａ 実施例12 211 80 60/60 60 97 272 2.8 211 80 OK OK Ａ 比較例１ 26 5 60/40 40 20 78 3.9 17 3 NG OK Ｂ 比較例２ 33 9 60/45 45 24 86 3.6 25 7 NG OK Ｂ 比較例３ 40 22 60/60 60 39 101 2.6 40 22 NG OK Ｂ 比較例４ 10 6 60/60 60 23 71 3.1 10 6 NG OK Ｂ 比較例５ 18 16 60/60 60 33 79 2.4 18 16 NG OK Ｂ 比較例６ 13 11 60/80 80 31 78 2.5 17 15 NG OK Ｂ 比較例７ 61 15 60/90 90 39 152 3.9 91 22 NG OK Ｃ 比較例８ 12 7 60/100 100 29 81 2.8 20 12 NG OK Ｃ 比較例９ 4 4 60/100 100 23 67 2.9 6 6 NG OK Ｃ ＊Ｒａ，Ｒｐは、表面粗さ計 TENCOR P2で測定（針曲率
半径0.6 μｍＲ、測定長さ250 μｍ、カットオフなし） ＊ＣＳＳ回数は、半径１８ｍｍの位置において、７０％
ＡｌＴｉＣ（４μ”）のヘッドを用い、ヘッド荷重は６
ｇで、３６００ｒｐｍのモーターオンタイムを８秒、モ
ーターオフタイムを８秒とし、摩擦係数が０．６より小
さくなった時点における回数が２万回以上のものをＯ
Ｋ、２万回未満のものをＮＧで表示 ＊２μインチのＧＨＴテストによる合格をＯＫ、不合格
をＮＧで表示 ＊ΔRp／Δt,ΔRa／Δt の単位はÅ／分 ＊Δt 、加工時間の単位は秒 ＊Ra，Rp，ΔRp，ΔRaの単位はÅ ＊エラー特性は、ＰＲＯＱＵＩＰ社製のＭＧ−１５０Ｔ
装置を用い、７０％スライダーヘッドを使用し、記録密
度５１ＫＦＣＺの条件で評価した。スライスレベルは７
０％とし、１６ビット未満のミッシングエラーの個数及
び最大欠陥長を調べた。Ｓは最大欠陥個数が０〜１５、
最大欠陥長が１６ｂｉｔ、１トラックの最大欠陥個数が
０〜１のものであり、Ａは最大欠陥個数が１６〜４５、
最大欠陥長が４８ｂｉｔ、１トラックの最大欠陥個数が
２〜３のものであり、Ｂは最大欠陥個数が１６〜４５、
最大欠陥長が７２０ｂｉｔ、１トラックの最大欠陥個数
が４〜４５のものであり、Ｃは最大欠陥個数が４６以
上、最大欠陥長が７２１ｂｉｔ以上、１トラックの最大
欠陥個数が４６以上のものである。 これによれば、本発明になるものは、ＣＳＳ耐久性に優
れ、かつ、２μインチのＧＨＴテストに合格しており、
ヘッド浮上量が低いことから、再生特性にも優れている
ことが判る。
【００２２】
【効果】ヘッド浮上量が低く、かつ、ＣＳＳ耐久性に優
れ、再生特性に優れた記録媒体用の基板が得られる。
れ、再生特性に優れた記録媒体用の基板が得られる。
【図１】テクスチャー加工の説明図
１ ガラス状カーボン製基板 ２ コンタクトローラ ３ 研磨テープ
Claims (3)
- 【請求項１】 下記の（１）式および／または（２）式
を満足する条件下でテクスチャー処理が行われることを
特徴とする基板のテクスチャー処理方法。 （１）式 １００Å／分≦表面突起形成速度（ΔＲｐ／Δｔ）≦６
０００Å／分 Ｒｐ；中心線高さ ｔ ；時間 （２）式 ３０Å／分≦表面粗さ形成速度（ΔＲａ／Δｔ）≦１０
００Å／分 Ｒａ；中心線平均粗さ ｔ ；時間 - 【請求項２】 研磨材によりカーボン製基板にテクスチ
ャー処理が行われることを特徴とする請求項１の基板の
テクスチャー処理方法。 - 【請求項３】 基板が記録媒体用の基板であることを特
徴とする請求項１または請求項２の基板のテクスチャー
処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4318195A JPH08241521A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 基板のテクスチャー処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4318195A JPH08241521A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 基板のテクスチャー処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08241521A true JPH08241521A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=12656734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4318195A Pending JPH08241521A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 基板のテクスチャー処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08241521A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000301441A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Nippon Micro Coating Kk | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
-
1995
- 1995-03-02 JP JP4318195A patent/JPH08241521A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000301441A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Nippon Micro Coating Kk | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
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