JPH03277903A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
により試料表面の情報を測定する走査型プローブ顕微鏡
に関するもので、特に、同一の試料表面において異なる
情報を同時に得ることのできる新規な走査型プローブ顕
微鏡に関するものである。
置として、走査型トンネル顕微鏡(Scanning
Tunneling Microscope :以下、
STM装置とする。)、原子開力顕微鏡(Atomic
Force HlerOseope :以下、AFM
装置とする。)などが開発され、各種の研究に使用され
ている。
記載されているように、トンネル現象により数nm程度
の距離に近接された探針と導電性材料からなる試料表面
との間に流れるトンネル電流■が、探針と試料間の距離
Sおよびトンネルバリアハイドφに対して指数関数的な
依存性(I =exp(−φ”2S))を示すことを利
用して、このトンネル電流Iが一定になるように探針と
試料の位置関係を制御しなから探針を走査したときの制
御電圧を計測することにより、試料の表面形状を原子レ
ベルの分解能で測定する顕微鏡である。
等に記載されているように、探針の頂点にある原子と試
料表面にある原子との間に、例えば第6図のような引力
域と斥力域のある、Lennard−Jonesポテン
シャルで表されるような原子間力(斥力。
な力が生じ、この力を探針が設けられているカンチレバ
ー(てこ)のたわみji(探針の変位量)によって検出
し、この力が一定になるように探針と試料の位置関係を
制御しながら探針を走査したときの制御電圧を計測する
ことにより、試料の表面形状および原子間力の分布像を
原子レベルの分解能で測定できるものであり、前記ST
M装置と異なり、試料の導電性と無関係に測定できる顕
微鏡である。
るトンネル電流を一定に制御しながら、探針を試料表面
上のXY力方向走査することにより、試料表面の導電性
情報に基づく3次元像(いわゆる、STM像)を計測す
る装置であり、AFM装置は、探針と試料表面との間に
作用する原子間力が一定になるように探針と試料の位置
関係を制御しなから探針を走査することによって、試料
表面における原子間力の分布に基づく3次元像(いわゆ
る、AFM像)を計測する装置であり、それぞれ電流と
原子間力という物理的に異なる情報に基づいた試料表面
の3次元像を計測する装置である。
な情報を同時に計測することで、より厳密な表面物性の
研究を行うことを目的として、前記STM像とAFM像
を同時に得ることについて、注口されてきている。
行例として、ジャーナル・オブ・マイクロスコピー(J
、Microscopy) Vol、152.Pt3.
Dec。
ライアント(P、J、Bryant)らによる論文があ
る。
るための説明図である。XYZの3方向に駆動可能な3
軸圧電駆動体51の下面には、柔軟で弾性を有するカン
チレバー52と、このカンチレバー52の裏面に先端が
位置するように設けられた金属探針53が設けられてい
る。カンチレバー52のa出端には鋭い針状のチップ5
4が形成され、このチップ54が試料55表面に近接し
て配置される。カンチレバー52と試料55の間にはS
TMバイアス電圧Vsが、また、カンチレバー52と金
属探針53の間にはAFMバイアス電圧VAが印加され
るように、STMバイアス印加手段56およびAFMバ
イアス印加手段57が設けられている。このSTMバイ
アス電圧VsおよびAFMバイアス電圧VAが印加され
ることにより、カンチレバー52と試料55の間、カン
チレバー52と金属探針53の間に、それぞれトンネル
電流が生じることになる。すなわち、カンチレバー52
には、カンチレバー52と試料55間に流れる電流is
と、カンチレバー52と金属探針53間に流れる電流i
Aが加算された電流iAsが流れる。このカンチレバー
52に流れた電流IASは制御回路58およびコンピュ
ーター59に加えられる。この電流IASが一定になる
ように、すなわち、カンチレバー52と試料55間に作
用する力は一定に保たれるようにして、3軸圧電駆動体
51のZ方向の圧電体にフィードバック電圧が印加され
る。このとき、探針53とカンチレバー52とを同時に
試料55上でXY力方向走査したときのフィードバック
電圧を記録することにより、カンチレバー52と試料5
5間に作用する力が一定に保たれたときの、試料表面の
AFM像(凹凸像)が測定され、AFM像表示手段60
に表示される。
バー52の間に流れる電流isが試料55表面の導電性
の情報(すなわち、STM像)を与えるとして、電流の
分布像が掲載されているが、カンチレバー52に流れて
いる電流iAsは、試料55とカンチレバー52の間に
流れる電流isと、カンチレバー52と金属探針53の
間に流れる電流iAの2つの電流の和になっており、こ
の電流iAsからでは、直接STM像を形成して表示す
ることはできず、電流jAsを一旦電流f Aと電流i
sに分離した後、電流isからSTM像を求める必要が
ある。この論文中ではコンピュータ59内に取り込まれ
た後で、STM像表示手段61に、表示されることにな
っているが、コンピューター59内に取り込まれた電流
iAsを2つの電流iAとisを分離する具体的な方法
についてはまったく開示されていない。
52と金属探針53の相対的な位置の調整が不可能であ
り、また、カンチレバー52と試料55に作用する力を
一定にして走査し、AFM像を得るには、カンチレバー
52と試料55に加わっている力の領域は斥力領域であ
ることが必須である。
はコンピューターによる演算が必要であるため、構成が
複雑になるだけではなく、STM像とAFM像を同時に
測定できるとしても、同時に表示することは困難である
。さらに、カンチレバー52と試料55間に作用する力
の領域を自由に設定することはできず、カンチレバー5
2のバネ定数などにより試料55とカンチレバー52の
間に働(原子間力の強さは一定で変更できず、計測でき
るAFM像は一定の原子間力における像に限定されてし
まう。
ぞれトンネル電流と原子間力という物理的に異なる情報
に基づいた、STM像およびAFM像という2つの異な
る3次元像を簡単な構成で、同時に計測することができ
るとともに、試料とカンチレバーの間に働(原子間力を
任意に設定して、任意の原子間力におけるAFM像を得
ることができる走査型プローブ顕微鏡を提供することを
目的とする。
手段を講じたものである。すなわち、探針を試料表面に
近接させて走査することにより試料表面の情報を測定す
る走査型プローブ顕微鏡において、 弾性を有する薄板状のカンチレバーと、このカンチレバ
ーの自由端部側に設けられ試料表面に近接配置される導
電性の探針と、この探針と試料との間にバイアス電圧を
印加〕るバイアス電圧印加手段と、 このバイアス電圧印加手段により印加したバイアス電圧
により発生したトンネル電流を検出す七トンネル電流検
出手段と、 前記探針の先端の原子と試料表面の原子とのルに作用す
る原子間力によって生じる探針の変位1を検出する探針
変位量検出手段と、 この探針変位量検出手段からの出力信号に応して、探針
と試料間の距離を一定に保つようにフィードバックをか
けるフィードバック回路と、前Wjフィードバック回路
のフィードバック条件を設ガする手段とからなるサーボ
制御手段と、このフィードバック回路からの出力信号に
応して、試料をZ方向に駆動させる駆動手段と、前記ト
ンネル電流検出手段により検出されたトンネル電流に応
じた試料表面の導電性情報から第1の3次元像(以下、
STM像)を形成する手段と、 前記探針変位量検出手段により検出された探針の変位!
に応じた試料表面の凹凸情報から第2の3次元像(以下
、AFM像)を形成する手段とがらなり、 前記STM像と前記AFM像をそれぞれ独立して同時に
得るとともに、前記フィードバック条件を任意に設定で
きるようにしたものである。
鏡の作用について説明する。
態における、カンチレバー2の原点位置を探針変位量検
出手段6を用いて設定する。測定したい原子間力の領域
を設定するために、既知のバネ定数から見積もられるカ
ンチレバー2の原点位置からの変位量を設定する。この
ときの変位量がカンチレバー2と試料1間に作用する原
子間力に相当し、フィードバック条件となる。そして、
試料1と力検出カンチレバー2の間隔を近づけて、測定
をはじめると、カンチレバー2の探針(以下、チップと
いう)2aの先端原子が近づいてきた試料1の原子との
間で原子間力が生じ、この原子間力により、カンチレバ
ー2全体がたわみにより変位する。
を保つように、3次元方向に駆動自在な圧電アクチュエ
ータ3にドライブ電圧Vpが印加されフィードバック動
作を行う。また、導電性カンチレバー2にはバイアス電
圧発生手段4によってバイアス電圧が印加され、このバ
イアス電圧によりチップ2aと試料1の間に流れるトン
ネル電流jsが、試料1に接続された電流検出手段5に
より検出される。そして、XY力方向試料lを走査した
ときに、探針変位量検出手段6からの出力信号IAまた
は圧電アクチュエータ3に印加されるフィードバック信
号I PAを走査信号に合わせて記録し、この信号IA
tIFAに基づいてAFM像(試料表面の原子間力に基
づく3次元像)が表示手段(図示せず)に表示される。
もに、トンネル電流isを検出した電流検出手段5から
の出力信号工3を走査信号に合わせて記録し、この信号
1.に基づいてSTM像(試料表面の導電性分布に基づ
く3次元像)が、別の表示手段(図示せず)に同時に表
示される。
照して説明する。なお、第1図で説明した部材と同一の
部材には同一の符号を付し、説明は省略する。
研磨されたW(タングステン)。
性材料として金の膜2cを蒸着し、この先端に導電性を
持つ尖ったチップ2aが設けられている。ここで代表的
な力検出カンチレバーの形状は、幅D1厚さt1長さL
がそれぞれ200μm13μm、 350〜800μ
m程度であり、バネ定数は1〜IIN/mである。この
導電性の力検出カンチレバー2には、バイアス電圧発生
手段4にょってバイアス電圧(VT =0.5v)が印
加されている。
る探針変位量検出手段6は、Pt−1r(プラチナ−イ
リジウム)製の探針8、この探針8をZ方向に駆動する
ための圧電素子9、および、探針8に0電位で接続され
た電流検出手段10からなり、探針8の先端が、金が蒸
着されたカンチレバー2の裏面に近接して設けられてい
る。前記圧電素子9を駆動して、探針8とカンチレバー
2の裏面の間隔を数nu程度に近づけるとトンネル電流
iAが流れ、このトンネル電流が電流検出手段10で検
出される。
して、圧電アクチューター3に接続され、検出されたト
ンネル電流iAに対応した変位信号■、がフィードバッ
ク回路7に入力され、変位信号IAに対応したフィード
バック信号I PAが、このフィードバック回路7から
圧電アクチュエータ3に印加されて、チップ2aと試料
1との間に作用する原子間力が一定に制御される。そし
て、前記変位信号IAまたはフィードバック信号IPA
を図示されていない第1の表示手段に出力することによ
りAFM像が表示されるように構成されている。
イアス電圧が印加されるようにバイアス電圧発生手段4
が接続され、このバイアス電圧によりチップ2aと試料
1の間に流れたトンネル電流jsが、試料1に接続され
た電流検出手段5により検出される。そして、この電流
検出手段5からトンネル電流isに基づいた試料表面の
導電性情報信号Isが出力され、この信号Isを図示さ
れていない第2の表示手段に出力することによりSTM
像が表示されるように構成されている0このように構成
された第1実施例の作用について説明する。
していないときに、カンチレバー2と探針8との間に流
れるトンネル電流iAが適当な設定電流値(例えば10
nA)になったところで探針を止める。そこが、トンネ
ル電流i^=10nA時のカンチレバー2の変位量の原
点位置となる。そこからさらにカンチレバーのバネ定数
から設定されるたわみ量(フィードバック条件)の分だ
け探針8の位置を移動する。次に3次元方向に駆動可能
な圧電アクチュエータ3に保持された試料1をカンチレ
バー2に近づける。すると、カンチレバー2の先端のと
がったチップ2aと試料1の間で原子間力が働き、カン
チレバー2の位置が変動し、再びトンネル電流iAが1
01Aになる位置が現れる。
ィードバック回路7に入力し、この変位信号IAに基づ
いて、前記トンネル電流iAが常に10nAになるよう
に、圧電アクチュエータ3のZ軸方向にフィードバック
信号エア□を印加する。この動作によってカンチレバー
2のたわみ量が一定に保たれ、試料1とカンチレバー2
の先端にあるチップ2aの間で働く力が一定に保たれる
。このフィードバック動作をしながらアクチユエータ3
によって試料をXY力方向走査するとともに、変位信号
IAまたはフィードバック信号I PAを走査信号と同
時に記録し、第1の表示手段(図示せず)に表示するこ
とによって、試料表面のAFM像(試料表面の原子間力
に基づく3次元像)を得る。
isに基づいて、電流検出手段らから出力される信号I
sを走査信号と同時に記録し、第2の表示手段(図示せ
ず)に表示することによって、試料1とカンチレバー2
の間に働く力が一定になっている状態での試料表面のS
TM像(試料表面の導電性分布に基づく3次元像)を得
ることができる。
基いて、表示手段としてのストレージオシロスコープに
AFM像およびSTM像を表示したときの写真である。
信号に合わせて白黒で表示したもので、試料とカンチレ
バーの先端部の間に働いている力の分布像になっている
。第4図(b)は試料に流れた電流を反映する信号Is
を走査信号に合わせて表示したものであり、試料表面の
導電性の分布像(STM像)測定になっている。
表面である。また、用いたカンチレバ−2のバネ定数は
10.7N/mであり、設定した力の領域は2.OX
10−’Nの斥力領域である。
3回対称的な像であるのに対して、AFM像は6回対称
的な像であった。力学的結合と電気的結合の局所的な違
いを反映するものと考えられる。
から求めて表示しているが、フィードバック信号IPA
から求めて表示しても良い。
簡単な構成で同時に得ることができ、また、探針と試料
の間に働く原子間力の領域を任意に設定することができ
る。
バー2のチップ2の変位を検出する探針変位量検出手段
6をレーザー光を用いた光学的変位検出装置(光学干渉
計または、臨界角法を利用した微小変位検出装置等)に
より構成し、この光学干渉計11からの出力に基いて、
カンチレバー2のたわみ量が所定の力に対応する量にな
るようにフィードバック回路7により圧電アクチュエー
タ3を制御するようにした点である。
については、特開昭64−56408号公報などに記載
され、公知であるので説明は省略する。
像とSTM像を簡単な構成で同時に得ることができ、探
針と試料の間に働く原子間力の領域を任意に設定するこ
とができる。さらに、前記第1実施例のように、トンネ
ル電流を利用して間接的に変位量を検出するのではなく
、直接探針の変位量を検出することができるので、構成
が簡単になり、検出速度も速く、フィードバック動作に
対する反応が良くなる。
レバーの間に働く原子間力を任意に設定することができ
、試料とカンチレバーの間に働く原子間力が一定の時の
探針の変位量と、試料表面と導電性カンチレバーの間に
流れる電流とを独立して検出することによって、AFM
像およびSTM像という、それぞれ物理的に異なる試料
表面の情報を同時に計測することのできる走査型プロー
ブ顕微鏡を提供することができる。
図はこの発明の一実施例を説明するための説明図、第3
図はこの実施例に示したカンチレバーの説明図、第4図
(a) 、 (b)はそれぞれこの実施例の装置により
計測されたAFM像、STM像を示す写真、第5,6図
は従来例を説明するための図である。 1・・・試料、2・・・カンチレバー 3・・・圧電アクチュエータ 4・・・バイアス電圧印加手技 5・・・電流検出手段 6・・・探針変位量検出手段 7・・・サーボ制御手段
Claims (2)
- (1)、探針を試料表面に近接させて走査することによ
り試料表面の情報を測定する走査型プローブ顕微鏡にお
いて、 弾性を有する薄板状のカンチレバーと、 このカンチレバーの自由端部側に設けられ試料表面に近
接配置される導電性の探針と、 この探針と試料との間にバイアス電圧を印加するバイア
ス電圧印加手段と、 このバイアス電圧印加手段により印加したバイアス電圧
により発生したトンネル電流を検出するトンネル電流検
出手段と、 前記探針の先端の原子と試料表面の原子との間に作用す
る原子間力によって生じる探針の変位量を検出する探針
変位量検出手段と、 この探針変位量検出手段からの出力信号に応じて、探針
と試料間の距離を一定に保つようにフィードバックをか
けるフィードバック回路と、前記フィードバック回路の
フィードバック条件を設定する手段とからなるサーボ制
御手段と、 このサーボ制御手段からの出力信号に応じて、試料をZ
方向に駆動させる駆動手段と、 前記トンネル電流検出手段により検出されたトンネル電
流に応じた試料表面の導電性情報から第1の3次元像(
以下、STM像)を形成する手段と、 前記探針変位量検出手段により検出された探針の変位量
に応じた試料表面の凹凸情報から第2の3次元像(以下
、AFM像)を形成する手段とからなり、 前記STM像と前記AFM像をそれぞれ独立して同時に
得るとともに、前記フィードバック条件を任意に設定で
きるようにしたことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡
。 - (2)、前記探針の変位量を検出する探針変位量検出手
段は、前記カンチレバーの裏面に設けた導電性薄膜と、 この薄膜に近接させて設けたトンネルチップと、このト
ンネルチップと薄膜との間にバイアス電圧を印加する第
2のバイアス電圧印加手段と、この第2のバイアス電圧
印加手段により印加したバイアス電圧により発生したト
ンネル電流を検出するトンネル電流検出手段とからなり
、 このトンネル電流に応じて前記探針の変位量を検出する
ことを特徴とする請求項1記載の走査型プローブ顕微鏡
。
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Publication Number | Publication Date |
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JPH03277903A true JPH03277903A (ja) | 1991-12-09 |
JP2945436B2 JP2945436B2 (ja) | 1999-09-06 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2079566A Expired - Lifetime JP2945436B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2945436B2 (ja) |
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