JPH03264567A - ピリミジン誘導体の製造法 - Google Patents

ピリミジン誘導体の製造法

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JPH03264567A
JPH03264567A JP6118490A JP6118490A JPH03264567A JP H03264567 A JPH03264567 A JP H03264567A JP 6118490 A JP6118490 A JP 6118490A JP 6118490 A JP6118490 A JP 6118490A JP H03264567 A JPH03264567 A JP H03264567A
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JP
Japan
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group
formula
substituted
lower alkyl
phenyl
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JP6118490A
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English (en)
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Shuji Ozawa
修二 小澤
Tamotsu Asano
保 浅野
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、水田および畑地で問題となる殆どの有害雑草
に対して有効な、新規なピリミジン誘導体の製造法に関
する。
〔従来の技術〕
2位にフェノキシ基を有するピリミジン誘導体が除草活
性を有することは、アグリ力ルチャル・アンド・バイオ
ロジカル・ケミストリー(八gric。
Biol、 Chem、 ) 30巻、9号、896頁
(1966)、特開昭54−55729号公報、特開昭
54−117486号公報、特公昭42−9474号公
報、特開昭62−174059号公報、特開昭63−1
15870号公報などに記載されている。
また、上述の公報にはフェノール類とハロゲノピリミジ
ン類との反応についても記載されている〔発明が解決し
ようとする課題〕 しかしながら、これらの先行技術に記載されている化合
物を水田あるいは畑作で使用する場合、除草活性が不十
分であるか、または重要作物に対する選択性に大きな問
題があるという欠点を有している。
従って本発明は、水田もしくは畑作において、極めて広
範な雑草種に対してより低薬量で有効であり、かつ重要
作物に対して薬害を与えない選択性除草剤を安価に収率
よく製造することを課題とする。
C課題を解決するための手段および作用〕本発明者らは
、従来の除草剤に比較して、より低薬量で効果が優れ、
かつ薬害のない除草剤を得るべく、フェノキシピリミジ
ン誘導体について研究を進めた。その結果、フェニル基
の2位に置換または非置換アルコキシイミノメチル基を
有する新規な2−フェノキシピリミジン誘導体が、高度
の選択性を有する除草剤として極めて優れた特徴を有し
ていることを見い出した。
また、それらの2−フェノキシピリミジン誘導体を、安
価で牧率良く製造する方法を見出した。
本発明は、−形式(I) 〔式中、Rは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、フェニル置換低級アルケニル基、低1)
ハロアルケニル基、シクロアルキル基、置換フェニル置
換アルキニル基、または下記式(式中、illは水素原
子または低級アルキル基を表し、Xはハロゲン原子、低
級アルキル基または低級アルコキシ基を表し、mおよび
nはO〜2を表し、mが2の時はXは同一であっても異
なっていでも良い。)を表す。〕で表わされる化合物を
不活性溶媒中、塩基の存在下、2−クロロ−4,6ジメ
トキシビリミジンとを反応させることを特徴とする一般
式(II) (式中、Rは前記と同じ。)で表わされるピリミジン誘
導体の製造法である。
一般式(It)中のRの具体例を示せば、メチル基、エ
チル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマ
ルブチル基、セカンダリ−ブチル基、ターシャリ−ブチ
ル基等の炭素数1〜4の直鎖または分岐アルキル基を表
わすか、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基を表
わすか、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニ
ル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−クロロ2−
7’ロベニル基、3−クロロ−2−’7’ロペニル基、
1−クロロ−2−プロペニル基、2,3−ジクロロ−2
−7’ロベニル基、3I3−シクロロー2プロペニルL
3−ブロモ−2−7”ロペニル基、2−ブロモ−2−プ
ロペニル基、2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニ
ル基、1−メチル−2ブテニル基、2−メチル−2−ブ
テニル基、1.3−ジメチル−2−ブテニル基、2,3
−ジメチル2−ブテニル基、1,2−ジメチル−2−ブ
テニル基、1−クロロ−2−ブテニル基、2−クロロ−
2−フfニル基、3−クロロ−2−ブテニル基、4−ク
ロロ−2ニブテニル基、3−ブテニル基、3−フェニル
−2−ブテニル基、3−フェニル−2−7’ロベニル基
、2−フェニル−2−フロベニル基、2−フェニル−2
−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−へキセニル基等
のアルケニル基を表わすか、2−プロピニル基、2−ブ
チニル基、3−フェニル−2−プロピニル基、1−メチ
ル−2−プロピニル基、3−ブチニル基等のアルキニル
基を表わtか、ベンジル基、2−クロロベンジル基、2
,4−ジクロロベンジル基、3,4−ジクロロベンジル
基、4−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、2
−フルオロベンジル基、2ブロモベンジル基、2−クロ
ロ−4−メチルベンジル基、2−フェニルエチル基、1
−メチル−2フエニルエチル基、1,1−ジメチル−2
−フェニルエチル基、(4−メチルフェニル)エチル基
、2−(4−クロロフェニル)エチルL  L−メチル
−1−フェニルエチル基、2−(2,4−ジクロロフェ
ニル)エチルL2−(2−フルオロフェニル)エチル基
、l−フェニルエチル基等のフェニル置換アルキル基、
3− (2−クロロフェニル)−2−プロペニルL 3
− (3−クロロフェニル)−2−7’ロペニル基、3
− (410ロフエニル)−2−プロペニル基、3− 
(2,3−ジクロロフェニル)−2−7”ロペニルL 
3− (2,4−ジクロロフェニル)−2−プロペニル
基、3(3,4−ジクロロフェニル)−2−7”ロペニ
ル基、3−(2−フルオロフェニル) −2−7”ロベ
ニル基、3−(3−フルオロフェニル)−2−プロペニ
ル%、3− (4−フルオロフェニル)−2プロペニル
L 3− (2,4−ジフルオロフェニル)−2−7’
ロペニルL3−(2−フロモフェニル)−2−プロペニ
ル基、3−(2−ヨードフェニル)−2−プロペニル基
、3−(2−1−リフルオロメチルフェニル)−2−プ
ロペニル基、3(4−)リフルオロメチルフェニル)−
2−プロペニル%、3−(2−メチルフェニル)−2−
プロペニル基、3−(3−メチルフェニル)−2プロペ
ニル!、3−(4−メチルフェニル)−2プロペニルL
3−(4−エチルフェニル)−2−プロペニル基、3−
(3−メトキシフェニル)−2−プロペニル基等の置換
フェニル置換フロベニル基またはα−ナフチルメチル基
を表わすが、勿論これらに限定されるものではない。
−形式(II)で表わされる化合物は、−形式(I) (式中、Rは前記と同じ。) で表わされる化合物を不活性溶媒中、脱酸剤の存在下、
2−クロロ−4,6−シメトキシピリミジンとを反応さ
せて製造することができる。
ここでいう不活性溶媒とはベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、1.4ジオキサン等のエー
テル類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類
、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリノン等の非プ
ロトン性極性溶媒、アセトニトリル等のニトリル類があ
げられる。脱酸剤としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩
類やトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等
の第3級アミン類や水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化カルシウム等の金属水酸化物や、水素化ナトリ
ウム等があげられる。反応温度は0°Cから溶媒の沸点
まで可能であるが、望ましくは80°Cから130°C
程度がよい。反応終了後は通常の後処理を実施し、再結
晶あるいはカラムクロマトグラフィーにより精製するこ
とができる。
出発物質である一般式(1)で表わされる化合物は下記
の方法により製造することができる。
B法 (式中、Rは前記と同じ、Yはハロゲンを表す。)A法
で表わされる反応はザ・ジャーナル・オプ・オーガニッ
ク・ケミストリー(J、Org、Chem、)52巻1
817頁(1987年) 、Vogel、A、 Tex
tbook of Practitcal Organ
ic Chemistry+ 4th ed; Lon
gman:New York、 1981 P1113
.に記載されている方法に従って製造することができる
B法で表わされる反応ではケミカル・アンド・ファーマ
シューティカル・プリテン(Chem、Pharm。
0 Bull、 ) 9巻 945(1961)に記載され
ている方法に従って先ず2−ヒドロキシベンズアルドキ
シムを製造した後、次いで一般式(IV)で表わされる
化合物を不活性溶媒中、脱酸剤の存在下に反応させて、
一般式(1)で表わされる化合物を製造することができ
る。
通常、RYで表わされるハロゲン化物は一般式(V)で
表わされる化合物に対して等モル量から5モル等量用い
る。ここでいう不活性溶媒とはベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン
等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、13−ジメチル−2−イミダゾリノン等の
非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル等のニトリル類
があげられる。脱酸剤としては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素1 ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩類やトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の第3級アミ
ン類をあげることができる。反応温度は室温から溶媒の
沸点まで可能であるが、望ましくは50°Cから120
°C程度がよい。反応終了後、通常の後処理を実施し、
再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーにより精製す
ることができる。
一般式(n)で表わされる本発明に係わるピリミジン誘
導体を含有する除草剤は、はとんどの水田もしくは畑地
で問題となる有害雑草に対して極めて有効に作用する。
水田においてはヒエ、サヤヌカグサ、ヨシなどのイネ科
強害雑草、カヤツリグサ、クマガヤツリ、ミズガヤツリ
、ホタルイ、シズイ、クログワイ、マツバイ、ヒデリコ
などのカヤツリグサ科強害雑草またはウリカワ、オモダ
カ、ヘラオモダカなどのオモダカ科強害雑草、更には、
コナギ、キカシグサ、セリ等の広葉雑草に対して極めて
有効な除草効果を示す。畑地においてはハコベ、シロザ
、ナズナ、アオビユ、アメリカツノクサネム、アメリカ
キンゴジカ、イチビ、2 アサガオ、オナモミ、ノポロギク等の広葉雑草、ヒエ、
エノコログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビラ
、ノスズメノテッポウ、エンバク、カラスムギ、シバム
ギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシバ、ハイコヌカグサ、
メリケンカルカヤ、セイヨウヌカポ、シングルグラス、
オオクサキビ、ジョンソングラス、シャッターケーン等
のイネ科雑草およびコゴメカヤツリ、ハマスゲ等のカヤ
ツリグサ科雑草、特にジョンソングラス、シャッターケ
ーン、カモガヤ等の多年生雑草に対して極めて有効な除
草効果を示す。
一般式(II)で表わされる本発明に係わる化合物を含
有する除草剤は、その作用部位の一つと考えられるAL
S (アセトラクテートシンセターゼ)の酵素レベルの
阻害活性試験において、ノビエ、ジョンソングラス、エ
ノコログサ等の雑草に高い阻害活性を示す。一方、エン
トウ豆、綿、落花生等の広葉作物に対し阻害活性を示さ
ない。このことは、本発明に係わる除草剤が、エントウ
豆、綿、落花生等に高い選択性を有することを示す。ま
たポット試験においても大豆、綿、テンサイ、落花生、
ヒマワリ、ナタネ、疏菜類等の広葉作物に対する薬害は
ないか、あっても極めて少ない。また処理法によっては
トウモロコシ、小麦、稲、大麦、サトウキビ等の狭葉作
物にも薬害を全く出さずに使用できる。特に、綿、大豆
、落花生に薬害を示さず有効に使用できる。
一般式(II)で表わされる本発明に係わる化合物を含
有する除草剤は土壌処理、土壌混層処理、茎葉散布処理
、畝間処理などあらゆる処理法において有効である。
〔実施例〕
次に、本発明の製造法を実施例により詳細に説明する。
参考例1 2−(N−シンナミルオキシイミノ)フェノ
ールの製造 500mj!四つ目フラスコにサリチルアルデヒド(6
1g 、  0.5mole)およびメタノール(15
0ml)を装入した。攪拌しながらシンナミルオキシア
ミン(74,5g So、5mole)を30分で滴下
した。滴下路9 4 7後、2時間加熱還流した。冷却後、メタノールを減圧
下に留去し、残渣を水に排出した。酢酸エチルで抽出し
た後、硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃縮した。ヘキ
サンから再結晶して目的物を白色固体として107.3
gを得た。(収率81%)融点 51.5〜52.5°
C NMR(CCI 4)  64.70(2H,d、J=
5.8Hz)、 6.21(18dt、J=15.8,
5.8Hz)、 6.63(IH,、d、J=15.8
 Hz)6.7〜7.5(9H,m)、 8.05(I
Ls)、 9.51(II、s)参考例2 2−[N−
(2−プロピニルオキシ)イミノ〕フェノールの製造 300d四つ目フラスコにサリチルアルデヒド(12,
2g、0.1mole)、トリエチルアミン(11,1
g、0.11mole)およびメタノール(50ml)
を装入した。攪拌しなから2−プロピニルオキシアミン
塩酸塩(lo、8g、  0.1mole)を10分間
で加え、次に加熱還流を2時間行った。反応液を冷却後
、メタノールを減圧下に留去し、残渣を水に排出した。
酢酸エチルで抽出した後、硫酸ナトリウム上で乾燥した
。有機層を濃縮した後、イソプロピルニー5 チルから再結晶して目的物を白色固体として13.1g
を得た。(収率75%) 融点 69〜70’C NMR(CDC13)δ2.53(LH,t、J=2.
0Hz)、 4.76(2H。
d、J=2.0Hz)、 6.9〜7.0(2H,m)
、 7.2(IH,m)。
7.2〜7.3(1B、m)、 8.22(IH,s)
、 9.68(LH,s)参考例3 2−(N−(3−
メチル−2−ブテニルオキシ)イミノ〕フェノールの製
造 300、wj!四つロフラスコにサリチルアルデヒド(
12,2g 、  0.1mole)およびメタノール
(50d)を装入した。攪拌しなから3−メチル−2−
ブテニルオキシアミン(10,1g 、  0.1mo
le)を10分間で滴下した。滴下終了後、2時間加熱
還流した。反応液を冷却後、メタノールを減圧下に留去
し、残渣を水に排出した。酢酸エチルで抽出した後、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。有機層を濃縮した後シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ノルマルヘ
キサン:酢酸エチル=10:1)で精製して、目的物を
油状物として15.0 g得た。(収率73%) 6 NMR(CDC13)δ 1.77(3H,s)、  
1.80(3H,s)、  4.66(28d、J=7
.4Hz)、  5.46(IH,t、J=7.4Hz
)。
6.9〜7.0(2H,m)、  7.1〜7.2(I
H,m)。
7.2〜7.3(1B、m)、  8.16(LH,s
)、  9.96(IH,s)参考例42−(N−シン
ナミルオキシイミノ)フェノールの製造 1)2−ヒドロキシベンズアルドキシムの製造300r
nl四つロフラスコに炭酸カリウム(6,9g、0.0
5mole) 、メタノール(LooWl) 、水(2
0d)を装入した。0°Cに冷却した後、ヒドロキシル
アミン塩酸塩(7,0g、  0.1mole)を加え
た。15分後、サリチルアルデヒド(12,2g、0.
1mole)を加え、室温で1時間攪拌した後、加熱還
流を2時間行った。反応液を冷却後、メタノールを減圧
下に留去し、残渣を水に排出した。酢酸エチルで抽出し
た後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。有機層を濃縮した
後、シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒;ノルマ
ルヘキサン:酢酸エチル;5:1)で精製して、目的物
を13.2 g得た。(収率96%) 融点 46〜49°C NMR(CGIn)  δ 6.7〜7.4(4H,m
)、 8.14(LH,s)。
8.67(IH,bs)、  10.10(IH,bs
)2)2〜(N−シンナミルオキシイミノ)フェノール
の製造 300d四つ目フラスコに炭酸カリウム(7,0g。
50mmole ) 、2−ヒドロキシベンズアルドキ
シム(6,9g、 50mmole )およびアセトン
(100m)を装入した。シンナミルプロミド(9,8
g、50mmole )を加えた後、加熱還流を1日行
った。反応液を冷却後、減圧下にアセトンを留去し、残
渣を水に排出した。酢酸エチルで抽出した後、硫酸ナト
リウム上で乾燥した。有機層を濃縮した後、シリカゲル
クロマトグラフィー(展開溶媒;ノルマルヘキサン:酢
酸エチル=10:1)で精製して、目的物を8.1g得
た。(収率61%)実施例10−シンナミル−2−(4
,6−シメトキシー2−ピリミジニルオキシ)ベン ズアルドキシムの製造(化合物番号7)300d四つロ
フラスコに炭酸カリウム(4,2g。
7 8 30mmole ) 、2− (N−シンナミルオキシ
イミノ)フェノール(13,3g、50mmole )
およびジメチルホルムアミド(Loom)を装入した。
2−クロロ−4,6−シメトキシピリミジン(8,7g
、 50mmole )を加えた後、100°C〜11
0°Cで2時間加熱した。反応液を冷却し、氷水に排出
した析出した固体を濾別し、乾燥した。ヘキサンから再
結晶して18.3gの白色固体として目的物を得た。(
収率91%) 融点 87〜89°C NMR(CCIn)  63.75(6B、s)、 4
.75(2■、 d、 J=5.4Hz) 。
5.70(18,s)、 6.27(LH,dt、J=
15.8.J=5.41(z)。
6.64(IH,d、J=15.8Hz)、 7.0〜
7.5(8H,m)。
7.8〜8.0(IH,m)、 8.23(IHs)実
施例2 0−(2−プロピニル)−2−(4,6ジメト
キシー2−ピリミジニルオキ シ)ベンズアルドキシムの製造(化合 物番号10) 300d四つロフラスコに炭酸カリウム(4,2g。
30mmole)、2  (N  (2−プロピニルオ
キシ9 )イミノ〕フェノール(8,8g、 50mmole 
)およびジメチルホルムアミド(100d)を装入した
2−クロロ−4,6−シメトキシビリミジン(8,7g
、50mmole )を加えた後、100°C〜110
°Cで2時間加熱した。反応液を冷却後、氷水に排出し
酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥、濃縮した後、シ
リカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒;ノルマルヘキ
サン:酢酸エチル=10:1)で精製して、目的化合物
を14.1gの油状物として得た。(収率90%) NMR(CCI4)  62.32(1B、t、J=2
.4Hz)、 3.75(68,s)。
4.65(2H,d、J=2.4Hz)、 5.68(
Itl、s)。
6.9〜7.4(3H,m)、 7.8〜8.0(18
,m)。
8.20(LH,s) 実施例3 0−(3−メチル−2−ブテニル)2−(4
,6−シメトキシー2−ピリミジニルオキシ)ベンズア
ルドキシムの 製造(化合物番号6) 300d四つロフラスコに炭酸カリウム(4,2g。
30mmole′) 、2− (N −(3−メチル−
2−ブチ0 ニルオキシ)イミノ〕フェノール(10,3g、 50
mmole )およびジメチルホルムアミド(100m
N)を装入した。2−クロロ−4,6−シメトキシピリ
ミジン(8,7g、 50mmole )を加えた後、
100°C〜110°Cで2時間加熱した。反応液を冷
却後、氷水に排出し酢酸エチルで抽出した。有機層を乾
燥、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー(展開
溶媒;ノルマルヘキサン:酢酸エチル=io:t)゛で
精製して、目的化合物を15.1gの油状物として得た
。(収率88%) NMR(CC14)  δ1.70(6H,s)、 3
.70(6H,s)。
4.47(2H,d、J=7.0Hz)、 5.30(
18,t、J=7.0Hz)5.60(II、s)、 
6.9〜7.2(3H,m);7.7〜7.9(II、
m)、 7.97(LH,s)実施例と同様の方法で製
造した一般式(I[)で表わされる化合物の例を表−1
にまとめた。
次に一般式(II)で表わされる化合物が優れた除草活
性を有することを示すために、試験例を示す。
試験例1 畑地茎葉処理試験 1 /10000アール樹脂製ポットに畑土壌を充填し
、これにアオビユ、シロザ、スズメノテッポウ、ジョン
ソングラス、ヒエ、エノコログサ、メヒシバ、ダイズ、
落花生およびワタを一種類づつ播種し、温室内にて生育
させた。各植物が2〜3葉になった時、供試化合物の所
定量を前記製剤例11に記載した方法に準じて調製した
乳剤を水で稀釈調製し、所定量の加圧微量噴霧器にて散
布した。散布量はアール当51とした。薬剤散布後30
日目に作物および雑草に対する影響を観察調査し、その
結果を表−2に示した。
表中、被検植物の被害程度および作物に対する薬害程度
は、無処理の場合の風乾型と比較し以下の基準で表示し
た。
4 5 対無処理区風乾重比で示した生育率 0〜5   (枯 死) 6〜10(甚 害) 11〜40(中 害) 41〜70(少 害) 71〜90(僅少害) 91〜100(無 害) (%) 6 〔発明の効果〕 本発明の製造法によって、水田および畑地で問題となる
有害雑草に対して有効な一般式(II)で表される新規
なピリミジン誘導体を、安価で吹率良く製造することが
できる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Rは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
    アルキニル基、フェニル置換低級アルケニル基、低級ハ
    ロアルケニル基、シクロアルキル基、置換フェニル置換
    アルキニル基、または下記式▲数式、化学式、表等があ
    ります▼または▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表し
    、Xはハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコ
    キシ基を表し、mおよびnは0〜2を表し、mが2の時
    はXは同一であっても異っていても良い。)を表す。〕
    で表わされる化合物を不活性溶媒中、塩基の存在下、2
    −クロロ−4,6−ジメトキシピリミジンとを反応させ
    てることを特徴とする一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rは前記と同じ。)で表わされるピリミジン誘
    導体の製造法。
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