JPH03281751A - Nb↓3Sn複合超電導体の製造方法 - Google Patents
Nb↓3Sn複合超電導体の製造方法Info
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- JPH03281751A JPH03281751A JP2081371A JP8137190A JPH03281751A JP H03281751 A JPH03281751 A JP H03281751A JP 2081371 A JP2081371 A JP 2081371A JP 8137190 A JP8137190 A JP 8137190A JP H03281751 A JPH03281751 A JP H03281751A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
[産業上の利用分野]
本発明は、NMR分析装置、電磁推進高速船、核融合炉
、高効率エネルギー貯蔵等に有用な高磁界特性を改良し
たNb3Sn超電導線材の製造方法に関する。
、高効率エネルギー貯蔵等に有用な高磁界特性を改良し
たNb3Sn超電導線材の製造方法に関する。
[従来の技術]
高磁界発生用の超電導線材としては、従来NbTl系の
合金線材が用いられているが、該合金線材では液体ヘリ
ウム温度(4,2K)における発生磁界の限度が約9テ
スラ(9T)であり、核融合装置などに必要なIOT以
1−の高磁界を発生ずるためには、化合物系超電導体を
用いる必要がある。NbjSn化合物はこのような要求
に応える実用超電導(イ料の一つとして知られおり、そ
の臨界温度Tcは約17.5にで、Nb−Tiの約9K
に比べて約2倍高い値をもつ。ところで、マグネットの
発生磁界を上げるためには、上部臨界磁界HC2を高め
、高磁界中の臨界型流密W J cを増加させることが
必要である。なお、ここにJcは液体ヘリウム中でAI
定された臨界電流値1 eを超電導体の断面積で除して
求められる。Nb3Sn化合物の線材を作製する方法と
して、ブロンズ法が既に知られており、この方法は、N
b(ニオブ)を基体とし、これをCu(銅) −3n
(錫)合金マトリックスでくるんだ複合体を作り、これ
を塑性加工し、熱処理することによりNb、S0化合物
線材を作製する方法である。しかし、この方法で作られ
たNb3 Sn化合物線材の磁界−Jc特性は12T以
上で急速に低下し、この線祠では12T以上の磁界を発
生しうる超電導マグネ・ソトを作製することが困難であ
る。Nb、Sniji合加に線材では、他の元素を添加
することが、そのHC2および強磁界中でのJ。を高め
、12T以」二の高磁界中での使用を可能にするうえに
最も効果的な方法と考えられる。このような見地から、
先にNb3SnにTi(チタン)を添加した線材が発明
者の1人を中心とするグループによって作製され、報告
された(^ppHed Physics I、ettc
rs、39巻5766頁、1981年)。
合金線材が用いられているが、該合金線材では液体ヘリ
ウム温度(4,2K)における発生磁界の限度が約9テ
スラ(9T)であり、核融合装置などに必要なIOT以
1−の高磁界を発生ずるためには、化合物系超電導体を
用いる必要がある。NbjSn化合物はこのような要求
に応える実用超電導(イ料の一つとして知られおり、そ
の臨界温度Tcは約17.5にで、Nb−Tiの約9K
に比べて約2倍高い値をもつ。ところで、マグネットの
発生磁界を上げるためには、上部臨界磁界HC2を高め
、高磁界中の臨界型流密W J cを増加させることが
必要である。なお、ここにJcは液体ヘリウム中でAI
定された臨界電流値1 eを超電導体の断面積で除して
求められる。Nb3Sn化合物の線材を作製する方法と
して、ブロンズ法が既に知られており、この方法は、N
b(ニオブ)を基体とし、これをCu(銅) −3n
(錫)合金マトリックスでくるんだ複合体を作り、これ
を塑性加工し、熱処理することによりNb、S0化合物
線材を作製する方法である。しかし、この方法で作られ
たNb3 Sn化合物線材の磁界−Jc特性は12T以
上で急速に低下し、この線祠では12T以上の磁界を発
生しうる超電導マグネ・ソトを作製することが困難であ
る。Nb、Sniji合加に線材では、他の元素を添加
することが、そのHC2および強磁界中でのJ。を高め
、12T以」二の高磁界中での使用を可能にするうえに
最も効果的な方法と考えられる。このような見地から、
先にNb3SnにTi(チタン)を添加した線材が発明
者の1人を中心とするグループによって作製され、報告
された(^ppHed Physics I、ettc
rs、39巻5766頁、1981年)。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の第コの目的は、」1記T1添加Nb3Sn線材
と同等以上の優れた高磁界特性をもつ超電導線材、具体
的には、Nb3Sn超1も導線材の12T以」二でのJ
c特性を改善しうるNb3Sn複合超電導体を提供する
ものである。
と同等以上の優れた高磁界特性をもつ超電導線材、具体
的には、Nb3Sn超1も導線材の12T以」二でのJ
c特性を改善しうるNb3Sn複合超電導体を提供する
ものである。
また、本発明の第2の[」的は、素材である複合体が長
尺の線、テープあるいは管に加工しうる良好な加工性を
備えて、超電導マグネットの線祠として実用に洪するこ
とができるNb3Sn複合超電導体を提供することであ
る。
尺の線、テープあるいは管に加工しうる良好な加工性を
備えて、超電導マグネットの線祠として実用に洪するこ
とができるNb3Sn複合超電導体を提供することであ
る。
[課題を解決するための手段]
本発明は、上記目的を達成するためになされたもので、
NbまたはNb−Ge合金からなる基体要素とSn、G
eのうち一種以上の元素を含む一種以、Lのマトリック
ス要素とから構成され、少くともNb3Sn、及びGe
、好ましくはCuの元素を含む複合体を所定形状に加工
する上程と、加]ニされた複合体を600℃〜900℃
で熱処理して、基体要素とマトリックス要素の界面にG
eを含むNbs Sn超電導相を生成させる上程とを具
備したことを特徴とするNb3Sn複合超電導体の製造
方法である。ここで基体を素とは、その表面にGeを含
むNbq Sn相を生成させる構成要素であり、マトリ
ックス要素とは、該Geを含むNbi Sn相を1成せ
しめるのに8貧なS n及びGeを供給する構成t−A
である。Cuは、マトリックス要素に含有させるのか好
適である。マトリックス要素に倉まれたCuは、Nb3
Sn相の生成を促進する効果があるとともに、8口も1
−<は元素としては加工性のないGeを固溶して、加I
ユ性のよいマトリックスとすることができる。
NbまたはNb−Ge合金からなる基体要素とSn、G
eのうち一種以上の元素を含む一種以、Lのマトリック
ス要素とから構成され、少くともNb3Sn、及びGe
、好ましくはCuの元素を含む複合体を所定形状に加工
する上程と、加]ニされた複合体を600℃〜900℃
で熱処理して、基体要素とマトリックス要素の界面にG
eを含むNbs Sn超電導相を生成させる上程とを具
備したことを特徴とするNb3Sn複合超電導体の製造
方法である。ここで基体を素とは、その表面にGeを含
むNbq Sn相を生成させる構成要素であり、マトリ
ックス要素とは、該Geを含むNbi Sn相を1成せ
しめるのに8貧なS n及びGeを供給する構成t−A
である。Cuは、マトリックス要素に含有させるのか好
適である。マトリックス要素に倉まれたCuは、Nb3
Sn相の生成を促進する効果があるとともに、8口も1
−<は元素としては加工性のないGeを固溶して、加I
ユ性のよいマトリックスとすることができる。
複合体の具体的な態様としては、基体要素としてNbま
たはNb−Ge合金を用い、マトリックス要素としてC
u−Sn−Ge合金、またはCu−Ge合金とSn、ま
たはCuとSn−Ge合金を用いる方法と、基体要素と
してNb−Ge合金を用い、マトリックス要素としてC
u−3n合金またはCuとSnを用いる方法などがある
。以下に複合体の組合わせの幾っがの例を列挙する。な
お、本発明は、これに限定されるものではない。
たはNb−Ge合金を用い、マトリックス要素としてC
u−Sn−Ge合金、またはCu−Ge合金とSn、ま
たはCuとSn−Ge合金を用いる方法と、基体要素と
してNb−Ge合金を用い、マトリックス要素としてC
u−3n合金またはCuとSnを用いる方法などがある
。以下に複合体の組合わせの幾っがの例を列挙する。な
お、本発明は、これに限定されるものではない。
1、 Nb/Cu−Sn−Ge
2、Nb−Ge/Cu−Sn−Ge
3、Nb−Ge/Cu−Sn
4、 Nb−Ge/Cu/Sn
5、 Nb/Cu/S n−G e6、Nb−G
e/Cu/Sn−Ge 7、Nb/Cu−Ge/Sn 8、Nb−Ge/Cu−Ge/Sn 9、Nb/Cu−Ge/Sn−Ge 1.0.Nb−Ge/Cu−Ge/Sn−Ge11、
Nb/Sn−Ge 12、 Nb−Ge/Sn −Ge前記の基体要素
を構成するN k)−G e合金の好適なGe含有量は
0.2〜5原子%の範囲にある。
e/Cu/Sn−Ge 7、Nb/Cu−Ge/Sn 8、Nb−Ge/Cu−Ge/Sn 9、Nb/Cu−Ge/Sn−Ge 1.0.Nb−Ge/Cu−Ge/Sn−Ge11、
Nb/Sn−Ge 12、 Nb−Ge/Sn −Ge前記の基体要素
を構成するN k)−G e合金の好適なGe含有量は
0.2〜5原子%の範囲にある。
この範囲としたのは、良好な高磁界特性をうるためには
0.2原子%以上、また、良好な加工性を保つためには
5原子%以下であるのがよいからである。前記のCu−
Sn−Ge合金には、充分な量のNb5Sn化合物を生
成せしめるために3原子%以上のSn及び良好な高磁界
特性をうるために0.1原子%以上のGeを含むのが好
適であり、また、良好な加工性を保つためにSn含有量
は10原子%以下、Ge含有量は5原子%以下であるの
がよい。また前記のマトリックス要素を構成するCu−
Ge合金とSn−Ge合金中のGe含有量は良好な高磁
界特性をうるために0.1原子26以上であるのが好適
であり、一方、良好な加工性を保つために10原子%以
下であるのが好適である。
0.2原子%以上、また、良好な加工性を保つためには
5原子%以下であるのがよいからである。前記のCu−
Sn−Ge合金には、充分な量のNb5Sn化合物を生
成せしめるために3原子%以上のSn及び良好な高磁界
特性をうるために0.1原子%以上のGeを含むのが好
適であり、また、良好な加工性を保つためにSn含有量
は10原子%以下、Ge含有量は5原子%以下であるの
がよい。また前記のマトリックス要素を構成するCu−
Ge合金とSn−Ge合金中のGe含有量は良好な高磁
界特性をうるために0.1原子26以上であるのが好適
であり、一方、良好な加工性を保つために10原子%以
下であるのが好適である。
さらに、Nb−−Ge合金の基体要素と組合せるCu−
Sn合金マトリックス要素中のSn含有量は、充分な口
のNb3Sn化合物を生成せしめるために3原子%以上
、また、良好な加工性を保つために10原子%以下であ
るのが好適である。
Sn合金マトリックス要素中のSn含有量は、充分な口
のNb3Sn化合物を生成せしめるために3原子%以上
、また、良好な加工性を保つために10原子%以下であ
るのが好適である。
上述のような基体要素とマトリックス要素を組合せた複
合体を作製する。基体要素とマトリックス要素を組合ゼ
た複合体を作製する一つの方法は、マトリックスに孔を
あけてその中に基体を挿入する方法がある。この場合、
マトリックス要素の一つとして純SnまたはSn−Ge
合金を使用する場合は、他のマトリックス要素であるC
u−Ge合金または純Cuに複数の孔をあけ、別々の孔
の中に基体要素と純SnまたはSn−Ge合金を挿入す
る。さらに、前記複合体を作製する他の方法として、基
体要素の管の中にマトリックス要素を挿入してもよい。
合体を作製する。基体要素とマトリックス要素を組合ゼ
た複合体を作製する一つの方法は、マトリックスに孔を
あけてその中に基体を挿入する方法がある。この場合、
マトリックス要素の一つとして純SnまたはSn−Ge
合金を使用する場合は、他のマトリックス要素であるC
u−Ge合金または純Cuに複数の孔をあけ、別々の孔
の中に基体要素と純SnまたはSn−Ge合金を挿入す
る。さらに、前記複合体を作製する他の方法として、基
体要素の管の中にマトリックス要素を挿入してもよい。
また、上述した例は、Cu元素を含む例であるが、本発
明はCuを含まないものでもよい。例えば、NbM体要
素の管の中にSnGeマトリツクス要素を挿入して複合
体を作製することもできる。
明はCuを含まないものでもよい。例えば、NbM体要
素の管の中にSnGeマトリツクス要素を挿入して複合
体を作製することもできる。
この様にして作られた複合体を線引き、圧延、竹引きな
どにより、線、テープあるいは管などの所定形状に加工
したのち、600℃〜900℃の温度で熱処理する。こ
の処理により基体要素とマ[・リソクス要素の界面に拡
散反応によりGeを含むNb3Sn相が生成される。こ
の場合、熱処理温度を上記範囲に限定した理由は、熱処
理温度が600 ’Cより低いと充分な口のNb3Sn
相が生成されず、一方、900℃より高いとNt))S
nn山内Cuが固溶したり、Nb)Snの結晶粒が粗大
化して超電導特性が低下するためである。
どにより、線、テープあるいは管などの所定形状に加工
したのち、600℃〜900℃の温度で熱処理する。こ
の処理により基体要素とマ[・リソクス要素の界面に拡
散反応によりGeを含むNb3Sn相が生成される。こ
の場合、熱処理温度を上記範囲に限定した理由は、熱処
理温度が600 ’Cより低いと充分な口のNb3Sn
相が生成されず、一方、900℃より高いとNt))S
nn山内Cuが固溶したり、Nb)Snの結晶粒が粗大
化して超電導特性が低下するためである。
[発明の効果]
本発明による製造法を用いると、12T以上でのJ が
改善され、高磁界発生に有用なN1)q Sn超電導線
利金作製することができる。
改善され、高磁界発生に有用なN1)q Sn超電導線
利金作製することができる。
また、複合体の加」−性が良好なため、長尺で均質性の
優れた超電導線材を製造することが出来る。
優れた超電導線材を製造することが出来る。
さらに、複数の基体要素をもつ複合体を加工し、これを
束ねて加工を繰返すことによっていわゆる極細多芯形式
の超電導線材を作製することが可能である。極細多芯超
電導線は速い磁界変化に対して超電導性を安定に保つこ
とにより、安全な超電導機器を製作することが出来るの
で実用上有利である。
束ねて加工を繰返すことによっていわゆる極細多芯形式
の超電導線材を作製することが可能である。極細多芯超
電導線は速い磁界変化に対して超電導性を安定に保つこ
とにより、安全な超電導機器を製作することが出来るの
で実用上有利である。
[実施例]
実施例1(試料2)及び比較例1(試料1)Cuに7原
子%のSnを含むCu−Sn合金とCuに7原子%のS
n及び0.5原子%のGeを含むCu−Sn−Ge合金
とを、それぞれるつは中で溶解し、金型に鋳造して直径
12mm、長さ100墓謙の合金棒を作製した。この合
金棒を機械加工して、外径10m5.内径5關、長さ8
0闘のCu−7原子%Sn及びCu7rfiL子%Sn
O95原子%Ge合金管を作製した。これらの合金管の
内に、直径5■履、長さ80m−のNb棒を挿入して複
合体を作製した。これらの複合体を溝ロール圧延して2
.5■m角の棒に加工したのち、平ロール圧延によって
厚さ0.25+a+e、中5 amのテープに加工した
。上記加工工程の途中で、約50%の加工を行ったのち
、550℃で2時間の中間焼鈍を行った。前記のテープ
から長さ40m−の超電導特性試料を切り出し、775
℃で100時間の熱処理を行った。この拡散熱処理によ
ってNb芯とCu−Sn合金またはCu−Sn−Ge合
金マトリックスとの界面に厚さ約10μmのNb)Sn
相が生成された。マトリックスがCu−7原子%Sn合
金のものも、Cu−7原子%−0.5原T%Geのもの
もNb3Sn相の厚さはほぼ同じであった。
子%のSnを含むCu−Sn合金とCuに7原子%のS
n及び0.5原子%のGeを含むCu−Sn−Ge合金
とを、それぞれるつは中で溶解し、金型に鋳造して直径
12mm、長さ100墓謙の合金棒を作製した。この合
金棒を機械加工して、外径10m5.内径5關、長さ8
0闘のCu−7原子%Sn及びCu7rfiL子%Sn
O95原子%Ge合金管を作製した。これらの合金管の
内に、直径5■履、長さ80m−のNb棒を挿入して複
合体を作製した。これらの複合体を溝ロール圧延して2
.5■m角の棒に加工したのち、平ロール圧延によって
厚さ0.25+a+e、中5 amのテープに加工した
。上記加工工程の途中で、約50%の加工を行ったのち
、550℃で2時間の中間焼鈍を行った。前記のテープ
から長さ40m−の超電導特性試料を切り出し、775
℃で100時間の熱処理を行った。この拡散熱処理によ
ってNb芯とCu−Sn合金またはCu−Sn−Ge合
金マトリックスとの界面に厚さ約10μmのNb)Sn
相が生成された。マトリックスがCu−7原子%Sn合
金のものも、Cu−7原子%−0.5原T%Geのもの
もNb3Sn相の厚さはほぼ同じであった。
電子線プローブマイクロアナライザーによってNt)3
Sn相の分析を行ったところ、マトリックスにGeを添
加した試料では、Nb3Sn相に少量のGeが含まれる
ことがわかった。前記のテプのTCと磁界中のICを直
流4端子法で測定した。その結果、比較例1として作製
したNbとCu−7原子%Sn合金マトリックスを用い
たテープ(試料])のTcは17.5に、NbとCu−
7原子%Sn−0.5原子%Ge合金マトリックスを用
いたテープ(試料2)のTcは17.fiKであった。
Sn相の分析を行ったところ、マトリックスにGeを添
加した試料では、Nb3Sn相に少量のGeが含まれる
ことがわかった。前記のテプのTCと磁界中のICを直
流4端子法で測定した。その結果、比較例1として作製
したNbとCu−7原子%Sn合金マトリックスを用い
たテープ(試料])のTcは17.5に、NbとCu−
7原子%Sn−0.5原子%Ge合金マトリックスを用
いたテープ(試料2)のTcは17.fiKであった。
また、試t41と試料2のICの磁界による変化を図1
の曲線1と曲線2に示した。マトリックスにGeを添加
することにより、磁界によるICの低下が苫しく小さく
なることがわかる。これはGe添加によりHC2が増加
したことによると考えられる。14Tの1cとIOTの
ICの比をとると試料1では32%であったものが、試
料2では62%に改善された。
の曲線1と曲線2に示した。マトリックスにGeを添加
することにより、磁界によるICの低下が苫しく小さく
なることがわかる。これはGe添加によりHC2が増加
したことによると考えられる。14Tの1cとIOTの
ICの比をとると試料1では32%であったものが、試
料2では62%に改善された。
実施例2(試料3)
Nbに1.5原子%のGeを添加した合金をアーク溶解
炉で溶製し、溝ロール圧延と機械加工によって直径5m
m、長さ80關のNb−Ge合金棒を作製した。一方、
Cu−7原子% S nマトリックス合金管を実施例1
と同様に作製し、その中にN b −1,5原子% G
e基体を挿入して複合体を作製した。この複合体を実
施例1と同様の方法で厚さ0.25vm、Ill 5
mmのテープに加工して、これを試料3とした。このテ
ープから長さ40關の試料を切り出し、775℃で10
0時間の熱処理を行った。
炉で溶製し、溝ロール圧延と機械加工によって直径5m
m、長さ80關のNb−Ge合金棒を作製した。一方、
Cu−7原子% S nマトリックス合金管を実施例1
と同様に作製し、その中にN b −1,5原子% G
e基体を挿入して複合体を作製した。この複合体を実
施例1と同様の方法で厚さ0.25vm、Ill 5
mmのテープに加工して、これを試料3とした。このテ
ープから長さ40關の試料を切り出し、775℃で10
0時間の熱処理を行った。
この拡散熱処理により、厚さ約10μ園のNb5Sn相
が生成された。このテープのTcとICを実施例1と同
様の方法で測定し、17.5にのTcと図1の曲線3に
示すようなIC特性をえた。
が生成された。このテープのTcとICを実施例1と同
様の方法で測定し、17.5にのTcと図1の曲線3に
示すようなIC特性をえた。
試料3の14TのICとLOTのICの比は67%であ
り、比較例1の試料1に比べて著しく改善された。
り、比較例1の試料1に比べて著しく改善された。
実施例3(試#44)及び比較例2(試料5)実施例2
と同様にして溶製したNb−1原子%Ge合金を機械加
工して、外径10mm、内径7關、長さ70mmのNb
−Ge合金管を作製した。その内に、外径7關、内径3
.5+all、長さ70 m+eのCu管をはめこみ、
さらにその中心に直径3.5mm5長さ70mmのSn
棒を挿入した複合体をf′1製した。
と同様にして溶製したNb−1原子%Ge合金を機械加
工して、外径10mm、内径7關、長さ70mmのNb
−Ge合金管を作製した。その内に、外径7關、内径3
.5+all、長さ70 m+eのCu管をはめこみ、
さらにその中心に直径3.5mm5長さ70mmのSn
棒を挿入した複合体をf′1製した。
この複合体を満ロールに圧延とスェージング加Tによっ
て外径1.5+++mの線に加二]゛シ、これを試料4
とした。また、」1記と同し一ζj法の純Nb管の内に
上記と同し−(j法のCu管とSn棒をはめこんだ複合
体を同様の方法で外径1.5 m−の線に加工して比較
例2どした(試料5)。試料4及び5から、長さ40m
mの1111定試料を切り出し3Snが溶は出さないよ
うに両端を封じたのち、750℃で100時間の拡散熱
処理を行った。この熱処理によって線材中央部のSnは
周囲のC14に拡散してCuSn合企をつくり、Nb−
Ge合金またはNblA体とCu−3n合金マトリック
スとの反応により両者の界面に厚さ約15μ腸のNb3
Sn相が生成された。得られた試料のTcを直流4端子
法て測定したところ試料4で17.8K 、試料うで1
7.7にの値をえた。また、これらの試料のIcの磁界
変化を図2の曲線4と曲線5に示した。試料4の14T
のICとIOTの1.の比は63%であり、比較例の試
料5の39%に比べて改善された特性が得られた。
て外径1.5+++mの線に加二]゛シ、これを試料4
とした。また、」1記と同し一ζj法の純Nb管の内に
上記と同し−(j法のCu管とSn棒をはめこんだ複合
体を同様の方法で外径1.5 m−の線に加工して比較
例2どした(試料5)。試料4及び5から、長さ40m
mの1111定試料を切り出し3Snが溶は出さないよ
うに両端を封じたのち、750℃で100時間の拡散熱
処理を行った。この熱処理によって線材中央部のSnは
周囲のC14に拡散してCuSn合企をつくり、Nb−
Ge合金またはNblA体とCu−3n合金マトリック
スとの反応により両者の界面に厚さ約15μ腸のNb3
Sn相が生成された。得られた試料のTcを直流4端子
法て測定したところ試料4で17.8K 、試料うで1
7.7にの値をえた。また、これらの試料のIcの磁界
変化を図2の曲線4と曲線5に示した。試料4の14T
のICとIOTの1.の比は63%であり、比較例の試
料5の39%に比べて改善された特性が得られた。
実施例4(試料7,8)及び比較例3(試料6)直径1
5關、長さ60m−のCu棒の中央に直径5 amの孔
をあけてCu管を作製し、その内に外径5■醜、長さ6
0關のNb棒を挿入し、さらにその周囲の同心円上に等
間隔にあけた6個の直径2 amの孔の内に外径2鰭、
長さ60mmの純Sn棒を挿入してCu Nb3Sn
の複合体を作製した。この複合体を溝ロール圧延と線引
きにより外径1.5−■の線に加工して比較例3とした
(試料6)。また3Snに3原子26のGeを含むSn
−Ge合金を溶製して外径2鰭の棒に加工し、純Sn棒
の代りに使用して上記と同じ寸法のCu、Nb、SnG
e合金複合体を作製し、上記と同し方法で外径1.5+
s+sの線に加工して試料7とした。
5關、長さ60m−のCu棒の中央に直径5 amの孔
をあけてCu管を作製し、その内に外径5■醜、長さ6
0關のNb棒を挿入し、さらにその周囲の同心円上に等
間隔にあけた6個の直径2 amの孔の内に外径2鰭、
長さ60mmの純Sn棒を挿入してCu Nb3Sn
の複合体を作製した。この複合体を溝ロール圧延と線引
きにより外径1.5−■の線に加工して比較例3とした
(試料6)。また3Snに3原子26のGeを含むSn
−Ge合金を溶製して外径2鰭の棒に加工し、純Sn棒
の代りに使用して上記と同じ寸法のCu、Nb、SnG
e合金複合体を作製し、上記と同し方法で外径1.5+
s+sの線に加工して試料7とした。
一方、Cuに1原T−%のGeを含むCu−Ge合金を
るつは中で溶解して金型に鋳込んで溶製した。このCu
−Ge合合金金機械加工して外径15龍、内径511鵬
、長さ60mmのCu−Ge合金管を作製した。その内
に外径5 mm、長さ60■■のNb棒を挿入し、さら
にその周囲の同心円上に等間隔にあけた6個のめ径2鳳
鵬の孔の内に外径2龍、長さ60nの純Sn棒を挿入し
て、Cu−Ge合金、Nb3Snの複合体を作製した。
るつは中で溶解して金型に鋳込んで溶製した。このCu
−Ge合合金金機械加工して外径15龍、内径511鵬
、長さ60mmのCu−Ge合金管を作製した。その内
に外径5 mm、長さ60■■のNb棒を挿入し、さら
にその周囲の同心円上に等間隔にあけた6個のめ径2鳳
鵬の孔の内に外径2龍、長さ60nの純Sn棒を挿入し
て、Cu−Ge合金、Nb3Snの複合体を作製した。
この複合体を上記と同じ方法で外径1.5鵬lの線に加
重f−Lで試I48とした。これらの試料6.7及び8
から長さ40m■の1lFI定試料を切り出し3Snあ
るいはSnGe合金が溶は出さないように両端を工・1
したのち、750℃で100時間の拡散熱処理を行った
。
重f−Lで試I48とした。これらの試料6.7及び8
から長さ40m■の1lFI定試料を切り出し3Snあ
るいはSnGe合金が溶は出さないように両端を工・1
したのち、750℃で100時間の拡散熱処理を行った
。
この熱処理によって試料6,7及び8の中央のNb芯の
周りに、それぞれ厚さ約15μ履のN1)isn相が生
成された。得られた試料のTcを直流4端子法で71p
j定したところ、試料6で17,7に1試料7及び8で
17.8にの値がえらえた。また、これらの試料の■。
周りに、それぞれ厚さ約15μ履のN1)isn相が生
成された。得られた試料のTcを直流4端子法で71p
j定したところ、試料6で17,7に1試料7及び8で
17.8にの値がえらえた。また、これらの試料の■。
の磁界変化を図3の曲線6゜7及び8に示した。試料6
の14TのICと10TのI、の比は35%であり、一
方、試料7及び8における比はそれぞれ69%で、いづ
れも比較例の試料6の値に比べて大きく改善された。
の14TのICと10TのI、の比は35%であり、一
方、試料7及び8における比はそれぞれ69%で、いづ
れも比較例の試料6の値に比べて大きく改善された。
7j31図は実施例1及び2において作製された試料の
ICの磁界による変化を示す図で、曲線1及び2は実施
例1の試料1及び2の特性、また、曲線3は実施例2の
試料3の特性をそれぞれ示す。 第2図は、実施例3において作製された試料のICの磁
界による変化を示す図で、曲線4及び5は試料4及び5
の特性を示す。第3図は実施例4において作製された試
料のICの磁界による変化を示す図で、曲線67および
8はそれぞれ、試料6.7及び8の特性を示す。
ICの磁界による変化を示す図で、曲線1及び2は実施
例1の試料1及び2の特性、また、曲線3は実施例2の
試料3の特性をそれぞれ示す。 第2図は、実施例3において作製された試料のICの磁
界による変化を示す図で、曲線4及び5は試料4及び5
の特性を示す。第3図は実施例4において作製された試
料のICの磁界による変化を示す図で、曲線67および
8はそれぞれ、試料6.7及び8の特性を示す。
Claims (5)
- (1)NbまたはNb−Ge合金からなる基体要素とS
n,Geのうち一種以上の元素を含む一種以上のマトリ
ックス要素とから構成され、少くともNb,Sn,及び
Geの元素を含む複合体を所定形状に加工する工程と、
加工された複合体を600℃〜900℃で熱処理して、
基体要素とマトリックス要素の界面にGeを含むNb_
3Sn超電導相を生成させる工程とを具備したことを特
徴とするNb_3Sn複合超電導体の製造方法。 - (2)前記マトリックスは、Cuの元素を更に含んでい
る請求項1に記載のNb_3Sn複合超電導体の製造方
法。 - (3)前記Nb−Ge合金からなる基体要素が0.2〜
5原子%のGeと残部Nb及び不可避的不純物からなる
ことを特徴とする請求項1に記載のNb_3Sn複合超
電導体の製造方法。 - (4)前記マトリックス要素は一種であり、3〜10原
子%のSnと0.1〜5原子%のGeと残部Cu及び不
可避的不純物からなるCu−Sn−Ge合金、3〜10
原子%のSnと残部Cu及び不可避的不純物からなるC
u−Sn合金、及び0.1〜10原子%のGeと残部S
n及び不可避的不純物からなるSn−Ge合金の群から
選択されていることを特徴とする請求項1乃至3のいず
れかに記載のNb_3Sn複合超電導体の製造方法。 - (5)前記マトリックス要素は二種であり、純Cuから
なるマトリック要素と純Snからなるマトリック要素と
の組合せ、純Cuからなるマトリック要素と0.1〜1
0原子%のGeと残部Sn及び不可避的不純物からなる
Sn−Ge合金からなるマトリックス要素との組合わせ
、0.1〜10原子%のGeと残部Cu及び不可避的不
純物からなるCu−Ge合金からなるマトリックス要素
と純Snからなるマトリックス要素との組合わせ、及び
0.1〜10原子%のGeと残部Cu及び不可避的不純
物からなるCu−Ge合金からなるマトリックス要素と
0.1〜10原子%のGeと残部Sn及び不可避的不純
物からなるSn−Ge合金からなるマトリックス要素と
の組合わせからなる群から選択されていることを特徴と
する請求項1乃至3のいずれかに記載のNb_3Sn複
合超電導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2081371A JP3046828B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | Nb▲下3▼Sn複合超電導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2081371A JP3046828B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | Nb▲下3▼Sn複合超電導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03281751A true JPH03281751A (ja) | 1991-12-12 |
JP3046828B2 JP3046828B2 (ja) | 2000-05-29 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2081371A Expired - Fee Related JP3046828B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | Nb▲下3▼Sn複合超電導体の製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3046828B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2081371A patent/JP3046828B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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Legal Events
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R250 | Receipt of annual fees |
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