JPH03272817A - 回転円筒型処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は回転円筒型処理装置乙コ関ｊＪ、更に詳細には
、合成樹脂、魚や肉の粉砕品など冷却や加熱処理を行な
いたい物品を〉・−ト状等のａ官の形態で供給し、冷却
又は加熱さ刺でいる回転円筒体の表面ζ、こ押圧し７て
処理づ゛る装置に関する。

（従来の技術） 従来１．“の種の装置は、例え（よ熱可葉性、熱硬化性
合成樹脂等１７′）製造ブ［Ｊ七スζこおけるむ）枠装
置の一部で“ある冷却装置どし、て用いられており、そ
の−例が時開０Ａ６２２２５８８２号公報【、−開示さ
れている。当該公報に記載され乙いる従来の回転円筒型
処理装置は、第４図に、Ｉ＜されるように回転可能ζこ
支持された円筒体ｊと、ごの円筒体１を冷却又は加熱す
るための冷却又は加熱機構２と、円筒体１の表面に被処
理物を供給ｊる供給部３と、該供給部３に隣接して配置
され前記供給部から出た被処理物４を円筒体ｌの表面に
押付け−ｅ圧延するプレッシャーローフ１／　５と、円
筒体１の外周り、′：′、　ｔ９って張架され、円筒体
）の表面に供給された被処理物４を該円筒体１に密着さ
せたまま移送さ廿るコ、゛／ドレスベルト６とから土ｃ
：：、、　１１１Ｆｔｃｆｉれ７いた。

このような従来の回転円筒型処理装置においζ、供給部
３は第５図に示されるよ・）に被処理供給源（図示→ｔ
ず）から伸長する供給管３ａの先端に取イ４けられたノ
ズル部３ｂを備え゛己構成され、円筒体１の輻方向中央
部（、、二位置決めされている。このノズル部３ｂは円
形の１つの開「］を備え、この間ｒ］から被処理物４が
円筒体１のｌＰｌ！力向中央部りに流出され、謹被処理
物４はイの流動性？Ｊ□よっＣＰＩ筒体１の絢端側１１
、二広がりながらプレッシャー１トル５によって所定の
ＩＴＪ、、さ龜こ圧延される。、二の圧延により被処理
物４は側ノ５−”・も押し広げｉ；　ｆｌてほぼ円筒体
１の幅寸法に対応し、た帯状と３″！、れ、その後エン
ドしス・・、ルト６心１゛、よっ′２円筒体１に密着さ
れて移送され、その間に冷却若しくは加熱される。

（発明が解決しようとする課題） 前述し５た従来の回転円筒課処理装Ｗごは、円筒体１の
輻−・１υ、が最大約１．Ｆ５＋ｎ程度であ０．、た。

（２かし、最近ごは処理能方向りのため幅寸法が１．５
ｍ以上ど比較的に人形の円筒体１を用いるようになって
きている。

ところが、このような人形の円筒体を用いた回転円筒型
処理装置での大きな問題シュ。被処理１！Ｉ４を供給す
る供給部３である。勿論、円筒体を大形（５こしに場合
には供給部３のノズル部３ｔにおける開〔」を被処理物
４の供給部に見合）ように大きくされる。ｊ、２かし、
円筒体が人形になると、供給部３からその輻方向中央部
＋、、：；入量の被処理物４を供給（ｆＳとＬ、°ても
、円筒体の両端・＼向っ゛で被処理物が広が１．ζ９］
＜間に両側が固化ｔ、、、、　”Ｚ　Ｌまい、ブレンシ
ャー１゛コール５による１１′−延前にお←３る所定の
広がりを得ることは困難ごある。

この問題は、円筒体を大形にした場右だけに限Ｃ）れす
、流動性の悪い被処理物を供給ｊ、た場合などにも生ず
る。−４なわち、流動性の悪い被処理物の項八、供給部
３から円筒体表面に供給されても所ふ′範囲に広がるま
で時間がかかり、円筒体の回転速度を低Ｆ’：ｓ’ｔて
圧延までＣ）時間を充分にと一つたどし−でも被処理物
が円筒体のＡ端側・・、広がるまでに両側が固化り、　
”？Ｔ　Ｌ、ま・う。

本発明の［ｌ的は、かかる従来の問題点を解決−４るた
めになされたもので、大形の円筒体を用いζ処理能力を
同一１．さゼようどする場合や流動性の悪い被処理物を
処理する場合などで４１圧延前Ｉ７１被妨理物を円筒体
表面上、にその輻方向所定の範囲の広がり苓もって供給
できる供給部を備えた回転円筒型処理装置を提供する、
二とにある。

（課題を解決するための手段） 本発明の回転円筒型処理装置は、回転ｉ１Ｔ能に支持さ
れた円筒体と、該円筒体を冷却又は加熱４′るための冷
却又は加熱機構と、前記円筒体の表面に被処理物を供給
する供給部と、該供給部に隣接しＩ］つ前記円筒体の回
転プ）向側に配置さオフ、前記供給部から出た被処理物
を前記円筒体の表面に神代けて）に延するブし・・７５
．／ヤーロールと９、該ブレンジャーロールで圧延され
た前記被処理物を前記円筒体乙こ密着さセたまま移送さ
（２るべく前記円筒体の外周に沿って張架されたエンド
Ｌ、＝ス・＼ル叫・とを真み、前記供給部がｉｆＩ記円
筒体ω幅方向に沿って広がるノズル部を備工、該ノズル
部に形成された開ｌ」の前記円筒体幅力向長さを１　！
：（−１、前記円筒体の幅’Ｐ、　Ｌ　トしたとｎ　、
　ｆ　ｙ”’　Ｉが０．３−０．８となるように１°７
たことを特徴とする。

（作　用） 本発明の回転円筒型処理装置によると、被処理供給源か
ら送出さ和ｆ−被処］′！！！物１ま供給部を構成する
。／ス゛ル部の開「１から円筒体１に供給される。

その際１．ノズル部の開１−〕の円筒体幅ノ）向（１、
二沿う長さがＰ’Ｅ筒体の幅・ｊ′法σ）約３割から８
割の範囲にあるため、被処理物は供給部から円筒体の３
割〜８割の幅方向範囲乙こ−１に供給される。その後、
この被処理物ば円筒体の輻−（１法に対して残りの２割
から７割印））片側乙こついＣみると１割から３．５割
の範囲ご広がり、（して、グＬ１．・二゛／ヤー１．１
−ルで所定の厚さＣ，ｎ−鮭される。

（実施例） 以１・、本発明の回転円筒型処理装置を添付図面に示さ
れた実施例にりいて更に詳細に説明する。

第１図には本発明の−・実施例に係る回転円筒望処理袋
２１０が示されている。

この回転円筒型処理装置１０は、第４図に示された従来
のものど供給部１１の構成を異にするのみで、その他の
構り戊については間しである０）で同一の参照符号を４
−ＪＬ、て（の説明を省略する。

本実施例の回転円筒型処理装置１０において、供給部１
１は第２図に示されるように被処理物供給源に接続され
た５／スズル■２からなり、このノズル部１２は断面：
角形状を早し、その開口部１３は円筒体１の軸線方向郡
ち輻方向に広が１１、”こいる。しかし、このノズル部
１２における円筒体１の周方向についでは捌く形成され
、従って、その間１〕部１３は第３図に示されるように
円筒体１の軸線方向に長い長方形状に形成されており、
核間Ｆ」部■３の幅寸法（、」、これをＣとし、円筒体
ｌの幅寸法を１−１とした時、４２／Ｌ＝０．３〜０．
８、即ち円筒体１の機軸の約３割から８割の長さに設定
される。但し、第２図および笥３図から明らかなように
開口部１１３ω中央部には薄い補強リブ１４が配置され
、例えば熔融柑脂のような粘性の強い被処理物が加圧さ
れて押ｊ、２出されると音のノズル部１２とりわ＋−１
開［１部１３の膨張変形４１防止するようにされでいる
が、この程度の薄い補強リブ１４の存在はたとえこれが
袂数個あっ゛ても開口部１３の幅寸法においては無視で
きるものである。

このノズル部１２は第１図に示されるよ・うぶご外壁が
二重に構成されその内部を冷却又は加熱媒体流通用のジ
ャケット１５とされている。このシャケ・７１・１５は
ノズル部１２の上部において接続された冷却又は加熱媒
体を導入する導入管１６と連ｉすると共に下部において
接続された該媒体を排出する排出管１７と連通している
。冷却又は加熱媒体は、被処理物４を加熱する場合には
、蒸気又は熱媒油或いは同様なものであり、また被処理
物４を冷却する場合には水等が使用される。

このように構成された本実施例の回転円筒を処理装置Ｆ
１．０によると、被処理物供給源から送出された被処理
物４は供給部をｌｌＩ戒するノズル部１２の開【］部１
３から円筒体ＩＪ：に供給される。その際、ノズル部１
２の開［」部１３の円筒体軸方向に沿う長さが円筒体の
幅寸法の約３割から８割Ｏ範囲にあるため、被処理物４
は供給部１１から円筒体１の３割〜８割の幅方向範囲に
一度に供給される。その後、この被処理物４は円筒体１
の幅寸法に対１．て残りの２割から７割即ち」１側につ
いてみると１割から３．５割の範囲で広がり、そし、て
、プレッシャ・−ロール５で所定の厚さにｊ丁延される
。

また、この実施例の回転円筒型処理装！１０における供
給部１１を構成するノズル部１２が周囲に冷却又はｊ］
１１熱媒体流通用θ）ジャケット１５を備え、該ノズル
部１２の開口１３から出る被処理物４を直Ｍまで冷却又
は加熱しているため、被処理′＃Ａ４の流動性を該被処
理物４が本来備えている流動性よりも悪くすることなく
ノズル部１２からの流出が可能となる。

（発明の効ｙ） 以り説明し、たまうに、本発明の回転円筒型処理装置に
よれば、ノズル部■開り部を円筒体の軸方向幅に対して
杓３割ないし８割の範囲で拡張し、たことにより、被処
理物が流動性の悪いもの又は円筒体が大をｏ）もの゛で
あっても被処理物を円筒体表面七番こ所定の範囲の広が
りをもって供給することがでと、その結果、所定の厚さ
および所定の幅で被処理物を圧延することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例０Ｘ″係る回転円筒型処理装
置を概略的に示づ断面図、第２図は第１図に示された回
転円筒型処理装置におけるノズル部を一部破断して示す
正面図、第３図は前記ノズル部ω下ｔｈｉ藺、第４図は
従来の回転円筒型処理装置を概略的に示す断面図、第５
しＪは第４図のＶ−ｖ線に沿って得た従来の回転円筒型
処理装置におけるノズル部から円筒体−・、０）被処理
物の流出状態杏示ず正面図である。 Ｌ・・・円筒体、２・・・冷却又は加熱機構、４・・・
彼処Ｆｌ、５・・・プレッシャーロール、６・・・エン
ド１／スベルト、１０・・・回転円筒型処理装置、１１
・・・供給部、１２・・・ノズル部、１３・・・開口部
。 第 １ 図 第３図 ＋、、−−−−−−−−、−−−− 一一一一−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−１
第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　回転可能に支持された円筒体と、該円筒体を冷却又は
   加熱するための冷却又は加熱機構と、前記円筒体の表面
   に被処理物を供給する供給部と、該供給部に隣接し且つ
   前記円筒体の回転方向側に配置され、前記供給部から出
   た被処理物を前記円筒体の表面に押付けて圧延するプレ
   ッシャーロールと、該プレッシャーロールで圧延された
   前記被処理物を前記円筒体に密着させたまま移送させる
   べく前記円筒体の外周に沿って張架されたエンドレスベ
   ルトとを含み、前記供給部が前記円筒体の幅方向に沿っ
   て広がるノズル部を備え、該ノズル部に形成された開口
   の前記円筒体幅方向長さをｌとし、前記円筒体の幅をＬ
   としたとき、ｌ／Ｌが０．３〜０．８となるようにした
   ことを特徴とする回転円筒型処理装置。