JPH03277620A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH03277620A JPH03277620A JP7980790A JP7980790A JPH03277620A JP H03277620 A JPH03277620 A JP H03277620A JP 7980790 A JP7980790 A JP 7980790A JP 7980790 A JP7980790 A JP 7980790A JP H03277620 A JPH03277620 A JP H03277620A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin composition
- curing agent
- formula
- curing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 57
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 23
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 16
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 abstract description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 abstract description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 abstract description 3
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 abstract 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 10
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- -1 undecene-7 Chemical class 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- 235000012771 pancakes Nutrition 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFVPEIKDMMISQO-UHFFFAOYSA-N 4-[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC=C(O)C=C1 NFVPEIKDMMISQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000012966 insertion method Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
付は工程において封止樹脂にクランクが発生するのが防
止され、さらに、耐湿性および耐熱性に優れた半導体封
止用エポキシ樹脂組成物に関する。
止する方法がよく行われてきた。熱硬性樹脂としては、
エポキシ樹脂組成物が最も一的に用いられている。
ンク型エポキシ樹脂、ビスフェノ−A型エポキシ樹脂、
脂肪族環状エポキシ樹脂なのエポキシ樹脂;フェノール
ノボランクなどの化剤;三級アミンやイミダゾールなど
の硬化促j剤;シリカやアルミナなどの無機微粉末から
な無機質充填材;シランカップリング剤などのカプリン
グ剤;カルナウバワックスやステアリン2などの離型剤
;カーボンブラックなどの着色剤2どから構成されてい
る。
実装方式が従来のビン挿入方式(D I ]:デュアル
・インライン・パッケージ等)から1面実装方式(SO
Pニスモール・アウトラインパンケージ、QFP:クオ
ツド・フラット・バーケージ等)へと移行しつつある。
装の際C1半田浴に浸漬されるなど高温(たとえば21
0〜270℃)で処理され、その際パッケージ全体に高
温の熱が加わる。この工程で従来の封止用樹脂で封止し
たパッケージは、樹脂部分にクランクが発生したり、大
幅に耐湿性が低下したりするなどの問題を生じ、製品と
して使用できない。
ら実装工程の間までに吸湿された水分が半田付は加熱時
に爆発的に水蒸気化し、膨張することに起因するといわ
れている。その対策として、後硬化したパンケージを完
全に乾燥し、密封した容器に収納して出荷する方法が用
いられているまた、封止用樹脂の改良も種々検討されて
いる。たとえば、特開昭64−87616号公報、特開
平1−108256号公報などには、エポキシ樹脂とし
てビフェニル型エポキシ樹脂を用い、硬化剤として一般
の硬化剤を用いた封止樹脂が提案されている。また、特
開昭62−184020号公報、特開昭62−1048
30号公報などには、硬化剤としてシンクロペンタジエ
ン・フェノール重合体を用い、一般のエポキシ樹脂を用
いた封止樹脂が提案されている。しかし、これらの公報
で提案されている封止樹脂では未だ充分な効果が得られ
ておらず、改良の余地があった。
工程および製品の取扱作業が煩雑になるという欠点があ
る。従って、表面実装化技術の進展に対応した封止用樹
脂の開発が望まれているのが現状である。
ときにクラックが発生しにくく、さらに耐湿信頼性に優
れ、表面実装ができる樹脂封止半導体装置を可能にする
ような半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること
を課題とする。
止用エポキシ樹脂組成物は、下記一般式■で表されるビ
フェニル型エポキシ樹脂(以下、「エポキシ樹脂(2)
」と言う)および下記一般式■で表されるシンクロペン
タジエン・フェノール重合体(以下、「硬化剤(6)」
と言う)を必須成分とする半導体封止用エポキシ樹脂組
成物であって、硬化促進剤として、下記の構造式〇で表
される16−ジアザ−ビシクロ−ノネン−5 (以下、
[DBNJと言う)を必須成分とすることを特徴とする
特 この発明にかかる半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、
上記エポキシ樹脂(4)および硬化剤(6)を必須成分
として含有するので、吸湿率を低減することができ、実
装時の温度で高強度を維持することができ、さらに、半
導体装置(たとえば、半導体チップなど)およびリード
フレームとの密着強度を向上できる。このため、実装時
の半田付は工程などにおける耐クラツク性を大幅に向上
させることが可能になった。
の1つである上記エポキシ樹脂(2)は、剛直なビフェ
ニル骨格を持つため、低弾性率であって、熱時強度に優
れている。さらに、フェニル骨格に疎水性のメチル基を
有するために、吸湿性が小さくなるという特徴を持つ。
.0の範囲でで有効な耐熱性を示す。望ましくはmは0
が良い。mが大きくなると、耐熱性の指標であるTg(
ガラス転移温度)が低下し、高温時強度も低下する。
般式■で表される、ジシクロペンタジェンとフェノール
の重合体である。このような硬化剤を必須成分とするこ
とにより、硬化物の吸湿性が極めて小さくなり、その上
一般のフェノールノボラック硬化剤と同等の耐熱性を持
つ。一般弐〇中の繰り返し単位数lは、0以上の整数で
あればよく、有効な耐熱性および/または吸湿性を示す
と言う点からは、0〜15の範囲が好ましく、0〜5゜
0がさらに好ましい。また、一般式■中のRは、Hまた
は1価の炭化水素基(c、 H2,,1)であり、同炭
化水素基の炭素数は特に限定されない。
須成分として用いる。DBNはサンアプロ社などからの
市販品を利用できる。硬化促進剤としては、DBNのみ
を用いるようにしてもよいが、他の硬化促進剤をDBN
と併用することがある。すなわち、DBNと他の硬化促
進剤の合計100重量部に対して、DBSが30〜10
0M量部となるようにして用いるのが好ましい。この範
囲を下回ると、耐湿信頼性が悪化したり、吸湿後の耐半
田クランク性が悪化したりするおそれがある。DBNと
併用されうる硬化促進剤としては、特に限定されないが
、たとえば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメ
チルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエ
タノールトリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等
の三級アミン類;2−メチルイミダゾール、2−エチル
−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール
、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタ
デシルイミダゾール等のイミダゾール類;トリブチルホ
スフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニル
ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィ
ン等の有機ホスフィン類(リン系硬化促進剤);テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフ
ェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2−エチル
−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N
−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラ
フェニルボロン塩等がある。
化促進剤としてDBNを必須成分として含んだエポキシ
樹脂組成物を封止材用の樹脂として用い、無機充填材、
カップリング剤、離型剤、着色剤などを加えた封止材料
に限り、実装時の半田付は工程などにおける耐クランク
性および耐湿信頼性を大幅に向上することができる。
かを必須成分として欠いた場合、半田付は時の耐クラン
ク性は大幅な向上を期待できない。
て含んでいれば、エポキシ樹脂(4)以外のエポキシ樹
脂を併用しても良い。たとえば、一般に使用されている
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂を、こ
の発明の効果を阻害しない範囲で適宜何種類でもエポキ
シ樹脂(2)と併用することができる。エポキシ樹脂(
4)とその他のエポキシ樹脂とは、これら両者の合計1
00M量部に対してエポキシ樹脂(4)が30〜100
重量部の割合となるようにするのが好ましい。この範囲
を下回ると、吸湿後の耐半田クラック性が大幅に悪くな
るおそれがある。
て含んでいれば、(2)以外の硬化剤を併用しても良い
。このような(6)以外の硬化剤としては、たとえば、
一般に使用されているフェノールノボラック、タレゾー
ルノボラック等がある。硬化剤(6)とその他の硬化剤
とは、これら両者の合計100重量部に対して硬化剤(
6)が30〜100重量部の割合となるようにするのが
好ましい。この範囲を下回ると、吸湿後の耐半田クラ・
7り性が大幅に悪くなるおそれがある。
の当量比は、特に限定はないが、(8)の水酸基数/(
A)のエポキシ基数=0.7〜1.3が望ましく、さら
に、0.9〜1.1が望ましい。また、他のエポキシ樹
脂や硬化剤を併用する時は、硬化剤の全水酸基数/エポ
キシ樹脂の全エポキシ基数=0.7〜1.3が望ましく
、0.9〜1.1がさらに望ましい。硬化促進剤の量は
、エポキシ樹脂全体に対して0.1〜5重量%が好まし
く、0.1重量%未満であれば硬化速度が遅く、実用上
成形サイクルがのびる等の問題が生じ、5重量%を越え
ると耐湿信頼性が劣り、アルミ断線によるオープン不良
率が高くなり、実用上使用するのに問題が生じる。
ク性)の良好な耐湿性・耐熱性の優れた半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物が得られる理由は、エポキシ樹脂(4
)と硬化剤(2)の各々の構造による。
なビフェニル骨格により、低吸湿、高耐熱さらに低弾性
率の特徴を発揮する。
ェン骨格を有するため、極めて低吸湿で、さらにリード
フレームや半導体装置(または半導体チップなど)等と
の密着性を高めるものと推察される。
成分として用いたこの発明の半導体封止用エポキシ樹脂
組成物で封止したパッケージは、半田付は時に発生する
パッケージクラック等の原因の1つである水分の侵入を
少なくし、さらに低弾性率かつ高密着性であるため、リ
ードフレームや半導体装置と封止樹脂の界面剥離をおさ
え、また、高温時の強度が高いため、実装時の水蒸気圧
に耐えるものと推察される。
が、この発明は下記実施例に限定されない。
キシ当量190、融点105℃のエポキシ樹脂rYX4
000HJ (油化シェルエポキシ株式会社の商品名
)を用いた。硬化剤(13)として次の構造式; で示され、平均分子量550、OH当量177、融点1
10℃のフェノール系硬化剤rDC100LLJ (
山陽国策バルブ株式会社の商品名)を用いた。
量部、D B N 1.5 l置部、モンタン酸離型剤
2.5重量部、カーボンブラック2.5重量部、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランおよびT−アミ
ノプロピルトリエトキシシランを各2.5重量部、熔融
シリカ微粉末830重量部を配合し、加熱ロールを使用
して混練温度70〜120℃で約8分の条件で混練した
。その後、約5wφに粉砕し、エポキシ樹脂組成物(エ
ポキシ樹脂成形材料)を作製した。
同様に配合して混練を行い、粉砕してエポキシ樹脂組成
物(エポキシ樹脂成形材料)を作製した。
いてR=CHsで示され、平均分子量520、OH当量
186、融点72℃のフェノール系硬化剤rDc200
LLJ (山陽国策バルブ株式会社の商品名)を用い
た。
、融点70℃のタレゾールノボラック型エポキシ樹脂r
EscN195XLJ (住友化学工業株式会社の商
品名)を用いた。
℃のフェノールノボラック樹脂[タマノール752J
(荒川化学工業株式会社の商品名)を用いた。
ファー成形機にて170〜175℃で90秒間成形し、
175℃で6時間後硬化し、下記の吸湿率、耐半田クラ
ンク性および耐湿信頼性の各評価用サンプルを得た。リ
ードフレーム密着強度の評価用サンプルは、下記のやり
方で得た。各種特性は、次に示す方法により測定、評価
し、これらの結果を第1表に示した。
%RHで72時間吸湿させ、重量変化より吸湿率を求め
た。
d)で175℃で成形し、175℃で6時間後硬化し、
円柱(a=φ12mm、b=7m厚み)の成形品3を4
2アロイ板2上に得た。第1図中、■は、ポリテトラフ
ロロエチレン樹脂製スペーサである。第2図に示す万能
引張試験器を用いて、前記4270イ板2と成形品3と
の引張剪断強度を測定した。第2図中、第1図と同じも
のには同じ番号を付しており、4は上部引張治具、5は
下部チャックである。42アロイ板2と成形品3の接触
面積は、(0,6C11)”π=1.13cdであった
。
をダイパッド寸法8.2 n X 8.2 nの42ア
ロイリードフレームに銀ペーストで実装し、外形寸法1
911×tswx厚み1.8fiの60ビンフラツトパ
ツケージ型IC金型にて成形し、その後85℃、85%
RHで72時間吸湿した後、260℃の半田槽に浸漬し
た際のパッケージクランク発生秒数を求めた。
t Element Group、 0.5 tryの
クシ形アルミ配線回路が加工され、ガラス系保護膜付き
のもの)を使用して、85℃、85%RHで72時間吸
湿した後、260℃の半田槽に10秒間浸漬した後、1
38.5℃、85%RH120Vの条件下で耐湿信頼性
を測定した。300時間経過後の不良率を求めた。
4のものに比べて、吸湿率が低く、かつ、リードフレー
ム密着強度が高いため、吸湿後の耐半田クラック性が格
段に優れている。しかも、実施例のものは、比較例1お
よび2のものに比べて、耐湿信頼性が非常に良い。
以上に述べたように、エポキシ樹脂(A)、硬化剤(6
)およびDBNを必須成分として含有するので、従来の
封止樹脂に比較して低吸湿性かつ高密着性を有する。こ
のため、吸湿後の耐半田クラック性に優れており、さら
に、耐湿信頼性にも優れ、その工業的価値は大きい。
図は、密着強度の評価方法を表す側面図である。 3・・・半導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物であ
る成形品 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式1で表されるビフェニル型エポキシ樹脂
および下記一般式2で表されるシンクロペンタジエン・
フェノール重合体を必須成分とする半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物であって、硬化促進剤として、下記の構造
式(3)で表される1、6−ジアザ−ビシクロ−ノネン
−5を必須成分とすることを特徴とする半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) 〔式(1)中、mは繰り返し単位の数を示す0〜1.0
の数〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(2) 〔式(2)中、RはHまたはC_nH_2_n_+_1
、nは0以上の整数、lは0以上の整数〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7980790A JP2756342B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7980790A JP2756342B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03277620A true JPH03277620A (ja) | 1991-12-09 |
JP2756342B2 JP2756342B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=13700487
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7980790A Expired - Lifetime JP2756342B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2756342B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP7980790A patent/JP2756342B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2756342B2 (ja) | 1998-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3292452B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP4710200B2 (ja) | エリア実装型半導体封止用エポキシ樹脂組成物の製造方法及びエリア実装型半導体装置 | |
JP3004463B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH03166220A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPH03277620A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPH08153831A (ja) | 半導体装置 | |
JP2002212393A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH1192631A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP4639427B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP4560871B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP4470264B2 (ja) | エリア型実装半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びエリア型実装半導体装置 | |
JPH1192629A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2000281748A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH1160901A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP4743932B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH11106612A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2001146511A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH11130937A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2954413B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP4524837B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH1192630A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH1160687A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2002173578A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH11100491A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH11181237A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080306 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 11 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 11 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100306 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100306 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110306 Year of fee payment: 13 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110306 Year of fee payment: 13 |