JPH03278517A - 半導体ウェハー用紫外線照射装置 - Google Patents
半導体ウェハー用紫外線照射装置Info
- Publication number
- JPH03278517A JPH03278517A JP7923290A JP7923290A JPH03278517A JP H03278517 A JPH03278517 A JP H03278517A JP 7923290 A JP7923290 A JP 7923290A JP 7923290 A JP7923290 A JP 7923290A JP H03278517 A JPH03278517 A JP H03278517A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- ultraviolet
- irradiated surface
- ray irradiation
- gravity
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 25
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 2
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハー用紫外線照射装置に関する。
従来の半導体ウェハー用紫外線照射装置は、第２図に示
す様に半導体ウェハー２を本体４の上に乗せ、紫外線光
源固定板５に固定しである紫外線光源で照射するように
しているため、半導体ウェハーの被照射面が重力方向と
反対方向となるような構造となっている。
す様に半導体ウェハー２を本体４の上に乗せ、紫外線光
源固定板５に固定しである紫外線光源で照射するように
しているため、半導体ウェハーの被照射面が重力方向と
反対方向となるような構造となっている。
この従来の半導体ウェハー用紫外線照射装置では重力方
向に対して被照射面の方向が反対方向の状態であるため
に、ゴミが半導体ウェハー上に落下する。そのため、そ
のゴミが紫外線照射時の障害物になるという問題点があ
った。
向に対して被照射面の方向が反対方向の状態であるため
に、ゴミが半導体ウェハー上に落下する。そのため、そ
のゴミが紫外線照射時の障害物になるという問題点があ
った。
本発明の半導体ウェハー用紫外線照射装置は、半導体ウ
ェハーの照射面を重力方向と同方向になっているという
構造を備えている。
ェハーの照射面を重力方向と同方向になっているという
構造を備えている。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の一実施例の半導体ウェハー用紫外線
照射装置の断面図である。
照射装置の断面図である。
真空吸着式半導体ウェハー支持板ｌに半導体ウェハーを
セツティングして、紫外線光源３により紫外線を照射す
る。この時、半導体ウェハーの被照射面は重力方向と同
方向となっているので、被照射面に紫外線照射時に障害
物となるような物体は存在しなくなる。
セツティングして、紫外線光源３により紫外線を照射す
る。この時、半導体ウェハーの被照射面は重力方向と同
方向となっているので、被照射面に紫外線照射時に障害
物となるような物体は存在しなくなる。
第３図は、本発明の実施例２の半導体ウェハー用紫外線
照射装置の断面図である。
照射装置の断面図である。
半導体ウェハー２を半導体ウェハー固定用治具７で半導
体ウェハー支持板６にセツティングして紫外線光源３に
より紫外線を照射する。
体ウェハー支持板６にセツティングして紫外線光源３に
より紫外線を照射する。
以上説明したように本発明は半導体ウェハーの被照射面
を重力方向と同方向にしたので、紫外線照射の障害物と
なるゴミが半導体ウェハーの被照射面に落下することが
ないという効果を有する。
を重力方向と同方向にしたので、紫外線照射の障害物と
なるゴミが半導体ウェハーの被照射面に落下することが
ないという効果を有する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図は従来の
半導体ウェハー用紫外線照射装置の縦断面図、第３図は
本発明の実施例２の縦断面図である。 １・・・・・・半導体ウェハー真空吸着式支持板、２・
・・・・・半導体ウェハー ３・・・・・・紫外線光源
、４・・・・・・本体、５・・・・・・紫外線光源固定
板、６・・・・・・半導体ウェハー支持板、 ７・・・・・・半導体ウェハー固定用治具。
半導体ウェハー用紫外線照射装置の縦断面図、第３図は
本発明の実施例２の縦断面図である。 １・・・・・・半導体ウェハー真空吸着式支持板、２・
・・・・・半導体ウェハー ３・・・・・・紫外線光源
、４・・・・・・本体、５・・・・・・紫外線光源固定
板、６・・・・・・半導体ウェハー支持板、 ７・・・・・・半導体ウェハー固定用治具。
Claims (1)
- 紫外線光源に対して半導体ウェハーの照射面が重力方
向と同方向となる様な構造を備えることを特徴とする半
導体ウェハー用紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7923290A JPH03278517A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 半導体ウェハー用紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7923290A JPH03278517A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 半導体ウェハー用紫外線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03278517A true JPH03278517A (ja) | 1991-12-10 |
Family
ID=13684137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7923290A Pending JPH03278517A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 半導体ウェハー用紫外線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03278517A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5269925A (en) * | 1992-05-04 | 1993-12-14 | Exxon Research And Engineering Company | Filter comprising multiple layers of non-woven filter fabric of decreasing porosity |
-
1990
- 1990-03-28 JP JP7923290A patent/JPH03278517A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5269925A (en) * | 1992-05-04 | 1993-12-14 | Exxon Research And Engineering Company | Filter comprising multiple layers of non-woven filter fabric of decreasing porosity |
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