JPH03275686A - カルバペネム誘導体 - Google Patents
カルバペネム誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
の1
本発明は、カルバペネム骨格を有する新規な抗生物質に
関する。
関する。
え聚坐玉1
ペニシリンおよびセファロスポリン系の抗生物質は安全
性に優れており感染症治療に広く用いられてきた。しか
し、これらは全ての菌種に有効とはいえず、また、耐性
を獲得した菌株の出現により適用範囲が制限されつつあ
る。この耐性化は、薬剤の細胞透過性を妨げること、ま
たは、β−ラクタマーゼを産生じて薬剤を不活性化する
ことによることが報告されている。
性に優れており感染症治療に広く用いられてきた。しか
し、これらは全ての菌種に有効とはいえず、また、耐性
を獲得した菌株の出現により適用範囲が制限されつつあ
る。この耐性化は、薬剤の細胞透過性を妨げること、ま
たは、β−ラクタマーゼを産生じて薬剤を不活性化する
ことによることが報告されている。
1976年に発見されたカルバペネム骨格を有するチェ
ナマイシンはそれまでの抗生物質に対する耐性菌にも有
効であり、かつ、優れた抗菌活性を示した。
ナマイシンはそれまでの抗生物質に対する耐性菌にも有
効であり、かつ、優れた抗菌活性を示した。
゛ し よ と る 6チエナマイ
シンおよびその後数多く報告された他のカルバペネム誘
導体は、物理化学的に不安定であることと、腎臓のデヒ
ドロペプチダーゼ等の酵素によって簡単に分解される欠
点がある。
シンおよびその後数多く報告された他のカルバペネム誘
導体は、物理化学的に不安定であることと、腎臓のデヒ
ドロペプチダーゼ等の酵素によって簡単に分解される欠
点がある。
本発明者は、これらの欠点のないカルバペネム誘導体を
見出すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成した。
見出すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成した。
るため
〈発明の構成〉
本発明は一般式1
で表わされるカルバペネム誘導体に関し、上記式中で、
R+は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基また
は保護されたヒドロキシ低級アルキル基を意味し、C0
OR,はカルボキシル基、カルボキシレートアニオンま
たは保護されたカルボキシル基を意味し、R1は水素原
子または低級アルキル基を意味し、R4は次の式で表わ
される置換または無置換の複素環基を意味する。
R+は低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基また
は保護されたヒドロキシ低級アルキル基を意味し、C0
OR,はカルボキシル基、カルボキシレートアニオンま
たは保護されたカルボキシル基を意味し、R1は水素原
子または低級アルキル基を意味し、R4は次の式で表わ
される置換または無置換の複素環基を意味する。
ここで、Q+ 、Qs 、Qs 、Q413よびQ、は
それぞれ炭素原子または窒素原子を意味し、少なくとも
QlまたはQmbよびQ、またはQ4の二個環または6
員環の複素環を意味する。
それぞれ炭素原子または窒素原子を意味し、少なくとも
QlまたはQmbよびQ、またはQ4の二個環または6
員環の複素環を意味する。
本明細書でカルバペネムとは次の骨格を有する化合物を
意味し、本発明はこの骨格に種々の置換基を有するカル
バペネム誘導体に関する。
意味し、本発明はこの骨格に種々の置換基を有するカル
バペネム誘導体に関する。
式Iにおける置換基について説明する。
R1としてはヒドロキシル基を有することもあるメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基等の炭素数1〜6個[Cl−C5)のアルキル
基が挙げられ、1−ヒドロキシエチル基、特にl−ヒド
ロキシエチル基が6位炭素原子にS配置の立体配置であ
ってそのヒドロキシル基がこのエチル基の1位(一般に
カルバペネム8位といわれる)にR配置に結合している
場合が好適例として挙げられる。
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基等の炭素数1〜6個[Cl−C5)のアルキル
基が挙げられ、1−ヒドロキシエチル基、特にl−ヒド
ロキシエチル基が6位炭素原子にS配置の立体配置であ
ってそのヒドロキシル基がこのエチル基の1位(一般に
カルバペネム8位といわれる)にR配置に結合している
場合が好適例として挙げられる。
R3としては水素原子またはメチル、エチル、イソブチ
ル、第三ブチル等の直鎖状もしくは分岐鎖状C,−C,
アルキル基、メトキシメチル、メトキシエチル等のCl
CsアルコキシC1−C6アルキル基、ピバロイル
オキシメチル基等のCl−Cs脂肪族アシルオキシメチ
ル基およびフタリジル基を挙げることができる。更に、
カルボキシル基の保護基を兼ね、温和な条件で容易に除
去し得るエステル残基として、例えば0−ニトロベンジ
ル、ベンズヒドリルもしくは2−ナフチルメチル等のア
ラルキル基、アリル基またはトリメチルシリルなとのC
+−Caアルキルシリル基等が挙げられる。
ル、第三ブチル等の直鎖状もしくは分岐鎖状C,−C,
アルキル基、メトキシメチル、メトキシエチル等のCl
CsアルコキシC1−C6アルキル基、ピバロイル
オキシメチル基等のCl−Cs脂肪族アシルオキシメチ
ル基およびフタリジル基を挙げることができる。更に、
カルボキシル基の保護基を兼ね、温和な条件で容易に除
去し得るエステル残基として、例えば0−ニトロベンジ
ル、ベンズヒドリルもしくは2−ナフチルメチル等のア
ラルキル基、アリル基またはトリメチルシリルなとのC
+−Caアルキルシリル基等が挙げられる。
また、(:00R1がR4の四級化窒素の対イオンとし
てのカルボキシレートアニオンの形で存在する場合があ
る。さらに、本発明の化合物が強酸との塩である場合、
すなわち、四級化窒素の対イオンが強酸のアニオンであ
る場合、cooRsはカルボン酸の状態で存在すること
もあり、いわゆるベタイン化合物の特性を有しており、
このような酸付加塩は次の如く記載することもできる。
てのカルボキシレートアニオンの形で存在する場合があ
る。さらに、本発明の化合物が強酸との塩である場合、
すなわち、四級化窒素の対イオンが強酸のアニオンであ
る場合、cooRsはカルボン酸の状態で存在すること
もあり、いわゆるベタイン化合物の特性を有しており、
このような酸付加塩は次の如く記載することもできる。
(式中、X−は酸のアニオンを意味する。)さらに、R
4が塩基性基である場合、本発明の化合物がおかれてい
る環境(p旧により、GOOR,はカルボキシル基の場
合とカルボキシレートアニオンの場合のいずれかの状態
にあり、またそれらの平衡混合物として存在する場合も
あり、これはいわゆるアミノ酸のような双生イオン(Z
witter 1onl構造で存在する場合を意味し、
一般弐〇はこのような双生イオン構造の化合物をも意味
している。
4が塩基性基である場合、本発明の化合物がおかれてい
る環境(p旧により、GOOR,はカルボキシル基の場
合とカルボキシレートアニオンの場合のいずれかの状態
にあり、またそれらの平衡混合物として存在する場合も
あり、これはいわゆるアミノ酸のような双生イオン(Z
witter 1onl構造で存在する場合を意味し、
一般弐〇はこのような双生イオン構造の化合物をも意味
している。
代謝されつるエステル残基の好ましい例としては、ピバ
ロイルオキシメチル基、フタリジル基、アセトキシカル
ボニルオキシメチル基が挙げられる。
ロイルオキシメチル基、フタリジル基、アセトキシカル
ボニルオキシメチル基が挙げられる。
また、合成に際し、カルボキシル基の保護基として好適
なエステル残基はp−ニトロベンジル基、アリル基等が
ある。
なエステル残基はp−ニトロベンジル基、アリル基等が
ある。
Rsとしては水素原子またはメチル、エチル、プロピル
などの炭素数1〜4個を有する直鎖状もしくは分岐鎖状
低級アルキル基、メトキシメチル、メトキシエチル等の
C1−C@アルコキシC+−Csアルキル基、アミノメ
チル基、アシルアミノメチル基等が挙げられ、好適なも
のとしては、低級アルキル基が、特にメチル基が好適で
ある。この際1位の不斉炭素原子に関する立体配置とし
てはR配置のものが適当である。
などの炭素数1〜4個を有する直鎖状もしくは分岐鎖状
低級アルキル基、メトキシメチル、メトキシエチル等の
C1−C@アルコキシC+−Csアルキル基、アミノメ
チル基、アシルアミノメチル基等が挙げられ、好適なも
のとしては、低級アルキル基が、特にメチル基が好適で
ある。この際1位の不斉炭素原子に関する立体配置とし
てはR配置のものが適当である。
置換基R4としては以下の如き二環性複素環基を例示す
ることができる。
ることができる。
■ ■ O
■
Q O
■
■
すなわち、
■2,3,6.7−チトラヒドローLH,5H−ジビロ
ロー[1,2−a: 1 ’ 、 2°−clイミダゾ
リウム−1−イルまたは−2−イルまたは−3−イル、 ■2,3,7.8−テトラヒドロー18.6H−ジビロ
ロ−[1,2−b:1′,2′−dl [1,2,4]
−トリアゾリウム−1−イルまたは−2−イルまたは−
3−イル、■2,3,5,6,7.8−へキサヒドロ−
IH−ピロロ[1′,2′:3.4)イミダゾ[1,2
−al ピリジニウム−1−イル、または−2−イルま
たは−3−イル、 ■ 1,2,3,4,8.9−ヘキサヒドロ−7H−ピ
ロロ[1°、2°。
ロー[1,2−a: 1 ’ 、 2°−clイミダゾ
リウム−1−イルまたは−2−イルまたは−3−イル、 ■2,3,7.8−テトラヒドロー18.6H−ジビロ
ロ−[1,2−b:1′,2′−dl [1,2,4]
−トリアゾリウム−1−イルまたは−2−イルまたは−
3−イル、■2,3,5,6,7.8−へキサヒドロ−
IH−ピロロ[1′,2′:3.4)イミダゾ[1,2
−al ピリジニウム−1−イル、または−2−イルま
たは−3−イル、 ■ 1,2,3,4,8.9−ヘキサヒドロ−7H−ピ
ロロ[1°、2°。
3.41イミダゾ[1,2−al ピラジニウム−7−
イルまたは−8−イル、ならびにそれらの置換体特に2
−メチルおよび/または3−オキソ置換体、■2,3,
6.7−チトラヒドローIH,5H−ジビロロ−[1,
2−a:1′,2′−clイミダゾリウム−5−イルま
た2−6−イルまたは一7−イル、 ■2,3,7.8−テトラヒドローIH,6H−ジビロ
ロ[1,2−b:1’、2’−dl [1,2,4]−
トリアゾリウム−フィルまたは−8−イル、 ■1,2,3,4,7.8−へキサヒドロ−6H−ピロ
ロ[1′,2′:1.21イミダゾ[3,4−al ピ
ラジニウム−6−イルまたは一7−イルまたは−8−イ
ルならびにそれらの置換体特に2−メチルおよび/また
は3−オキソ置換体、 ■2,3.6,7,8.9−ヘキサヒドロ−IH−ピロ
ロ[1′,2′:1.2]イミダゾ[’3.4−a]
ピリジニウム−1−イルまたは−2−イルまたは−3−
イル等を例示することができる。
イルまたは−8−イル、ならびにそれらの置換体特に2
−メチルおよび/または3−オキソ置換体、■2,3,
6.7−チトラヒドローIH,5H−ジビロロ−[1,
2−a:1′,2′−clイミダゾリウム−5−イルま
た2−6−イルまたは一7−イル、 ■2,3,7.8−テトラヒドローIH,6H−ジビロ
ロ[1,2−b:1’、2’−dl [1,2,4]−
トリアゾリウム−フィルまたは−8−イル、 ■1,2,3,4,7.8−へキサヒドロ−6H−ピロ
ロ[1′,2′:1.21イミダゾ[3,4−al ピ
ラジニウム−6−イルまたは一7−イルまたは−8−イ
ルならびにそれらの置換体特に2−メチルおよび/また
は3−オキソ置換体、 ■2,3.6,7,8.9−ヘキサヒドロ−IH−ピロ
ロ[1′,2′:1.2]イミダゾ[’3.4−a]
ピリジニウム−1−イルまたは−2−イルまたは−3−
イル等を例示することができる。
なお、置換基R4がその中に不斉炭素原子を有する場合
、一般式Iで表わされる本発明の化合物には立体異性体
が存在することになる5例えば、不斉炭素原子が1個の
場合2種の立体異性体が生ずるので、便宜上以下の記載
においては一方を[異性体A]、他方を[異性体B]と
した。
、一般式Iで表わされる本発明の化合物には立体異性体
が存在することになる5例えば、不斉炭素原子が1個の
場合2種の立体異性体が生ずるので、便宜上以下の記載
においては一方を[異性体A]、他方を[異性体B]と
した。
なお、本発明の化合物およびその製造中間体のあるもの
は互変異性体の構造をとることも考えられる1本明細書
ではこれらを一種類の構造式で表すが、これは限定を意
味するものではない。
は互変異性体の構造をとることも考えられる1本明細書
ではこれらを一種類の構造式で表すが、これは限定を意
味するものではない。
本発明の化合物は、薬理学的に許容される塩として用い
てよいが、その例としては次のようなものがある。
てよいが、その例としては次のようなものがある。
すなわち、カルボン酸の無毒性塩、例えば、ナトリウム
、カリウム、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、
アンモニウム塩およびトリエチルアミン、プロ力イン、
ベンジルアミンとの塩ならびにペニシリン類、セファロ
スポリン類の塩形成に用いられる他のアミン類のような
無毒性のアミン類との塩を包含する。特に好適な塩とし
てはナトリウム塩、カリウム塩を挙げることができる。
、カリウム、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、
アンモニウム塩およびトリエチルアミン、プロ力イン、
ベンジルアミンとの塩ならびにペニシリン類、セファロ
スポリン類の塩形成に用いられる他のアミン類のような
無毒性のアミン類との塩を包含する。特に好適な塩とし
てはナトリウム塩、カリウム塩を挙げることができる。
本発明のカルバペネム誘導体には塩基性基が存在するの
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば、塩酸、臭
化水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン
酸、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等の
有機酸との塩類とすることもできる。特に好適な塩とし
ては、塩酸塩および硫酸塩を挙げることができる。また
、式1の化合物は種々の溶媒和物でもよく、例えば、水
和物として用いてもよい。
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば、塩酸、臭
化水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン
酸、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等の
有機酸との塩類とすることもできる。特に好適な塩とし
ては、塩酸塩および硫酸塩を挙げることができる。また
、式1の化合物は種々の溶媒和物でもよく、例えば、水
和物として用いてもよい。
本発明化合物は、大腸菌、プロテウス、クレブシェラ、
エンテロバクタ−、サルモネラ、セラチア、ストレプト
コッカス、スタフィロコッカス等を始め緑膳菌にも優れ
た抗菌力を示し、各種感染症、例えば、呼吸器感染症、
外傷・熱傷・手術側による二次感染症、化膿性疾患の治
療に有効である。
エンテロバクタ−、サルモネラ、セラチア、ストレプト
コッカス、スタフィロコッカス等を始め緑膳菌にも優れ
た抗菌力を示し、各種感染症、例えば、呼吸器感染症、
外傷・熱傷・手術側による二次感染症、化膿性疾患の治
療に有効である。
本発明の化合物は慣用される製剤用担体、安定化剤、溶
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の
経口投与あるいは静注剤、筋注剤、全開などの非経口投
与の如き種々の方法があるが、通常は静脈注射が適当で
ある。投与量は通常成人1日25011g〜3,000
+Hであり、これを数回に分割投与するが、年令、性別
、症状により適宜増減することができる。
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の
経口投与あるいは静注剤、筋注剤、全開などの非経口投
与の如き種々の方法があるが、通常は静脈注射が適当で
ある。投与量は通常成人1日25011g〜3,000
+Hであり、これを数回に分割投与するが、年令、性別
、症状により適宜増減することができる。
本発明の化合物は、下記の反応式で例示する方法によっ
て製造することができる。
て製造することができる。
■
■
も
第1工程:
公知の方法(特開昭58−26887) 8よびそれに
準する方法で合成できる化合物■(式中、R1およびR
1は前記と同じ、R2°は前記エステル残基を意味する
)を適当な溶媒中で酸化剤、例えば、過安7轡香酸、m
−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、二酸化セレ
ン、オゾンまたはメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適に
はm−クロロ過安息香酸、で酸化するとスルホキシド体
■が高収率で得られる。ここに得られるスルホキシド体
は立体異性体の混合物である。これは分離することなく
第2工程の反応に使用することができる。
準する方法で合成できる化合物■(式中、R1およびR
1は前記と同じ、R2°は前記エステル残基を意味する
)を適当な溶媒中で酸化剤、例えば、過安7轡香酸、m
−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、二酸化セレ
ン、オゾンまたはメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適に
はm−クロロ過安息香酸、で酸化するとスルホキシド体
■が高収率で得られる。ここに得られるスルホキシド体
は立体異性体の混合物である。これは分離することなく
第2工程の反応に使用することができる。
本反応には、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、酢酸、ピリジン、N、N−ジメチルホルム
アミド(以下、DMFと略記する)、アセトアミド、ジ
メチルスルホキシド(以下、DMSOと略記する)、水
およびリン酸緩衝液等の、反応原料、生成物に支障をき
たさない溶媒(混合溶媒も含む)が好適に用いられる。
素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類、酢酸、ピリジン、N、N−ジメチルホルム
アミド(以下、DMFと略記する)、アセトアミド、ジ
メチルスルホキシド(以下、DMSOと略記する)、水
およびリン酸緩衝液等の、反応原料、生成物に支障をき
たさない溶媒(混合溶媒も含む)が好適に用いられる。
反応温度は一50℃〜50℃、好適には−り0℃〜室温
、の緩和な温度条件が有利である0反応時間は5分乃至
4時間、通常は30分乃至1時間で十分である。
、の緩和な温度条件が有利である0反応時間は5分乃至
4時間、通常は30分乃至1時間で十分である。
第2工程:
本工程は、第1工程で得られたスルホキシド体■とチチ
オ−ル化合物またはその反応性誘導体■(式中、R4は
前記に同じ0Mはアルカリ金属を意味する。)との置換
反応である。
オ−ル化合物またはその反応性誘導体■(式中、R4は
前記に同じ0Mはアルカリ金属を意味する。)との置換
反応である。
本反応に用いる溶媒としては、メタノール、エタノール
等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、DMF、アセトアミドDMSO、テトラヒド
ロフラン(以下、THFと略記する)、アセトニトリル
、ヘキサメチルホスホトリアミド、水等の反応原料、生
成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)が好適
である。
等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、DMF、アセトアミドDMSO、テトラヒド
ロフラン(以下、THFと略記する)、アセトニトリル
、ヘキサメチルホスホトリアミド、水等の反応原料、生
成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)が好適
である。
反応温度は一50℃乃至室温、特に−30℃〜0℃が好
適である0反応時間は通常15分乃至2時間、特に30
分〜1時間が好適である。
適である0反応時間は通常15分乃至2時間、特に30
分〜1時間が好適である。
チチオ−ル化合物の反応性誘導体の例としては、Mがア
ルカリ金属であるチオレート化合物が挙げられる。
ルカリ金属であるチオレート化合物が挙げられる。
この置換反応において、チチオ−ル化合物は通常スルホ
キシド体■の1〜3当量、特に1〜2当量で使用するこ
とが好適である。
キシド体■の1〜3当量、特に1〜2当量で使用するこ
とが好適である。
一般式■のチチオ−ル体は塩基と共存させると反応性に
富み、良好に反応が進行するが、塩基なしでも勿論進行
する。使用可能な塩基としてはトリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン等のアルキルアミン類、1.8
−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(以
下、DBUと略記する)、N−メチルモルホリン等の脂
理状アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、カリウムt
−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の金属アル
コラード類、ナトリウムアミド、水酸化ナトリウム等が
挙げられ、ジイソプロピルエチルアミン、DBUが好適
に使用され、チチオ−ル化合物■と当量で使用するのが
好ましい、ただし、チチオ−ル化合物が酸付加塩である
場合は、付加されている酸を中和するに必要な量の塩基
をさらに加えることにより良好な結果を得ることができ
る。
富み、良好に反応が進行するが、塩基なしでも勿論進行
する。使用可能な塩基としてはトリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン等のアルキルアミン類、1.8
−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(以
下、DBUと略記する)、N−メチルモルホリン等の脂
理状アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、カリウムt
−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の金属アル
コラード類、ナトリウムアミド、水酸化ナトリウム等が
挙げられ、ジイソプロピルエチルアミン、DBUが好適
に使用され、チチオ−ル化合物■と当量で使用するのが
好ましい、ただし、チチオ−ル化合物が酸付加塩である
場合は、付加されている酸を中和するに必要な量の塩基
をさらに加えることにより良好な結果を得ることができ
る。
置換反応は次の反応式で例示する方法によって工
公知の方法(Heterocycles (1984)
21.29 D。
21.29 D。
H,5hih et al)およびそれに準する方法で
合成できる化合物V(式中、R1、R,J5よびR3は
前記に同じ)に、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類、アセトニトリル、DMF、ジメチルアセトアミ
ド、DMSOlTHF、ジクロルメタン、クロロホルム
等の反応原料、生成物に悪形響を及ぼさない溶媒中、ト
リエチルアミン、DBLI、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、キヌクリジン、3−キヌク
リジノール等の有機塩基類の存在下にジフェニルホスホ
リルクロリドを作用させることにより活性な中間体V+
に導くことができる。
合成できる化合物V(式中、R1、R,J5よびR3は
前記に同じ)に、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類、アセトニトリル、DMF、ジメチルアセトアミ
ド、DMSOlTHF、ジクロルメタン、クロロホルム
等の反応原料、生成物に悪形響を及ぼさない溶媒中、ト
リエチルアミン、DBLI、ジイソプロピルエチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、キヌクリジン、3−キヌク
リジノール等の有機塩基類の存在下にジフェニルホスホ
リルクロリドを作用させることにより活性な中間体V+
に導くことができる。
反応温度は一50℃乃至室温、特に−40℃〜0℃が好
適である1反応時間は15分から2時間、特に30分か
ら 2時間が好適である。
適である1反応時間は15分から2時間、特に30分か
ら 2時間が好適である。
中間体■は、前述したと同様にチチオ−ル化合物または
その反応性誘導体■と反応させて置換反応成績体を得る
ことができる。
その反応性誘導体■と反応させて置換反応成績体を得る
ことができる。
置換成績体は通常の後処理により単離することができ、
必要に応じてシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ
ィに付し、クロロホルム、酢酸エチル、ジクロルメタン
、メタノールあるいはこれらの混合溶媒を用いて精製す
ることができる。
必要に応じてシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ
ィに付し、クロロホルム、酢酸エチル、ジクロルメタン
、メタノールあるいはこれらの混合溶媒を用いて精製す
ることができる。
この置換反応成績体に保護基がある場合には、所望によ
り保護基を脱離させることができる。脱離法としては、
水素添加による還元的分解、化学的還元、酸、塩基また
は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げられる。
り保護基を脱離させることができる。脱離法としては、
水素添加による還元的分解、化学的還元、酸、塩基また
は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げられる。
一般式1において、置換基R2がエステル残基、例えば
、p−ニトロベンジル基、ベンジル基、ベンズヒドリル
基もしくは2−ナフチルメチル基である場合には、パラ
ジウム担持炭素、酸化白金、その他の公知の金属触媒を
用いて接触還元することにより脱保護し、一般式1でC
0OR,がカルボキシル基またはカルボキシレートアニ
オンであるカルバペネム誘導体とすることができる0反
応溶媒としてジオキサン、THF、水、緩衝液(混合溶
媒をも含む)を用い、好適には含水ジオキサン、リン酸
緩衝液とTHFとの混合溶媒等を用い、1乃至4気圧の
水素圧下にて、0℃乃至50℃、好適には10℃〜30
℃、で30分乃至16時間、通常はlO分〜1時間反応
させることによって、一般式1でCD0Rsがカルボキ
シル基またはカルボキシレートアニオンであるカルバペ
ネム誘導体を得ることができる。
、p−ニトロベンジル基、ベンジル基、ベンズヒドリル
基もしくは2−ナフチルメチル基である場合には、パラ
ジウム担持炭素、酸化白金、その他の公知の金属触媒を
用いて接触還元することにより脱保護し、一般式1でC
0OR,がカルボキシル基またはカルボキシレートアニ
オンであるカルバペネム誘導体とすることができる0反
応溶媒としてジオキサン、THF、水、緩衝液(混合溶
媒をも含む)を用い、好適には含水ジオキサン、リン酸
緩衝液とTHFとの混合溶媒等を用い、1乃至4気圧の
水素圧下にて、0℃乃至50℃、好適には10℃〜30
℃、で30分乃至16時間、通常はlO分〜1時間反応
させることによって、一般式1でCD0Rsがカルボキ
シル基またはカルボキシレートアニオンであるカルバペ
ネム誘導体を得ることができる。
また、一般式IのR8がp−ニトロベンジル基である場
合には、THF、ジオキサン等の水溶性有機溶媒中で、
塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させることによ
り、さらにR2がアリル基である場合にはTHF、メチ
レンクロリド等の非プロトン性溶媒中で、テトラキスト
リフェニルホスフィンパラジウム(OLトリフェニルホ
スフィンまたは2=エチルヘキサン酸と反応させること
により、ざらにR3が2,2.2−トリクロロエチル基
である場合には、亜鉛未還元により脱保護することによ
ってもそれぞれ一般式IのCOOR2がカルボキシル基
もしくはカルボキシレートアニオンである目的化合物を
得ることができる。
合には、THF、ジオキサン等の水溶性有機溶媒中で、
塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させることによ
り、さらにR2がアリル基である場合にはTHF、メチ
レンクロリド等の非プロトン性溶媒中で、テトラキスト
リフェニルホスフィンパラジウム(OLトリフェニルホ
スフィンまたは2=エチルヘキサン酸と反応させること
により、ざらにR3が2,2.2−トリクロロエチル基
である場合には、亜鉛未還元により脱保護することによ
ってもそれぞれ一般式IのCOOR2がカルボキシル基
もしくはカルボキシレートアニオンである目的化合物を
得ることができる。
上述の置換成績体はその物性によっては単離精製しにく
いものがあり、一般式1のC0OR*がカルボキシル基
もしくはカルボキシレートアニオンである化合物の製造
を目的とする場合には、中間の置換成績体を単離するこ
となく、同一反応容器中で、もしくは簡単な通常の後処
理を施した後、保護基を脱離させることにより良好な結
果が得られる場合がある。これは、特に大量の目的物を
製造する際には、繁雑な作業もなく、収率、品質の点で
も優れた筒便な方法である。
いものがあり、一般式1のC0OR*がカルボキシル基
もしくはカルボキシレートアニオンである化合物の製造
を目的とする場合には、中間の置換成績体を単離するこ
となく、同一反応容器中で、もしくは簡単な通常の後処
理を施した後、保護基を脱離させることにより良好な結
果が得られる場合がある。これは、特に大量の目的物を
製造する際には、繁雑な作業もなく、収率、品質の点で
も優れた筒便な方法である。
一般式1の目的化合物は通常の単離手段、すなわち、抽
出後濃縮し、さらに必要により再結晶、再沈殿、クロマ
トグラフィ等によって精製することができる。また、一
般式Iの化合物は結晶化することによって高純度のもの
が得られ、この目的のために塩とすることにより好まし
い結果が得られることがある。その際、塩としては必ず
しも無毒性酸付加塩である必要はなく、毒性のある塩と
して結晶化し、精製の後酸を除去するか、もしくは薬理
上許容される塩に変換して目的化合物を純度良く得るこ
とができる。
出後濃縮し、さらに必要により再結晶、再沈殿、クロマ
トグラフィ等によって精製することができる。また、一
般式Iの化合物は結晶化することによって高純度のもの
が得られ、この目的のために塩とすることにより好まし
い結果が得られることがある。その際、塩としては必ず
しも無毒性酸付加塩である必要はなく、毒性のある塩と
して結晶化し、精製の後酸を除去するか、もしくは薬理
上許容される塩に変換して目的化合物を純度良く得るこ
とができる。
体内で代謝されるエステル類を製造するには、ペニシリ
ン類やセファロスポリン類における方法に準じて、一般
式1における置換基R1としてあらかじめ入れておくか
、またはカルボキシル基あるいはカルボキシレートアニ
オンの化合物をエステル化すれば良い。
ン類やセファロスポリン類における方法に準じて、一般
式1における置換基R1としてあらかじめ入れておくか
、またはカルボキシル基あるいはカルボキシレートアニ
オンの化合物をエステル化すれば良い。
次に、実施例および参考例により本発明化合物の製造方
法をより具体的に説明する。
法をより具体的に説明する。
一般式■のチチオ−ル化合物は特開昭62−14961
13号公報に開示された方法および以下に例示する方?
去で得ることができる。
13号公報に開示された方法および以下に例示する方?
去で得ることができる。
参考例1
ゾール
6.7−シヒドロー7−(p−メトキシベンジル)チオ
−5H−ピロロ[1,2−clイミダゾール2.6gと
37%ホルムアルデヒドの混合物を封管中、外a12
0℃で15時間加熱した1反応液をクロロホルムで抽出
し、水洗したのち、硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
して 2.04gの標記化合物を得た。
−5H−ピロロ[1,2−clイミダゾール2.6gと
37%ホルムアルデヒドの混合物を封管中、外a12
0℃で15時間加熱した1反応液をクロロホルムで抽出
し、水洗したのち、硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
して 2.04gの標記化合物を得た。
NMR(CDC1slδ:
2.28−2.64(IH,ml、 2.72−3.1
N1)1.sl、 3.72(2H,sl。
N1)1.sl、 3.72(2H,sl。
3.80(38,sl、 3.90−4.28(3H
)l、 4.66(2H,sl。
)l、 4.66(2H,sl。
5.5+1 (1H,bs> 、 6.76 (1)1
. s) 、 6.IS7 (2)1.d) 、 7.
25 (2L d)26.7−シヒドロー3−ホルミル
−7−−メトキシベロ、7−シヒドロー3−ヒドロキシ
メチル−7−(p−メトキシベンジル)チオ−5H−ピ
ロロ[1,2−cl イミダゾール6、OgJよび二酸
化マンガン18gのジオキサン懸濁液を外温110℃で
170分間反応させた。生じた固体を濾去したのち、濾
液を濃縮乾固した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィに付し4.81gの標記化合物を得た。
. s) 、 6.IS7 (2)1.d) 、 7.
25 (2L d)26.7−シヒドロー3−ホルミル
−7−−メトキシベロ、7−シヒドロー3−ヒドロキシ
メチル−7−(p−メトキシベンジル)チオ−5H−ピ
ロロ[1,2−cl イミダゾール6、OgJよび二酸
化マンガン18gのジオキサン懸濁液を外温110℃で
170分間反応させた。生じた固体を濾去したのち、濾
液を濃縮乾固した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィに付し4.81gの標記化合物を得た。
NMR((:D(:1m)δ:
2.40−3.24(2H,ml、 3.82(2H,
s)、 3.90(3H,s)。
s)、 3.90(3H,s)。
4.08−4.24f3H,+sl、 6.84[IH
,s)、 7.01(2H,dl。
,s)、 7.01(2H,dl。
7.29(2H,d)、 9.72(1B、5160%
水素化ナトリウム 63311gのベンゼン懸濁液にジ
エチルホスホノ酢酸メチルエステル3.256 mlを
30℃以内に温度を保ちながら滴下した。 50分後6
.7−シヒドロー3−ホルミル−7−(p−メトキシベ
ンジル)チオ−5H−ピロロ[1,2−clイミダゾー
ル3.93gのベンゼン懸濁液を30’C以内で滴下し
た。 130分後、5%炭酸ナトリウム水溶液、酢酸
エチルエステルで分液し、有機層を水洗したのち、硫酸
ナトリウムで乾燥、溶媒を留去、標記化合物を得た。
水素化ナトリウム 63311gのベンゼン懸濁液にジ
エチルホスホノ酢酸メチルエステル3.256 mlを
30℃以内に温度を保ちながら滴下した。 50分後6
.7−シヒドロー3−ホルミル−7−(p−メトキシベ
ンジル)チオ−5H−ピロロ[1,2−clイミダゾー
ル3.93gのベンゼン懸濁液を30’C以内で滴下し
た。 130分後、5%炭酸ナトリウム水溶液、酢酸
エチルエステルで分液し、有機層を水洗したのち、硫酸
ナトリウムで乾燥、溶媒を留去、標記化合物を得た。
NMR((:DCl、lδ:
2.30−3.20f2H,ml、 3.74(2)1
.s)、 3.82(6B、sl。
.s)、 3.82(6B、sl。
3.88−4.28f3H,w)、 6.50(18,
di、 6.87f2H,dl。
di、 6.87f2H,dl。
6.96(IH,sl、 7.27(2H,d)、 7
.46(IH,dlメチル 6.7−シヒドロー7−
(p−メトキシベンジル)チオ−5トビロロ[1,2−
c]イミダゾール−3−プロペノエイト 710Hのメ
タノール溶液にマグネシウム240mgを80分を要し
て加えた。 3時間後反応液を留去し、残渣に水、クロ
ロボルムおよび2N塩酸を加えて水冷下撹拌した。濃ア
ンモニア水で反応液をアルカリ性とし、クロロボルムで
抽出し、有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマト
グラフィに付しオイル状の標題化合物を567mgを得
た。
.46(IH,dlメチル 6.7−シヒドロー7−
(p−メトキシベンジル)チオ−5トビロロ[1,2−
c]イミダゾール−3−プロペノエイト 710Hのメ
タノール溶液にマグネシウム240mgを80分を要し
て加えた。 3時間後反応液を留去し、残渣に水、クロ
ロボルムおよび2N塩酸を加えて水冷下撹拌した。濃ア
ンモニア水で反応液をアルカリ性とし、クロロボルムで
抽出し、有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマト
グラフィに付しオイル状の標題化合物を567mgを得
た。
NMR((:D(:1sJδ:
2.28−3.08f2H,a+l、 2.88[4
H,tl、 3.72f3H,s)。
H,tl、 3.72f3H,s)。
3.76(38,s)、 3.80(3H,sJ、
3.82−4.06(2B、ml。
3.82−4.06(2B、ml。
4.14flH,ddl、 6.77(IH,s)、
6.91(1B、dl。
6.91(1B、dl。
7.31(2H,dl
チオ−5H−ピロロ[1,2−clイミダゾール−3−
プロパノエイト 1.34gのTHF溶液にリチウムア
ルミニウムハイドライド 190mgを加え、室温で
110分反応させた6反応液に水、 15%水酸化ナト
リウム水溶液を順次加え、生じた沈殿物を濾去した。濾
液を減圧濃縮し残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマ
トグラフィに付しオイル状の標記化合物を416+og
得た。
プロパノエイト 1.34gのTHF溶液にリチウムア
ルミニウムハイドライド 190mgを加え、室温で
110分反応させた6反応液に水、 15%水酸化ナト
リウム水溶液を順次加え、生じた沈殿物を濾去した。濾
液を減圧濃縮し残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマ
トグラフィに付しオイル状の標記化合物を416+og
得た。
NMR(CDC1i)δ:
1.96(2H,ql、 2.24−2.60flH,
ml、 2.60−3.08flH,al。
ml、 2.60−3.08flH,al。
2.76f2H,tl、 3.72f2H,s)、 3
.80f3H,sl、 3.60−4.20(5H,m
l、 6.72flH,sl、 6.89(2H,d)
、 ?、29f2H,dl6.7−シヒドロー3−(3
−ヒドロキシプロピル)−7−(p−メトキシベンジル
)チオ−5H−ピロロ[1,2−clメチル 6.7−
シヒドロー7−(p−メトキシベンジル)イミダゾール
893■gのジクロルメタン溶液にメチルトリフエノキ
シホスホニウム・アイオダイド1.7gを加え一5℃で
75分間、 0℃でさらに 140分間反応させた。同
温度でメチルトリフエノキシホスホニウム・アイオダイ
ドを0.3gを追加し16時間撹拌反応した0反応液に
アセトンを加え、 5日間還流した1反応液を濃縮乾固
し、残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
で精製し標記の化合物416Bを得た。
.80f3H,sl、 3.60−4.20(5H,m
l、 6.72flH,sl、 6.89(2H,d)
、 ?、29f2H,dl6.7−シヒドロー3−(3
−ヒドロキシプロピル)−7−(p−メトキシベンジル
)チオ−5H−ピロロ[1,2−clメチル 6.7−
シヒドロー7−(p−メトキシベンジル)イミダゾール
893■gのジクロルメタン溶液にメチルトリフエノキ
シホスホニウム・アイオダイド1.7gを加え一5℃で
75分間、 0℃でさらに 140分間反応させた。同
温度でメチルトリフエノキシホスホニウム・アイオダイ
ドを0.3gを追加し16時間撹拌反応した0反応液に
アセトンを加え、 5日間還流した1反応液を濃縮乾固
し、残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
で精製し標記の化合物416Bを得た。
NMR(CDC1slδ:
2.00−3.48(6H,ql、 3.76(5H
,s)、 4.00−4.72(6H,sl。
,s)、 4.00−4.72(6H,sl。
6.86(2H,d)、 6.96(IH,!l)、
7.29(2H,d)ルオロメタンスルホンill O
,189m1を水冷下加えて、室温で140分間反応さ
せた0反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、茶色オイルを得た。
7.29(2H,d)ルオロメタンスルホンill O
,189m1を水冷下加えて、室温で140分間反応さ
せた0反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、茶色オイルを得た。
NMR(D*O1δ:
2.00−3.28(6H,a+)、 4.08−4.
80(5H,ml、 7.28(IH,sl参考例2 t−p−メトキシベンジルチオ−2,3,7,8−テト
ラヒドロ−18,6H−ジビロロ[1,2−a:1′,
2′−c]イミダゾリウム・アイオダイド 416+a
gを6mlのトリフルオロ酢酸に溶解し、アニソール0
.527−1およびトリフ6.7−シヒドロー3−ヒド
ロキシメチル−7−(p−メトキシベンジル)チオ−5
H−ピロロ[1,2−clイミダゾール3.17gのベ
ンゼン懸濁液に室温下、塩化チオニル3.5mlを滴下
し 3時間撹拌した0反応液を減圧濃縮し、残渣にさら
にベンゼンを加えて減圧濃縮する操作を5度繰り返し、
茶色固体を得た。
80(5H,ml、 7.28(IH,sl参考例2 t−p−メトキシベンジルチオ−2,3,7,8−テト
ラヒドロ−18,6H−ジビロロ[1,2−a:1′,
2′−c]イミダゾリウム・アイオダイド 416+a
gを6mlのトリフルオロ酢酸に溶解し、アニソール0
.527−1およびトリフ6.7−シヒドロー3−ヒド
ロキシメチル−7−(p−メトキシベンジル)チオ−5
H−ピロロ[1,2−clイミダゾール3.17gのベ
ンゼン懸濁液に室温下、塩化チオニル3.5mlを滴下
し 3時間撹拌した0反応液を減圧濃縮し、残渣にさら
にベンゼンを加えて減圧濃縮する操作を5度繰り返し、
茶色固体を得た。
NMR(0,01δ :
2.50−3.32+2H)l、 3.89(31(、
sl、 3.95(2H,s)。
sl、 3.95(2H,s)。
4.24−4.67f3H,m)、 4.9512H
,sl、 ?、02(28,d)。
,sl、 ?、02(28,d)。
7.03(lH,sl、7.39(2B、di、?、5
0(11(、s)ルアミノ メチル−7−−メトキシベ
ンジル チオイミダゾール 6.7−シヒドロー3−クロロメチル−7−(p−メト
キシベンジル)チオ−5H−ピロロ[1,2−clイミ
ダゾール塩酸塩3.0gをTHFに溶解し、40%メチ
ルアミン水溶液5hlを加えて、室温下17.5時間反
応した。
0(11(、s)ルアミノ メチル−7−−メトキシベ
ンジル チオイミダゾール 6.7−シヒドロー3−クロロメチル−7−(p−メト
キシベンジル)チオ−5H−ピロロ[1,2−clイミ
ダゾール塩酸塩3.0gをTHFに溶解し、40%メチ
ルアミン水溶液5hlを加えて、室温下17.5時間反
応した。
反応液を濃縮乾固し、残渣にクロロホルムおよび炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え分配し、有機層を水洗したの
ち、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して黄色油状
物3.117gを得た。
素ナトリウム水溶液を加え分配し、有機層を水洗したの
ち、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去して黄色油状
物3.117gを得た。
NMR(CDCIs)δ:
2.20−2.66(lH,a)、 2.40(3H
,w+)、 2.68−3.16(31,m13.7
2(2H,s)、 3.76(SH,sl、 3.21
4−4.24(HI3)。
,w+)、 2.68−3.16(31,m13.7
2(2H,s)、 3.76(SH,sl、 3.21
4−4.24(HI3)。
6.76(1)1.sl、 6.89(2H,di、
7.29(2H,d)36フージヒ ロー3− N−チ
ル−N−クロロアセチ6.7−シヒドロー3−(メチル
アミノ)メチル)−7−(p−メトキシベンジル)チオ
−5)1−ピロロ[1,2−clイミダゾールのアセト
ニトリル溶液に、クロロアセチルクロライド1.59a
+1.ジイソプロピルエチルアミン4.35+alを加
え、水冷下90分間反応させた。
7.29(2H,d)36フージヒ ロー3− N−チ
ル−N−クロロアセチ6.7−シヒドロー3−(メチル
アミノ)メチル)−7−(p−メトキシベンジル)チオ
−5)1−ピロロ[1,2−clイミダゾールのアセト
ニトリル溶液に、クロロアセチルクロライド1.59a
+1.ジイソプロピルエチルアミン4.35+alを加
え、水冷下90分間反応させた。
さらにクロロアセチルクロライドD、40m1.ジイソ
プロピルエチルアミン1.09a+1を追加して水冷下
で70分間反応した0反応液を濃縮乾燥し、残渣にクロ
ロホルム、水を加えて分配し、有機層をとり濃縮乾固し
た。残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
に付し黄色オイル2.32gを得た。
プロピルエチルアミン1.09a+1を追加して水冷下
で70分間反応した0反応液を濃縮乾燥し、残渣にクロ
ロホルム、水を加えて分配し、有機層をとり濃縮乾固し
た。残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ
に付し黄色オイル2.32gを得た。
NMR(CD(:lslδ:
2.20−3.36(2H,m)、 2.13(3H,
■)、 3.72(2B、ml、3.80(3H,sl
、 4.10(2H,s3.3.92−4.36t3
H,a)、 4.60(2H1s)、 6.7611
H,sl、 6.J19(2H,d)、 7.27(2
H,d)42−メチル−3−オキソ−7−−メトキシベ
ンジル チチオ−123489−へキサヒトローアH−ピロロ3
.4.8.9−へキサヒドロピロロ11°2°:34
イミダルホネート 6.7−シヒドロー3−((N−メチル−N−クロロア
セチル)アミノメチル) −7−(p−メトキシベンジ
ル)チオ−5H−ピロロ[1,2−c] イミダゾール
2.32gのメチルエチルケトン溶液にヨウ化ナトリウ
ム4.5gを加え5日間還流反応させた0反応液を濃縮
乾固し、残渣にクロロホルムを加え、生じた不溶物を濾
去した。濾液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲルを用いた
カラムクロマトグラフィで精製し、黄色泡状化合物1.
32gを得た。
■)、 3.72(2B、ml、3.80(3H,sl
、 4.10(2H,s3.3.92−4.36t3
H,a)、 4.60(2H1s)、 6.7611
H,sl、 6.J19(2H,d)、 7.27(2
H,d)42−メチル−3−オキソ−7−−メトキシベ
ンジル チチオ−123489−へキサヒトローアH−ピロロ3
.4.8.9−へキサヒドロピロロ11°2°:34
イミダルホネート 6.7−シヒドロー3−((N−メチル−N−クロロア
セチル)アミノメチル) −7−(p−メトキシベンジ
ル)チオ−5H−ピロロ[1,2−c] イミダゾール
2.32gのメチルエチルケトン溶液にヨウ化ナトリウ
ム4.5gを加え5日間還流反応させた0反応液を濃縮
乾固し、残渣にクロロホルムを加え、生じた不溶物を濾
去した。濾液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲルを用いた
カラムクロマトグラフィで精製し、黄色泡状化合物1.
32gを得た。
Ni1R(CDCIs)δ:
2.28−2.68(1B、ml、 2.80−3.3
2(IH,m)、 3.15(3H,s)。
2(IH,m)、 3.15(3H,s)。
3.77(58,sl、 4.12−4.64(3H,
a)、 5.00−5.48(4H,ml。
a)、 5.00−5.48(4H,ml。
6.85(2H,dl、 ?、31(28,d)、 7
.53(lH,5)(5)2−メチル−3−オキソ−7
−メルカプ −7H−122−メチル−3−オキソ−7
−(p−メトキシベンジル)チオ−1,2,3,4,8
,9−ヘキサヒドロ−7H−ピロロ−[1′,2′:
3.4]イミダゾ[1,2−al ピラジニウム・アイ
オダイド1.378gをトリフルオロ酢酸8園lに溶解
し、アニソール1.581m1を加え室温下75分間反
応した。さらに反応液にトリフルオロメタンスルホン酸
0.288■lを加え、室温下700分間反応た0反応
液を減圧下濃縮し、残渣にイソプロピルエーテルを加え
て洗浄し、上清液を除去、乾燥して標題化合物を茶色油
状物として得た。精製することなく次の反応に用いた。
.53(lH,5)(5)2−メチル−3−オキソ−7
−メルカプ −7H−122−メチル−3−オキソ−7
−(p−メトキシベンジル)チオ−1,2,3,4,8
,9−ヘキサヒドロ−7H−ピロロ−[1′,2′:
3.4]イミダゾ[1,2−al ピラジニウム・アイ
オダイド1.378gをトリフルオロ酢酸8園lに溶解
し、アニソール1.581m1を加え室温下75分間反
応した。さらに反応液にトリフルオロメタンスルホン酸
0.288■lを加え、室温下700分間反応た0反応
液を減圧下濃縮し、残渣にイソプロピルエーテルを加え
て洗浄し、上清液を除去、乾燥して標題化合物を茶色油
状物として得た。精製することなく次の反応に用いた。
NMR(DIOIδ :
2.36−2.80(18,ml、 2.88−3.
40(IH,m)、 3.12[3H,sl4.16
−4.76(38,ml、 4.88(4H,sl、
7.34(LH,sl実施例1 ルカルバベネムー3−カルボキシレートl−メルカプト
−2,3,6,7−チトラヒドローIH,5H−ジビロ
ロ[1,2−a:1’、2’−clイミダゾリウム・ト
リフルオロメタンスルホネート 308■gをTHF、
アセトニトリルおよびDMSOの混合溶媒に溶解して一
30℃に冷却した。これに、3−キヌクリジノール15
05gおよびp−ニトロベンジル (1R,5S、6S
、IIRI−2−フェニルスルフィニル−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボキシレート2001mgを加え、同温度で 120分
間撹拌した0反応液にヘキサンを加えて洗浄し上清を除
いた。更にエーテルを加えて洗浄し上清を除いて、油状
残渣として目的の置換生成体を得た。
40(IH,m)、 3.12[3H,sl4.16
−4.76(38,ml、 4.88(4H,sl、
7.34(LH,sl実施例1 ルカルバベネムー3−カルボキシレートl−メルカプト
−2,3,6,7−チトラヒドローIH,5H−ジビロ
ロ[1,2−a:1’、2’−clイミダゾリウム・ト
リフルオロメタンスルホネート 308■gをTHF、
アセトニトリルおよびDMSOの混合溶媒に溶解して一
30℃に冷却した。これに、3−キヌクリジノール15
05gおよびp−ニトロベンジル (1R,5S、6S
、IIRI−2−フェニルスルフィニル−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボキシレート2001mgを加え、同温度で 120分
間撹拌した0反応液にヘキサンを加えて洗浄し上清を除
いた。更にエーテルを加えて洗浄し上清を除いて、油状
残渣として目的の置換生成体を得た。
これにテトラヒドロフラン15m1. リン酸緩衝液1
5m1および10%Pd−Cを加えて4気圧の水素雰囲
気下で接触還元を行った。触媒を濾去し、濾液を濃縮後
ダイアイオンHP−20を用いたカラムクロマトグラフ
ィに付し、目的物の画分をさらにHPLCで精製し、標
記化合物の異性体Aおよび異性体Bを各々12mg得た
。
5m1および10%Pd−Cを加えて4気圧の水素雰囲
気下で接触還元を行った。触媒を濾去し、濾液を濃縮後
ダイアイオンHP−20を用いたカラムクロマトグラフ
ィに付し、目的物の画分をさらにHPLCで精製し、標
記化合物の異性体Aおよび異性体Bを各々12mg得た
。
NMRfD、o)δ:
異性体A
1.31(3H,d)、 1.34f3H,dl、 2
.66−2.71flH,ml。
.66−2.71flH,ml。
2.76−2.82(2B、ml、 3.12−3.1
9(3H,a)、 3.45−3.48(IH,al、
3.52−3.54(IH,ml、 4.24−4.
39(6H,ml。
9(3H,a)、 3.45−3.48(IH,al、
3.52−3.54(IH,ml、 4.24−4.
39(6H,ml。
4.96(1B、dl、 7.31flH,sl異性
体B 1.26f3H,dl、 1.31(3H,dl、 2
.60−2.66(IH,ml。
体B 1.26f3H,dl、 1.31(3H,dl、 2
.60−2.66(IH,ml。
2.75−2.81f2H,al、 3.13−3.2
2f3H,m)、 3.45−3.51flu、ml、
3.54−3.55(IH,+m)、 4.22−4
.37f6H,m)。
2f3H,m)、 3.45−3.51flu、ml、
3.54−3.55(IH,+m)、 4.22−4
.37f6H,m)。
4.87−4.89(IH,sl、 ?、21(IH
,sl異性体Aの各種苗に対する最小発育阻止濃度CM
IC)の一部を示せば、E、コリ、NIHJ <0.1
、Pr、ブルガリス、 086020.1. K、ニュ
ーモニエ。
,sl異性体Aの各種苗に対する最小発育阻止濃度CM
IC)の一部を示せば、E、コリ、NIHJ <0.1
、Pr、ブルガリス、 086020.1. K、ニュ
ーモニエ。
TYPE l<0.1. Ps、エルギノーザ、32
1220.78゜S、アウレウス、 209P <0
.1であった。
1220.78゜S、アウレウス、 209P <0
.1であった。
実施例2
7−メルカブトー2−メチル−3−オキソ −!、2,
3,4゜8.9−ヘキサヒドロ−7H−ピロロ[1′,
2′:3,4] イミダゾ[1,2−al ピラジニウ
ム・トリフルオロメタンスルホネート 692+gをT
HFlml、アセトニトリル1ml、 D M S O
0,5m1(7)混合溶液に溶解し一30’Cに冷却し
て3−キヌクリジノール200B、 p−ニトロベンジ
ル(1R,5S、6S、8R12−フェニルスルフィニ
ル−6−(l−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバ
ペネム−3−カルボキシレート200+ogを加えて、
同温度で 120分間撹拌した。さらに7−メルカブト
ー2−メチル−3−オキソ −1,2,3,4,8,9
−ヘキサヒドロ−7Hピロロ[1’、2’:3,4]イ
ミダゾ[1,2−al ピラジニウム・トリフルオロメ
タンスルホネート93mg、3−キヌクリジノール70
mgを追加し、同温度で250分間反応させた0反応液
を実施例1と同様に処理して油状の置換生成体を得た。
3,4゜8.9−ヘキサヒドロ−7H−ピロロ[1′,
2′:3,4] イミダゾ[1,2−al ピラジニウ
ム・トリフルオロメタンスルホネート 692+gをT
HFlml、アセトニトリル1ml、 D M S O
0,5m1(7)混合溶液に溶解し一30’Cに冷却し
て3−キヌクリジノール200B、 p−ニトロベンジ
ル(1R,5S、6S、8R12−フェニルスルフィニ
ル−6−(l−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバ
ペネム−3−カルボキシレート200+ogを加えて、
同温度で 120分間撹拌した。さらに7−メルカブト
ー2−メチル−3−オキソ −1,2,3,4,8,9
−ヘキサヒドロ−7Hピロロ[1’、2’:3,4]イ
ミダゾ[1,2−al ピラジニウム・トリフルオロメ
タンスルホネート93mg、3−キヌクリジノール70
mgを追加し、同温度で250分間反応させた0反応液
を実施例1と同様に処理して油状の置換生成体を得た。
接触還元および後処理して標記化合物の異性体A 12
mg、異性体B 12mgを無色固体として得た。
mg、異性体B 12mgを無色固体として得た。
NMR(DtO1δ:
異性体A
1.30f3H,d)、 1.32(3H,d)、 2
.72−2.76(IH,m)。
.72−2.76(IH,m)。
3.16f3H,s)、 3.18−3.22(IH,
ff11、3.46flH,dd13.52−3.54
(IH,m)、 4.28−4.3H2Lml、
4.35−4.44f2H,ml、 4.96f4H,
sl、 4.99−5.00(IH,ml。
ff11、3.46flH,dd13.52−3.54
(IH,m)、 4.28−4.3H2Lml、
4.35−4.44f2H,ml、 4.96f4H,
sl、 4.99−5.00(IH,ml。
7.44(IH,s)
異性体B
1.27(3H,di、 1.33f3f(、dl、
2.66−2.70(IH,m13.16(3H,
sl、 3.21−3.25(IH,m)、 3.
49flH,dd13、.55−3.57flH,m)
、 4.29−4.41f4H,m)、 4.52
−4.55(IH,ml、 4.94(4H,sl、
7.33[IH,s)魚li肱1 本発明の新規なカルバペネム誘導体は、四級化された二
環性複素環およびl−メチルカルバペネム骨格の組合せ
を特徴とし、ダラム陽性菌、ダラム陰性菌1、さらには
偏性嫌気性菌に対して強力な抗菌活性を示し、ペニシリ
ンおよびセファロスポリン耐性菌にも高い感受性を示す
など、極めて広い抗菌スペクトルを有する。さらに本発
明の化合物は物理化学的性質にも優れ、腎臓のデヒドロ
ペブチターゼ、β−ラクタマーゼなどによる酵素分解も
受けにくいなど、抗菌剤として極めて優れたものである
。また、本発明の化合物は中枢毒性や腎毒性が見られず
極めて安全性が高く、優れた体内動態、すなわち各臓器
で高い組織内濃度が認められるのみならず長い血中半減
期を示す等優れた性質を有し、医薬として期待される。
2.66−2.70(IH,m13.16(3H,
sl、 3.21−3.25(IH,m)、 3.
49flH,dd13、.55−3.57flH,m)
、 4.29−4.41f4H,m)、 4.52
−4.55(IH,ml、 4.94(4H,sl、
7.33[IH,s)魚li肱1 本発明の新規なカルバペネム誘導体は、四級化された二
環性複素環およびl−メチルカルバペネム骨格の組合せ
を特徴とし、ダラム陽性菌、ダラム陰性菌1、さらには
偏性嫌気性菌に対して強力な抗菌活性を示し、ペニシリ
ンおよびセファロスポリン耐性菌にも高い感受性を示す
など、極めて広い抗菌スペクトルを有する。さらに本発
明の化合物は物理化学的性質にも優れ、腎臓のデヒドロ
ペブチターゼ、β−ラクタマーゼなどによる酵素分解も
受けにくいなど、抗菌剤として極めて優れたものである
。また、本発明の化合物は中枢毒性や腎毒性が見られず
極めて安全性が高く、優れた体内動態、すなわち各臓器
で高い組織内濃度が認められるのみならず長い血中半減
期を示す等優れた性質を有し、医薬として期待される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物およびその塩。式中、R_1は低級
アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基または保護され
たヒドロキシ低級アルキル基を意味し、COOR_2は
カルボキシル基、カルボキシレートアニオンまたは保護
されたカルボキシル基を意味し、R_3は水素原子また
は低級アルキル基を意味し、R_4は次の式で表わされ
る置換または無置換の複素環基を意味する。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Q_1、Q_2、Q_3、Q_4およびQ_5
はそれぞれ炭素原子または窒素原子を意味し、少なくと
もQ_1またはQ_2およびQ_3またはQ_4の二個
は窒素原子である、▲数式、化学式、表等があります▼
で表される環は5員環または6員環の複素環を意味する
。 (2)R_1が1−ヒドロキシエチル基である請求項1
記載の化合物。 (3)(6S,8R)−6−(1−ヒドロキシエチル)
−カルバペネム誘導体である請求項1または2の化合物
(4)(1R,5S,6S,8R)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチルカルバペネム誘導体である請
求項1、2または3の化合物 (5)(1R,5S,6S,8R)−2−(2,3,6
,7−テトラヒドロ−1H,5H−ジビロロ[1,2−
a:1′,2′−c]イミダゾリウム−1−イル)チオ
−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペ
ネム−3−カルボキシレートである請求項1の化合物 (6)(1R,5S,6S,8R)−2−(2−メチル
−3−オキソ−1,2,3,4,8,9−ヘキサヒドロ
−7H−ピロロ[1′,2′:3,4]イミダゾ[1,
2−a]ピラジニウム−7−イル)チオ−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボキシレートである請求項1の化合物 (7)請求項1、2、3、4、5または6の化合物を有
効成分とするグラム陽性菌、グラム陰性菌または偏性嫌
気性菌感染症治療剤
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2075848A JP2999216B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | カルバペネム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2075848A JP2999216B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | カルバペネム誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03275686A true JPH03275686A (ja) | 1991-12-06 |
JP2999216B2 JP2999216B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=13588046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2075848A Expired - Fee Related JP2999216B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | カルバペネム誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2999216B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP2075848A patent/JP2999216B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |