JPH03277625A - ポリアルキレンテレフタレートの製造方法 - Google Patents
ポリアルキレンテレフタレートの製造方法Info
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、各種成形品、繊維、フィルム、シート、接着
剤等に好適に用いられるポリアルキレンテレフタレート
の製造方法に関する。
剤等に好適に用いられるポリアルキレンテレフタレート
の製造方法に関する。
(従来の技術)
ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレ
ートで代表されるポリアルキレンテレフタレートは、力
学特性、電気特性、難燃性、耐候性、耐薬品性、経済性
等に優れ、特にガラス繊維で強化されたものは、力学特
性、耐熱性ともに向上することが知られ、従来より各種
成形品、繊維、フィルム、シート、接着剤等に用いられ
ている。
ートで代表されるポリアルキレンテレフタレートは、力
学特性、電気特性、難燃性、耐候性、耐薬品性、経済性
等に優れ、特にガラス繊維で強化されたものは、力学特
性、耐熱性ともに向上することが知られ、従来より各種
成形品、繊維、フィルム、シート、接着剤等に用いられ
ている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、重量が10mg〜10g程度の小型部品
や、肉厚がlu+t+以下であるような薄肉部を有する
部品、歯車のように先端に鋭角部を有する部品を成形す
る場合には、ガラス繊維を配合したボアルキレンテレフ
タレート組成物を用いると、1雑の流動が部品の薄肉部
や鋭角部において不+6であるために、この薄肉部や鋭
角部では該ガラj繊維の含有量が他の部分に比べて少な
くなり、→の結果ガラス繊維配合による十分な効果が得
ら才ず、力学特性及び耐熱性が不均一になると共に、薄
肉部や鋭角部の耐熱性を向上することができt。
や、肉厚がlu+t+以下であるような薄肉部を有する
部品、歯車のように先端に鋭角部を有する部品を成形す
る場合には、ガラス繊維を配合したボアルキレンテレフ
タレート組成物を用いると、1雑の流動が部品の薄肉部
や鋭角部において不+6であるために、この薄肉部や鋭
角部では該ガラj繊維の含有量が他の部分に比べて少な
くなり、→の結果ガラス繊維配合による十分な効果が得
ら才ず、力学特性及び耐熱性が不均一になると共に、薄
肉部や鋭角部の耐熱性を向上することができt。
い欠点がある。しかも、ガラス繊維が配合され六組酸物
を用いる場合には、ガラス繊維の配向に基づく異方性や
反りが生じ易く、精密な成形が困剣であるという欠点が
ある。
を用いる場合には、ガラス繊維の配向に基づく異方性や
反りが生じ易く、精密な成形が困剣であるという欠点が
ある。
また、ガラス繊維を充填しない場合には、上Mcしたよ
うに耐熱性が劣っており、例えば、ポリエチレンテレフ
タレートにて形成した製品の熱変形温度は76℃程度、
ポリブチレンテレフタレートにて形成した製品の熱変形
温度は59℃程度と非常に低く、従来より根本的な耐熱
化の手法が待たれていた。
うに耐熱性が劣っており、例えば、ポリエチレンテレフ
タレートにて形成した製品の熱変形温度は76℃程度、
ポリブチレンテレフタレートにて形成した製品の熱変形
温度は59℃程度と非常に低く、従来より根本的な耐熱
化の手法が待たれていた。
更に、ポリエチレンテレフタレートは、結晶化が遅いた
め、熱水で加熱して100℃以下の温度で使用される通
常の金型を用いて射出成形する場合には、金型内で樹脂
の結晶化が充分に進行せず、得られる成形品の寸法安定
件が不良で、また成形品の表面状態が悪いという欠点が
ある。
め、熱水で加熱して100℃以下の温度で使用される通
常の金型を用いて射出成形する場合には、金型内で樹脂
の結晶化が充分に進行せず、得られる成形品の寸法安定
件が不良で、また成形品の表面状態が悪いという欠点が
ある。
ポリエチレンテレフタレートを金型温度130℃以上で
成形する場合には、上記した結晶化が遅い問題は改善さ
れるが、この場合には高温の金型を使用することが必要
となり、経済性の面で不利である。
成形する場合には、上記した結晶化が遅い問題は改善さ
れるが、この場合には高温の金型を使用することが必要
となり、経済性の面で不利である。
そこで、ポリエチレンテレフタレートの結晶性を改善す
るた狛に、これまで種々の方法が試みられてきた。
るた狛に、これまで種々の方法が試みられてきた。
例えば、■可塑化成分を添加、または共重合させること
により、ポリマー分子間の運動を活発化させ結晶化のだ
めの分子配向を促進させる方法や、■結晶核剤を添加し
て結晶し易くする方法である。
により、ポリマー分子間の運動を活発化させ結晶化のだ
めの分子配向を促進させる方法や、■結晶核剤を添加し
て結晶し易くする方法である。
■の方法に関しては、特公昭47−3027号公報、特
公昭47−4140号公報、特開昭57−38849号
公報において、ポリエーテルグリコールなどの柔軟鎮を
芳香族ポリエステルの分子鎖中に導入する技術が開示さ
れている。ところが、この方法では、芳香族ポリエステ
ルの耐熱性や力学特性等の低下が避けられない。
公昭47−4140号公報、特開昭57−38849号
公報において、ポリエーテルグリコールなどの柔軟鎮を
芳香族ポリエステルの分子鎖中に導入する技術が開示さ
れている。ところが、この方法では、芳香族ポリエステ
ルの耐熱性や力学特性等の低下が避けられない。
上記■の方法に関しては、特開昭54−158452号
公報、特開昭56−57825号公報、特公昭54−3
8622号公報において、有機酸の金属塩や、高融点ポ
リエチレンテレフタレートを添加する技術が開示されて
いる。ところが、このような外部核化剤を添加する方法
では結晶化促進に限度があり、結晶化も充分に速いとは
いえない。
公報、特開昭56−57825号公報、特公昭54−3
8622号公報において、有機酸の金属塩や、高融点ポ
リエチレンテレフタレートを添加する技術が開示されて
いる。ところが、このような外部核化剤を添加する方法
では結晶化促進に限度があり、結晶化も充分に速いとは
いえない。
また、特開昭55−82150号公報には、特定の液晶
分子を添加する技術が開示されている。ところが、この
方法ではポリアルキレンテレフタレートの結晶化は遅く
なっている。また、特開昭56−104933号公報に
は、液晶セグメント構造を与える化合物を分子に結合さ
せる方法も開示されているが、この方法でもポリアルキ
レンテレフタレートの結晶化が充分に速いとはいえない
。
分子を添加する技術が開示されている。ところが、この
方法ではポリアルキレンテレフタレートの結晶化は遅く
なっている。また、特開昭56−104933号公報に
は、液晶セグメント構造を与える化合物を分子に結合さ
せる方法も開示されているが、この方法でもポリアルキ
レンテレフタレートの結晶化が充分に速いとはいえない
。
一方、ポリブチレンテレフタレートはポリエチレンテレ
フタレートに比べると、結晶化が速いため、100℃以
下の金型でも良好な成形品を得ることができる。しかし
、このポリブチレンテレフタレートはポリエチレンテレ
フタレートに比べて耐熱性、力学特性の低いことが欠点
とされている。
フタレートに比べると、結晶化が速いため、100℃以
下の金型でも良好な成形品を得ることができる。しかし
、このポリブチレンテレフタレートはポリエチレンテレ
フタレートに比べて耐熱性、力学特性の低いことが欠点
とされている。
本発明は、このような問題を解決するためになされたも
のであって、その目的とするところは、結晶化が速く、
かつ耐熱性、力学特性が向上したポリアルキレンテレフ
タレートを製造しつる方法を提供することにある。
のであって、その目的とするところは、結晶化が速く、
かつ耐熱性、力学特性が向上したポリアルキレンテレフ
タレートを製造しつる方法を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明は、[1〕式で示したp−ターフェニル誘導体お
よび〔■〕式で示したp−クォーターフェニル誘導体が
、結晶性が高く、既存の低分子化合物中でも極めて高い
融点を有しており、これらの化合物をエステル交換反応
によりポリアルキレンテレフタレートの分子鎖中に導入
することによって、結晶化が速く、かつ耐熱性に優れた
ポリアルキレンテレフタレートが得られるという知見に
基づいてなされた。
よび〔■〕式で示したp−クォーターフェニル誘導体が
、結晶性が高く、既存の低分子化合物中でも極めて高い
融点を有しており、これらの化合物をエステル交換反応
によりポリアルキレンテレフタレートの分子鎖中に導入
することによって、結晶化が速く、かつ耐熱性に優れた
ポリアルキレンテレフタレートが得られるという知見に
基づいてなされた。
すなわち、本発明のポリアルキレンテレフタレートの製
造方法は、一般式が下式〔1〕で表されるp−ターフェ
ニル誘導体および一般式が下式〔■〕で表されるp−ク
ォーターフェニル誘導体からなる群より選ばれた少なく
とも1種の化合物をポリアルキレンテレフタレートに作
用させ、エステル交換反応によってポリアルキレンテレ
フタレートの分子鎖中に該化合物を導入することにより
上託目的が達成される。
造方法は、一般式が下式〔1〕で表されるp−ターフェ
ニル誘導体および一般式が下式〔■〕で表されるp−ク
ォーターフェニル誘導体からなる群より選ばれた少なく
とも1種の化合物をポリアルキレンテレフタレートに作
用させ、エステル交換反応によってポリアルキレンテレ
フタレートの分子鎖中に該化合物を導入することにより
上託目的が達成される。
(式中、R’およびR2は、各々独立して、−Hlまた
は−CH,CH(CH3)0CCH3を表す)口 (式中、R3およびR4は、各々独立して、−Hl−C
H2CL叶、−CH,CH(CH,)叶または−CH2
CH(CH3) 0遁CH3を表す)。
は−CH,CH(CH3)0CCH3を表す)口 (式中、R3およびR4は、各々独立して、−Hl−C
H2CL叶、−CH,CH(CH,)叶または−CH2
CH(CH3) 0遁CH3を表す)。
本発明に用いられるポリアルキレンテレフタレートは、
例えば、ポリエチレンテレフタレート又はポリブチレン
テレフタレートを使用するのが好ましい。
例えば、ポリエチレンテレフタレート又はポリブチレン
テレフタレートを使用するのが好ましい。
ポリエチレンテレフタレートは、式ClIDで表される
繰り返し単位を主要構成単位とする重縮合体であり、こ
のポリエチレンテレフタレートは、通常公知の方法で製
造可能である。例えば、テレフタル酸又はテレフタル酸
ジメチルとエチレングリコールとを重縮合する方法が挙
げられる。
繰り返し単位を主要構成単位とする重縮合体であり、こ
のポリエチレンテレフタレートは、通常公知の方法で製
造可能である。例えば、テレフタル酸又はテレフタル酸
ジメチルとエチレングリコールとを重縮合する方法が挙
げられる。
また、ポリブチレンテレフタレートは、式[1’V]で
表される繰り返し単位を主要構成単位とする重縮合体で
あり、このポリブチレンテレフタレートは、通常公知の
方法で製造可能である。例えば、テレフタル酸又はテレ
フタル酸ジメチルとブチレングリコールとを重縮合する
方法が挙げられる。
表される繰り返し単位を主要構成単位とする重縮合体で
あり、このポリブチレンテレフタレートは、通常公知の
方法で製造可能である。例えば、テレフタル酸又はテレ
フタル酸ジメチルとブチレングリコールとを重縮合する
方法が挙げられる。
本発明で使用されるp−ターフェニル誘導体に1よ、4
.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェニル、4.4″
−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p−ターフェニル、
4.4°゛シ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ター
フェニル、4.4°′−ジ(2−アセトキシプロポキシ
)−p−ターフェニル、4.4゛°−ジ(2−アセトキ
シエトキシ) −pターフェニルおよび4.4°°−ジ
アセトキシ−p−ターフェニルがある。また、p−クォ
ーターフェニル誘導体には、4.4“°−ジヒドロキシ
ーp−クォーターフェニル、4.4′°゛−ジ(2−ヒ
ドロキシエトキシ)−p−クォーターフェニル、4.4
゛°−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−クォータ
ーフェニル、4.4°°゛ジ(2−アセトキシプロポキ
シ)−p−クォーターフェニルがある。これらの化合物
は、単独で使用してもよいし、2種類以上の化合物を併
用してもよい。
.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェニル、4.4″
−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p−ターフェニル、
4.4°゛シ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ター
フェニル、4.4°′−ジ(2−アセトキシプロポキシ
)−p−ターフェニル、4.4゛°−ジ(2−アセトキ
シエトキシ) −pターフェニルおよび4.4°°−ジ
アセトキシ−p−ターフェニルがある。また、p−クォ
ーターフェニル誘導体には、4.4“°−ジヒドロキシ
ーp−クォーターフェニル、4.4′°゛−ジ(2−ヒ
ドロキシエトキシ)−p−クォーターフェニル、4.4
゛°−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−クォータ
ーフェニル、4.4°°゛ジ(2−アセトキシプロポキ
シ)−p−クォーターフェニルがある。これらの化合物
は、単独で使用してもよいし、2種類以上の化合物を併
用してもよい。
これら化合物の液晶転移温度は高く、例えば、4.4”
−ジヒドロキシ−p−ターフェニルの結晶状態から液晶
状態への液晶転移温度は336℃、4.4′。
−ジヒドロキシ−p−ターフェニルの結晶状態から液晶
状態への液晶転移温度は336℃、4.4′。
ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p−ターフェニルの液
晶転移温度は340℃、4.4°′°−ジヒドロキシ−
pクォーターフェニルの液晶転移温度は336℃、4.
4°“−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p−クォータ
ーフェニルの液晶転移温度は403℃である。液晶状態
とは、化合物が溶融状態であって分子が配向状態を保持
している状態をいう。液晶性の分子は一般に結晶性が高
く、また、上記したようにこれらの化合物の液晶転移温
度が高いため、これらの化合物を、エステル交換反応に
よって上記ポリアルキレンテレフタレートの分子鎖中に
導入することにより、結晶化が速く、かつ耐熱性に優れ
たポリアルキレンテレフタレートを得ることができる。
晶転移温度は340℃、4.4°′°−ジヒドロキシ−
pクォーターフェニルの液晶転移温度は336℃、4.
4°“−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p−クォータ
ーフェニルの液晶転移温度は403℃である。液晶状態
とは、化合物が溶融状態であって分子が配向状態を保持
している状態をいう。液晶性の分子は一般に結晶性が高
く、また、上記したようにこれらの化合物の液晶転移温
度が高いため、これらの化合物を、エステル交換反応に
よって上記ポリアルキレンテレフタレートの分子鎖中に
導入することにより、結晶化が速く、かつ耐熱性に優れ
たポリアルキレンテレフタレートを得ることができる。
p−ターフェニル誘導体および/またはp−クォーター
フェニル誘導体の配合量は、ポリアルキレンテレフタレ
ート100重量部に対して1〜40重量部が好ましい。
フェニル誘導体の配合量は、ポリアルキレンテレフタレ
ート100重量部に対して1〜40重量部が好ましい。
配合量が1重量部未満の場合には、得られるポリアルキ
レンテレフタレートの耐熱性は十分な向上が認められな
い。また、該化合物の配合量が40重量部を上まわる場
合には、物理的に脆い生成物が得られる。
レンテレフタレートの耐熱性は十分な向上が認められな
い。また、該化合物の配合量が40重量部を上まわる場
合には、物理的に脆い生成物が得られる。
エステル交換の方法は、従来公知の任意の方法を採用す
ることができる。また、エステル交換反応をより効率的
に行ったtに触媒を使用してもよい。
ることができる。また、エステル交換反応をより効率的
に行ったtに触媒を使用してもよい。
用いられる触媒としては、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム
、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバ
ルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリ
ウム、ホウ素、カドミウム、マンガン等の金属;これら
の金属酸化物および有機酸塩、金属アルコキシド等の有
機金属化合物等が挙げられる。
ウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム
、ストロンチウム、亜鉛、アルミニウム、チタン、コバ
ルト、ゲルマニウム、錫、鉛、アンチモン、ヒ素、セリ
ウム、ホウ素、カドミウム、マンガン等の金属;これら
の金属酸化物および有機酸塩、金属アルコキシド等の有
機金属化合物等が挙げられる。
特に好ましい触媒は、酢酸カルシウム、ジアシル第一錫
、テトラアシル第二錫、ジブチル錫オ牛サイド、ジブチ
ル錫ジラウレート、ジメチル錫マレート、錫ジオクタノ
エート、錫テトラアセテート、トリイソブチルアルミニ
ウム、テトラブチルチタネート、二酸化ゲルマニウムお
よび三酸化アンチモンである。これらの触媒は、2種以
上併用してもよい。また、エステル交換反応を安定に行
うために、反応系に少量の熱安定剤を添加してもよい。
、テトラアシル第二錫、ジブチル錫オ牛サイド、ジブチ
ル錫ジラウレート、ジメチル錫マレート、錫ジオクタノ
エート、錫テトラアセテート、トリイソブチルアルミニ
ウム、テトラブチルチタネート、二酸化ゲルマニウムお
よび三酸化アンチモンである。これらの触媒は、2種以
上併用してもよい。また、エステル交換反応を安定に行
うために、反応系に少量の熱安定剤を添加してもよい。
用いられる熱安定剤としては、ヒンダードフェノール系
、リン系、イオウ系が好適である。
、リン系、イオウ系が好適である。
(実施例)
以下に、本発明を実施例に基づいて説明する。
くp−ターフェニル誘導体の合成〉
(a)4.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェニルの
合成4−メトキシ−4°゛−ブロモビフェニルをテトラ
ヒドロン中でマグネシウムと反応させて、グリニヤール
試薬を調製した。このグリニヤール試薬と4ブロモアニ
ソールとを、触媒としてNiC1゜(dppp)を用い
てカップリングさせて 4.4’ l−ジメトキシ−p
〜ジターェニルを得た。次いで、この4.4パ−ジメト
キシ−p−ターフェニルを、塩化メチレン中のPBr
!で処理して4.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェ
ニルを合成した。
合成4−メトキシ−4°゛−ブロモビフェニルをテトラ
ヒドロン中でマグネシウムと反応させて、グリニヤール
試薬を調製した。このグリニヤール試薬と4ブロモアニ
ソールとを、触媒としてNiC1゜(dppp)を用い
てカップリングさせて 4.4’ l−ジメトキシ−p
〜ジターェニルを得た。次いで、この4.4パ−ジメト
キシ−p−ターフェニルを、塩化メチレン中のPBr
!で処理して4.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェ
ニルを合成した。
(b)4.4“−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p−
ターフェニルおよび4.4”−ジ(2−ヒドロキシプロ
ポキシ)−p−ターフェニルの合成 cm)項で合成した4、4゛−ジヒドロキシ−p−ター
フェニルに、各々エチレンカーボネートおよびプロピレ
ンカーボネートを反応させることにより4.41ジ(2
−ヒドロキシエトキシ)−p−ターフェニルおよび4.
4′°−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ターフ
ェニルを合成した。
ターフェニルおよび4.4”−ジ(2−ヒドロキシプロ
ポキシ)−p−ターフェニルの合成 cm)項で合成した4、4゛−ジヒドロキシ−p−ター
フェニルに、各々エチレンカーボネートおよびプロピレ
ンカーボネートを反応させることにより4.41ジ(2
−ヒドロキシエトキシ)−p−ターフェニルおよび4.
4′°−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ターフ
ェニルを合成した。
(C) 4.4”−ジアセトキシ−p−ターフェニルの
合成(a)項で合成した4、4°”−ジヒドロキシ−p
−ターフェニルと無水酢酸とをモル比で1:1〜1:1
.2となるように配合し、スルホラン溶媒中で160℃
にて3時間反応させて、4.4°゛−ジアセトキシ−p
−ターフェニルを合成した。
合成(a)項で合成した4、4°”−ジヒドロキシ−p
−ターフェニルと無水酢酸とをモル比で1:1〜1:1
.2となるように配合し、スルホラン溶媒中で160℃
にて3時間反応させて、4.4°゛−ジアセトキシ−p
−ターフェニルを合成した。
(6)4.4°゛−ジ(2−アセトキシエトキシ)−p
−ターフェニルおよび4.4”°−ジ(2−アセトキシ
プロポキシ)−p−ターフェニルの合成 各々、4.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェニルに
代えて4.4′°−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p
−ターフェニルおよび4.4”−ジ(2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−p−ターフェニルを用いた以外は、(C)
項と同様にして4.4°′−ジ(2−アセトキシエトキ
シ)−p〜ジターェニルおよび4.41−ジ(2−アセ
トキシプロポキシ)−p−ターフェニルを合成した。
−ターフェニルおよび4.4”°−ジ(2−アセトキシ
プロポキシ)−p−ターフェニルの合成 各々、4.4°°−ジヒドロキシ−p−ターフェニルに
代えて4.4′°−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−p
−ターフェニルおよび4.4”−ジ(2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−p−ターフェニルを用いた以外は、(C)
項と同様にして4.4°′−ジ(2−アセトキシエトキ
シ)−p〜ジターェニルおよび4.41−ジ(2−アセ
トキシプロポキシ)−p−ターフェニルを合成した。
〈p−クォーターフェニル誘導体の合成〉(e〕4.4
゛゛−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニルの合成 Journal of Chemical 5ocie
ty、1379−1385頁(1940年)に記載の方
法に従って4.4′°°−ジヒドロキシ−p−クォータ
ーフェニルを合成した。
゛゛−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニルの合成 Journal of Chemical 5ocie
ty、1379−1385頁(1940年)に記載の方
法に従って4.4′°°−ジヒドロキシ−p−クォータ
ーフェニルを合成した。
(f)4.4゛°゛−ジ(2−ヒドロキシエトキシ)−
p−クォーターフェニルおよび4.4’ l 1−ジ(
2−ヒドロキシプロポキシ>−p−クォーターフェニル
の合成4.4°°”−ジヒドロキシ−p−クォーターフ
ェニルに、エチレンカーボネートおよびプロピレンカー
ボネートを反応させることにより4.4′目−ジ(2一
ヒドロ手ジェトキシ)−p−クォーターフェニルおよび
4.4゛゛−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ク
ォーターフェニルを合成した。
p−クォーターフェニルおよび4.4’ l 1−ジ(
2−ヒドロキシプロポキシ>−p−クォーターフェニル
の合成4.4°°”−ジヒドロキシ−p−クォーターフ
ェニルに、エチレンカーボネートおよびプロピレンカー
ボネートを反応させることにより4.4′目−ジ(2一
ヒドロ手ジェトキシ)−p−クォーターフェニルおよび
4.4゛゛−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ク
ォーターフェニルを合成した。
(g)4.4″”−ジ(2−アセトキシプロポキシ)−
p−クォーターフェニルの合成 4.4゛゛−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ク
オ−ターフェニルと無水酢酸とを、モル比で1=1〜C
1,2となるように配合し、スルホラン溶媒中で160
℃にて3時間反応させて、4.4゛°−ジ(2−アセト
キシブロボキシ)−p−クォーターフェニルを合成した
。
p−クォーターフェニルの合成 4.4゛゛−ジ(2−ヒドロキシプロポキシ)−p−ク
オ−ターフェニルと無水酢酸とを、モル比で1=1〜C
1,2となるように配合し、スルホラン溶媒中で160
℃にて3時間反応させて、4.4゛°−ジ(2−アセト
キシブロボキシ)−p−クォーターフェニルを合成した
。
〈昇温結晶化温度の測定〉
測定しようとするポリアルキレンテレフタレートを、真
空炉にて110℃で乾燥した。乾燥後、ポリアルキレン
テレフタレートをポリテトラフルオロエチレン被覆ステ
ンレス鋼板の間に挟んで、280℃にて18MPaの圧
力で押圧して、厚さ0.375mmのフィルムラ得た。
空炉にて110℃で乾燥した。乾燥後、ポリアルキレン
テレフタレートをポリテトラフルオロエチレン被覆ステ
ンレス鋼板の間に挟んで、280℃にて18MPaの圧
力で押圧して、厚さ0.375mmのフィルムラ得た。
次に、このフィルムを所定圧力で2分間押圧した後、フ
ィルムを水中で冷却した。
ィルムを水中で冷却した。
このフィルム約10mgをDSC(示差熱量計)を用い
て、16℃/分で加熱したときの発熱曲線を記録した。
て、16℃/分で加熱したときの発熱曲線を記録した。
得られた曲線から求められる発熱ピーク温度を昇温結晶
化温度とした。
化温度とした。
〈等温結晶化半減期〉
測定しようとするポリアルキレンテレフタレートを、2
70℃で10分間溶融させた後200℃に急冷した。装
置の検温部が200℃に達してから、その温度を保持し
つつ、結晶化発熱ピーク曲線を記録した。ピーク面積の
半分の面積に至るまでの時間を等温結晶化半減期とした
。
70℃で10分間溶融させた後200℃に急冷した。装
置の検温部が200℃に達してから、その温度を保持し
つつ、結晶化発熱ピーク曲線を記録した。ピーク面積の
半分の面積に至るまでの時間を等温結晶化半減期とした
。
実施例1〜8
ポリエチレンテレフタレート(東洋紡績社製、バイロン
200P) 100重量邪に対して、第1表に示すp−
ターフェニル誘導体を第1表に示す量(重量部)、三酸
化アンチモンおよび熱安定剤(イルガーノックス101
0、チバガイギー社製)を配合した。
200P) 100重量邪に対して、第1表に示すp−
ターフェニル誘導体を第1表に示す量(重量部)、三酸
化アンチモンおよび熱安定剤(イルガーノックス101
0、チバガイギー社製)を配合した。
三酸化アンチモンの添加量は、実施例1.2及び4〜8
では0.05重量部、実施例3では0.1重量部とした
。熱安定剤の添加量は、実施例1では0,25重量邪、
実施例2〜8では0.3重量部とした。この混合物を、
0.lmmHg以下の減圧下で溶融混練し、エステル交
換反応を行った。反応時間は、実施例3では1.5時間
、実施例1.2及び4〜8では1時間とした。また、反
応温度は、実施例1および2では340℃、実施例3〜
8では350℃とした。
では0.05重量部、実施例3では0.1重量部とした
。熱安定剤の添加量は、実施例1では0,25重量邪、
実施例2〜8では0.3重量部とした。この混合物を、
0.lmmHg以下の減圧下で溶融混練し、エステル交
換反応を行った。反応時間は、実施例3では1.5時間
、実施例1.2及び4〜8では1時間とした。また、反
応温度は、実施例1および2では340℃、実施例3〜
8では350℃とした。
得られたポリエチレンテレフタレートを300℃でプレ
ス成形してシートを得、このシートの熱変形温度(荷重
18.6kg/crl)をASTM 0648に準拠し
て測定した。
ス成形してシートを得、このシートの熱変形温度(荷重
18.6kg/crl)をASTM 0648に準拠し
て測定した。
また、実施例1.2及び4〜8で得られた各ポリエチレ
ンテレフタレートの昇温結晶化温度を測定した。いずれ
のポリエチレンテレフタレートについても、全く発熱ピ
ークが認められなかった。
ンテレフタレートの昇温結晶化温度を測定した。いずれ
のポリエチレンテレフタレートについても、全く発熱ピ
ークが認められなかった。
このことは、ポリエチレンテレフタレートが、冷却した
ときにはすでに結晶化が完了したことを示している。
ときにはすでに結晶化が完了したことを示している。
また、実施例1及び3〜8で得られた各ポリエチレンテ
レフタレートの等温結晶化半減期を測定した。実施例3
で得られたポリエチレンテレフタレートについては、結
晶化が速すぎて、明確な発熱ピークを観察するこができ
ず、等温結晶化半減期を求めることができなかった。
レフタレートの等温結晶化半減期を測定した。実施例3
で得られたポリエチレンテレフタレートについては、結
晶化が速すぎて、明確な発熱ピークを観察するこができ
ず、等温結晶化半減期を求めることができなかった。
これらの結果を第1表に示した。
比較例1
実施例1で使用したポリエチレンテレフタレートのみの
熱変形温度、昇温結晶化温度及び等温結晶化半減期を、 実施例1と同様にして測定した。
熱変形温度、昇温結晶化温度及び等温結晶化半減期を、 実施例1と同様にして測定した。
その結果を第1表に示した。
(以下余白)
実施例9〜16
ポリブチレンテレフタレート(エンジニアリングプラス
チック社製、バロックス310) 100重量部に対し
て、第2表に示すp−ターフェニル誘導体を第2表に示
す量(重量部)、三酸化アンチモンおよび熱安定剤(イ
ルガーノックス1010、チバガイギー社製)を配合し
た。二酸化アンチモンの添加量は、実施例9.10及び
12〜16では0.05重量部、実施例11では0.1
重量部とした。熱安定剤の添加量は、実施例9では0.
25重量部、実施例10〜16では0.3重量部とした
。この混合物を、0.1mm)tg以下の減圧下で溶融
混練し、エステル交換反応を行った。反応時間は、実施
例11では1.5時間、実施例9.10及び12〜16
では1時間とした。反応温度は、実施例9および10で
は340℃、実施例11〜16では350℃とした。
チック社製、バロックス310) 100重量部に対し
て、第2表に示すp−ターフェニル誘導体を第2表に示
す量(重量部)、三酸化アンチモンおよび熱安定剤(イ
ルガーノックス1010、チバガイギー社製)を配合し
た。二酸化アンチモンの添加量は、実施例9.10及び
12〜16では0.05重量部、実施例11では0.1
重量部とした。熱安定剤の添加量は、実施例9では0.
25重量部、実施例10〜16では0.3重量部とした
。この混合物を、0.1mm)tg以下の減圧下で溶融
混練し、エステル交換反応を行った。反応時間は、実施
例11では1.5時間、実施例9.10及び12〜16
では1時間とした。反応温度は、実施例9および10で
は340℃、実施例11〜16では350℃とした。
得られたポリブチレンテレフタレートの熱変形温度を実
施例1と同様の方法で測定した。その結果を第2表に示
した。
施例1と同様の方法で測定した。その結果を第2表に示
した。
比較例2
実施例9で使用したポリブチレンテレフタレートのみの
熱変形温度を実施例1と同様の方法で測定した。その結
果を第2表に示した。
熱変形温度を実施例1と同様の方法で測定した。その結
果を第2表に示した。
(以下余白)
実施例17〜22
p−ターフェニル誘導体に代えて第3表に示すp−クォ
ーターフェニル誘導体を用いた以外は、実施例1と同様
にしてポリエチレンテレフタレートを得た。p−クォー
ターフェニル誘導体の添加量は、第3表に示す量(重量
部)とした。二酸化アンチモンの添加量は、実施例17
.18及び20〜22では0.05重量部、実施例19
では0.1重量部とした。熱安定剤の添加量は、実施例
17では0.25重量部、実施例18〜22では、0.
3重量部とした。反応時間は、実施例19では1.5時
間、実施例17.18及び20〜22では1時間とした
。反応温度は、実施例17および18では340℃、実
施例19〜22では350℃とした。
ーターフェニル誘導体を用いた以外は、実施例1と同様
にしてポリエチレンテレフタレートを得た。p−クォー
ターフェニル誘導体の添加量は、第3表に示す量(重量
部)とした。二酸化アンチモンの添加量は、実施例17
.18及び20〜22では0.05重量部、実施例19
では0.1重量部とした。熱安定剤の添加量は、実施例
17では0.25重量部、実施例18〜22では、0.
3重量部とした。反応時間は、実施例19では1.5時
間、実施例17.18及び20〜22では1時間とした
。反応温度は、実施例17および18では340℃、実
施例19〜22では350℃とした。
得られたポリエチレンテレフタレートを実施例1と同様
にしてシートを得、この熱変形温度を測定した。また、
実施例17.18及び20〜22で得られたポリエチレ
ンテレフタレートの昇温結晶化温度を実施例1と同様に
して測定したところ、いずれのポリエチレンテレフタレ
ートについても、全く発熱ピークが認められなかった。
にしてシートを得、この熱変形温度を測定した。また、
実施例17.18及び20〜22で得られたポリエチレ
ンテレフタレートの昇温結晶化温度を実施例1と同様に
して測定したところ、いずれのポリエチレンテレフタレ
ートについても、全く発熱ピークが認められなかった。
このことは、ポリエチレンテレフタレートが、冷却した
ときにはすでに結晶化が完了したことを示している。
ときにはすでに結晶化が完了したことを示している。
さらに、実施例17.18及び20〜22で得られたポ
リエチレンテレフタレートの等温結晶化半減期を測定し
た。実施例18で得られたポリエチレンテレフタレート
については、結晶化が速すぎて、明確な発熱ピークを観
察するこができず、等温結晶化半減期を求めることがで
きなかった。
リエチレンテレフタレートの等温結晶化半減期を測定し
た。実施例18で得られたポリエチレンテレフタレート
については、結晶化が速すぎて、明確な発熱ピークを観
察するこができず、等温結晶化半減期を求めることがで
きなかった。
これらの結果を第3表に示した。
(以下余白)
実施例23〜28
p−ターフェニル誘導体に代えて第4表に示すp−クォ
ーターフェニル誘導体を用いた以外は、実施例9と同様
にしてポリブチレンテレフタレートを得た。p−クォー
ターフェニル誘導体の添加量は、第4表に示す量(重量
部)とした。三酸化アンチモンの添加量は、実施例23
.24及び26〜28では0.05重量部、実施例25
では0.1重量部とした。熱安定剤の添加量は、実施例
23では0.25重量部、実施例24〜28では0゜3
重量部とした。反応時間は、実施例25では1.5時間
、実施例23.24及び26〜28では1時間とした。
ーターフェニル誘導体を用いた以外は、実施例9と同様
にしてポリブチレンテレフタレートを得た。p−クォー
ターフェニル誘導体の添加量は、第4表に示す量(重量
部)とした。三酸化アンチモンの添加量は、実施例23
.24及び26〜28では0.05重量部、実施例25
では0.1重量部とした。熱安定剤の添加量は、実施例
23では0.25重量部、実施例24〜28では0゜3
重量部とした。反応時間は、実施例25では1.5時間
、実施例23.24及び26〜28では1時間とした。
反応温度は、実施例23および24では340℃、実施
例25〜28では350℃とした。
例25〜28では350℃とした。
得られたポリブチレンテレフタレートの熱変形温度を実
施例1と同様の方法で測定した。その結果を第4表に示
した。
施例1と同様の方法で測定した。その結果を第4表に示
した。
(以下余白)
第1〜4表の結果から、ポリアルキレンテレフタレート
の分子鎖に上記p−ターフェニル誘導体またはp−クォ
ーターフェニル誘導体を導入することにより、得られる
ポリアルキレンテレフタレートの結晶化は速くなり、か
つ耐熱性が向上することが確認された。
の分子鎖に上記p−ターフェニル誘導体またはp−クォ
ーターフェニル誘導体を導入することにより、得られる
ポリアルキレンテレフタレートの結晶化は速くなり、か
つ耐熱性が向上することが確認された。
(発明の効果)
このように、本発明によれば結晶化が速く、かつ耐熱性
に優れたポリアルキレンテレフタレートを得ることがで
き、このポリアルキレンテレフタレートは力学的及び耐
熱要求の高い分野でも使用することができる。
に優れたポリアルキレンテレフタレートを得ることがで
き、このポリアルキレンテレフタレートは力学的及び耐
熱要求の高い分野でも使用することができる。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式が下式〔 I 〕で表されるp−ターフェニル
誘導体および一般式が下式〔II〕で表されるp−クォー
ターフェニル誘導体からなる群より選ばれた少なくとも
1種の化合物をポリアルキレンテレフタレートに作用さ
せ、エステル交換反応によってポリアルキレンテレフタ
レートの分子鎖中に該化合物を導入することを特徴とす
るポリアルキレンテレフタレートの製造方法: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は、各々独立して、−H、
−CH_2CH_2OH、−CH_2CH(CH_3)
OH、▲数式、化学式、表等があります▼または−CH
_2CH(CH_3)OCCH_3を表す)▲数式、化
学式、表等があります▼ (式中、R^3およびR^4は、各々独立して、−H、
−CH_2CH_2OH、−CH_2CH(CH_3)
OHまたは▲数式、化学式、表等があります▼を表す)
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7767090A JP2512588B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ポリアルキレンテレフタレ―トの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7767090A JP2512588B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ポリアルキレンテレフタレ―トの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03277625A true JPH03277625A (ja) | 1991-12-09 |
JP2512588B2 JP2512588B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=13640318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7767090A Expired - Lifetime JP2512588B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ポリアルキレンテレフタレ―トの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2512588B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008303221A (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Dongjin Semichem Co Ltd | 感光性化合物およびこれを含むフォトレジスト組成物 |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP7767090A patent/JP2512588B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008303221A (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Dongjin Semichem Co Ltd | 感光性化合物およびこれを含むフォトレジスト組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2512588B2 (ja) | 1996-07-03 |
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