JPH0326130B2 - - Google Patents
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- JPH0326130B2 JPH0326130B2 JP56107414A JP10741481A JPH0326130B2 JP H0326130 B2 JPH0326130 B2 JP H0326130B2 JP 56107414 A JP56107414 A JP 56107414A JP 10741481 A JP10741481 A JP 10741481A JP H0326130 B2 JPH0326130 B2 JP H0326130B2
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- JP
- Japan
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- liquid
- wall surface
- energy
- liquid holding
- separated
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 67
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 hydrofluoric acid) Chemical class 0.000 description 1
- 239000010813 municipal solid waste Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、インクジエツトヘツド（液体噴射記
録ヘツド）、詳しくは、所謂、インクジエツト記
録方式に用いる記録用インク小滴を発生する為の
インクジエツトヘツドに関する。
録ヘツド）、詳しくは、所謂、インクジエツト記
録方式に用いる記録用インク小滴を発生する為の
インクジエツトヘツドに関する。
インクジエツト記録方式に適用されるインクジ
エツトヘツドは、一般に微細なインク液吐出口
（オリフイス）、インク液流路及びこのインク液流
路の一部に設けられるエネルギー作用部と、該作
用部にある液体に作用させる液滴形成エネルギー
を発生するインク液吐出エネルギー体発生部を具
えている。
エツトヘツドは、一般に微細なインク液吐出口
（オリフイス）、インク液流路及びこのインク液流
路の一部に設けられるエネルギー作用部と、該作
用部にある液体に作用させる液滴形成エネルギー
を発生するインク液吐出エネルギー体発生部を具
えている。
従来、この様なインクジエツトヘツドを作成す
る方法として、例えば、ガラスや金属の板に切削
やエツチング等により、微細な溝を形成した後、
この溝を形成した板を他の板に吐出口を形成した
板と接合して液流路の形成を行なう方法が知られ
ている。
る方法として、例えば、ガラスや金属の板に切削
やエツチング等により、微細な溝を形成した後、
この溝を形成した板を他の板に吐出口を形成した
板と接合して液流路の形成を行なう方法が知られ
ている。
しかし、斯かる従来法によつて作成されるヘツ
ドでは、切削加工される液流路内壁面の荒れが大
き過ぎたり、エツチング率の差から液流路に歪が
生じたりして、流路抵抗の一定した液流路が得難
く、製作後のインクジエツトヘツドのインク吐出
特性にバラツキが出易い。又、切削加工の際に、
板の欠けや割れが生じ易く、製造歩留りが悪いと
言う欠点もある。そして、エツチング加工を行な
う場合は、製造工程が多く、製造コストの上昇を
まねくと言う不利がある。更に、上記した従来法
に共通する欠点としては、液流路となる溝を形成
した溝付板と、インク液に作用するエネルギーを
発生するエネルギー発生体が設けられた蓋板との
貼合せの際に夫々の位置合せが困難であつて量産
性に欠ける点が挙げられる。従つて、この等の欠
点が解決される構成を有するインクジエツトヘツ
ドの開発が熱望されている。
ドでは、切削加工される液流路内壁面の荒れが大
き過ぎたり、エツチング率の差から液流路に歪が
生じたりして、流路抵抗の一定した液流路が得難
く、製作後のインクジエツトヘツドのインク吐出
特性にバラツキが出易い。又、切削加工の際に、
板の欠けや割れが生じ易く、製造歩留りが悪いと
言う欠点もある。そして、エツチング加工を行な
う場合は、製造工程が多く、製造コストの上昇を
まねくと言う不利がある。更に、上記した従来法
に共通する欠点としては、液流路となる溝を形成
した溝付板と、インク液に作用するエネルギーを
発生するエネルギー発生体が設けられた蓋板との
貼合せの際に夫々の位置合せが困難であつて量産
性に欠ける点が挙げられる。従つて、この等の欠
点が解決される構成を有するインクジエツトヘツ
ドの開発が熱望されている。
これ等の点は、殊に液流路が直線的ではなく、
設計の上から曲折された部分を有するタイプのイ
ンクジエツトヘツドの場合には、一層深刻な問題
として浮上されるものである。
設計の上から曲折された部分を有するタイプのイ
ンクジエツトヘツドの場合には、一層深刻な問題
として浮上されるものである。
本発明は、上記欠点に鑑み成されたもので、精
密であり、しかも、耐久性があつて信頼性の高い
インクジエツトヘツドを提供することを第１目的
とする。
密であり、しかも、耐久性があつて信頼性の高い
インクジエツトヘツドを提供することを第１目的
とする。
又、液流路が精度良く正確に且つ歩留り良く微
細加工された構成を有するインクジエツトヘツド
を提供することも本発明の第２目的である。更に
は簡略な手法によりマルチアレイ型式の細密なイ
ンク吐出ノズルを有するインクジエツトヘツドを
提供することも本発明の他の目的である。
細加工された構成を有するインクジエツトヘツド
を提供することも本発明の第２目的である。更に
は簡略な手法によりマルチアレイ型式の細密なイ
ンク吐出ノズルを有するインクジエツトヘツドを
提供することも本発明の他の目的である。
本発明は、上記目的を達成するもので、第１発
明が、供給された液体を保持する第１、第２の液
体保持領域と、第１液体保持領域に一方の端部が
連通し該第２の液体保持領域に他方の端部が連通
していると共に互いに壁面で隔絶されている流路
の複数と、該複数流路内のそれぞれに該壁面で隔
絶されて配置されているエネルギー発生体と、を
同一の基板平面上に有し、飛翔的液滴を吐出する
吐出口が該エネルギー発生体に対向していること
を特徴とする液体噴射記録ヘツドである。
明が、供給された液体を保持する第１、第２の液
体保持領域と、第１液体保持領域に一方の端部が
連通し該第２の液体保持領域に他方の端部が連通
していると共に互いに壁面で隔絶されている流路
の複数と、該複数流路内のそれぞれに該壁面で隔
絶されて配置されているエネルギー発生体と、を
同一の基板平面上に有し、飛翔的液滴を吐出する
吐出口が該エネルギー発生体に対向していること
を特徴とする液体噴射記録ヘツドである。
本発明第１発明によれば、複数流路はそれぞれ
第１，２の液体保持領域に対して連通すると共に
複数流路、第１，２の液体保持領域が同一の基板
平面上に形成されているので、液体の流動状態を
同等化できている。従つて、上記壁面で互いに隔
絶されている夫々のエネルギー発生体に対して液
体の供給効率が向上でき、記録によつて消費され
る液体を即座に確実に供給できる。しかもエネル
ギー発生体の吐出エネルギーも壁面で互いに隔絶
されているので互いの干渉を防止した状態で、流
路の吐出口に向つての吐出用曲折領域で液体の吐
出に効率よく使用できる。これらから、記録ヘツ
ドの上記不都合にも拘らず、小型化を達成しつつ
長期的に安定した記録を達成でき、上記目的の耐
久性にみ、信頼性の高い液体噴射記録ヘツドを提
供できる。
第１，２の液体保持領域に対して連通すると共に
複数流路、第１，２の液体保持領域が同一の基板
平面上に形成されているので、液体の流動状態を
同等化できている。従つて、上記壁面で互いに隔
絶されている夫々のエネルギー発生体に対して液
体の供給効率が向上でき、記録によつて消費され
る液体を即座に確実に供給できる。しかもエネル
ギー発生体の吐出エネルギーも壁面で互いに隔絶
されているので互いの干渉を防止した状態で、流
路の吐出口に向つての吐出用曲折領域で液体の吐
出に効率よく使用できる。これらから、記録ヘツ
ドの上記不都合にも拘らず、小型化を達成しつつ
長期的に安定した記録を達成でき、上記目的の耐
久性にみ、信頼性の高い液体噴射記録ヘツドを提
供できる。
本発明第２発明は、上記第１発明に加えて、流
路の壁面を感光性樹脂を硬化させて形成したこと
を特徴とするもので、上記流路をより高精度に形
成でき、エネルギー損失を一層軽減でき、しかも
液体の供給抵抗を一層軽減できるため第１発明の
効果を一層向上できるものである。
路の壁面を感光性樹脂を硬化させて形成したこと
を特徴とするもので、上記流路をより高精度に形
成でき、エネルギー損失を一層軽減でき、しかも
液体の供給抵抗を一層軽減できるため第１発明の
効果を一層向上できるものである。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説
明する。
明する。
第１図乃至第７図ｂは、本発明インクジエツト
ヘツドの構成とその製作手順を説明する為の模式
図である。
ヘツドの構成とその製作手順を説明する為の模式
図である。
先ず、第１図に示す様に、ガラス、セラミツク
ス、プラスチツク或は金属等、適当な基板１上に
ピエゾ素子等の飛翔的液滴形成の為のエネルギー
を発生するエネルギー発生素子（エネルギー発生
体）２を所望の個数、配設する（図に於ては、２
個）。前記エネルギー発生素子２が近傍のインク
液体に加圧することにより、インク吐出圧を発生
させる。
ス、プラスチツク或は金属等、適当な基板１上に
ピエゾ素子等の飛翔的液滴形成の為のエネルギー
を発生するエネルギー発生素子（エネルギー発生
体）２を所望の個数、配設する（図に於ては、２
個）。前記エネルギー発生素子２が近傍のインク
液体に加圧することにより、インク吐出圧を発生
させる。
尚、これ等の素子２には図示されていない信号
入力用電極が接続してある。
入力用電極が接続してある。
次に、エネルギー発生素子２を設けた基板１表
面を清浄化すると共に乾燥させた後、素子２を設
けた基板面１Ａに、第２図に断面図で示す如く80
℃〜150℃程度に加温された感光性樹脂のフイル
ムであるドライフイルムフオトレジスト３（膜
厚、約25μ〜100μ）を0.5〜0.4f／分の速度、１〜
３Kg／cm2の加圧条件下でラミネートする。
面を清浄化すると共に乾燥させた後、素子２を設
けた基板面１Ａに、第２図に断面図で示す如く80
℃〜150℃程度に加温された感光性樹脂のフイル
ムであるドライフイルムフオトレジスト３（膜
厚、約25μ〜100μ）を0.5〜0.4f／分の速度、１〜
３Kg／cm2の加圧条件下でラミネートする。
尚、第２図ｂは第２図ａに於けるＸ，X′で示
す一点鎖線で示す位置での切断面に相当する切断
面図である。
す一点鎖線で示す位置での切断面に相当する切断
面図である。
このとき、ドライフイルムフオトレジスト３は
基板面１Ａに圧着して固定され、以後、多少の外
圧が加わつた場合にも基板面１Ａから剥離するこ
とはない。
基板面１Ａに圧着して固定され、以後、多少の外
圧が加わつた場合にも基板面１Ａから剥離するこ
とはない。
続いて、第３図に示す様に、基板面１Ａに設け
たドライフイルムフオトレジスト３上に所定のパ
ターン４Ｐを有するフオトマスク４を重ね合せた
後、このフオトマスク４の上部から光源７によつ
て露光（図中、矢印）を行う。このとき、上記パ
ターン４Ｐは、基板１上のエネルギー発生素子２
の領域を十分に覆うもので、このパターン４Ｐは
光を透過しない。従つて、パターン４Ｐで覆われ
ている領域のドライフイルムフオトレジスト３は
露光されない。又、このとき、エネルギー発生素
子２の設置位置と上記パターン４Ｐの位置合せを
周知の手法で行つておく必要がある。つまり、４
Ｐのパターンはインク供給室、インク流路に相当
し流路中に上記素子２が露出すべく配慮される。
たドライフイルムフオトレジスト３上に所定のパ
ターン４Ｐを有するフオトマスク４を重ね合せた
後、このフオトマスク４の上部から光源７によつ
て露光（図中、矢印）を行う。このとき、上記パ
ターン４Ｐは、基板１上のエネルギー発生素子２
の領域を十分に覆うもので、このパターン４Ｐは
光を透過しない。従つて、パターン４Ｐで覆われ
ている領域のドライフイルムフオトレジスト３は
露光されない。又、このとき、エネルギー発生素
子２の設置位置と上記パターン４Ｐの位置合せを
周知の手法で行つておく必要がある。つまり、４
Ｐのパターンはインク供給室、インク流路に相当
し流路中に上記素子２が露出すべく配慮される。
以上の如く露光を行うと、パターン４Ｐ領域外
のフオトレジスト３が重合反応を起して硬化し、
溶剤不溶性になる。他方、露光されなかつた図
中、破線で囲われているフオトレジスト３は硬化
せず、溶剤可溶性のまゝ残こる。
のフオトレジスト３が重合反応を起して硬化し、
溶剤不溶性になる。他方、露光されなかつた図
中、破線で囲われているフオトレジスト３は硬化
せず、溶剤可溶性のまゝ残こる。
露光操作を経た後、ドライフイルムフオトレジ
スト３を揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエ
タン中に浸漬して、未重合（未硬化）のフオトレ
ジストを溶解除去すると、基板１上には硬化フオ
トレジスト膜３Ｈがエネルギー発生素子２を除く
領域に形成される（第４図）。その後、基板１上
に残された硬化フオトレジスト膜３Ｈの耐溶剤性
を向上させる目的でこれを更に硬化させる。その
方法としては、熱重合（130℃〜160℃で10分〜60
分程度、加熱）させるか、紫外線照射を行うか、
これ等両者を併用するのが良い。
スト３を揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエ
タン中に浸漬して、未重合（未硬化）のフオトレ
ジストを溶解除去すると、基板１上には硬化フオ
トレジスト膜３Ｈがエネルギー発生素子２を除く
領域に形成される（第４図）。その後、基板１上
に残された硬化フオトレジスト膜３Ｈの耐溶剤性
を向上させる目的でこれを更に硬化させる。その
方法としては、熱重合（130℃〜160℃で10分〜60
分程度、加熱）させるか、紫外線照射を行うか、
これ等両者を併用するのが良い。
以上の工程を経て形成された中間品の外観を第
５図に斜視図で示す。
５図に斜視図で示す。
次に、第４図示の中間品の硬化フオトレジスト
膜３Ｈ面を清浄化すると共に乾燥さた後、この膜
３Ｈの表面に従前の工程と同様、80℃〜150℃程
度に加温されたドライフイルムフオトレジスト５
（膜厚、約25μ〜100μ）を0.5〜0.4f／分の速度、
0.1Kg／cm2以下の加圧条件下でラミネートする
（第５図）。この工程に於て、硬化レジスト膜3H
面にドライフイルムフオトレジスト５を更にラミ
ネートするとき注意すべきことは、上記工程で膜
３Ｈに形成されたエネルギー発生素子２のインク
流路溝にフオトレジスト５がたれ込まないように
することである。そのため、従前の工程で示した
ラミネート圧ではフオトレジスト５のたれ込みが
起るので、ラミネート圧0.1Kg／cm2以下に設定す
る。
膜３Ｈ面を清浄化すると共に乾燥さた後、この膜
３Ｈの表面に従前の工程と同様、80℃〜150℃程
度に加温されたドライフイルムフオトレジスト５
（膜厚、約25μ〜100μ）を0.5〜0.4f／分の速度、
0.1Kg／cm2以下の加圧条件下でラミネートする
（第５図）。この工程に於て、硬化レジスト膜3H
面にドライフイルムフオトレジスト５を更にラミ
ネートするとき注意すべきことは、上記工程で膜
３Ｈに形成されたエネルギー発生素子２のインク
流路溝にフオトレジスト５がたれ込まないように
することである。そのため、従前の工程で示した
ラミネート圧ではフオトレジスト５のたれ込みが
起るので、ラミネート圧0.1Kg／cm2以下に設定す
る。
又、別の方法としては、予め前記レジスト膜３
Ｈの厚さ分のクリアランスを設けて圧着する。こ
のとき、ドライフイルムフオトレジスト５は硬化
膜３Ｈ面に圧着して固定され、以後、多少の外圧
が加わつた場合にも剥離することはない。続い
て、第６図に示す様に、新たに設けたドライフイ
ルムフオトレジスト５上に所定のパターン６Ｐを
有するフオトマスク６を重ね合せた後、このフオ
トマスク６の上部から露光を行う。尚上記パター
ン６Ｐは、後に、吐出口を構成する領域に相当し
ており、このパターン６Ｐは光を透過しない。従
つて、パターン６Ｐで覆われている領域のドライ
フイルムフオトレジスト５は露光されない。又、
このとき、基板１上に設けられた不図示のインク
吐出圧発生素子の設置位置と上記パターン６Ｐの
位置合せを周知の手法で行つておく必要がある。
Ｈの厚さ分のクリアランスを設けて圧着する。こ
のとき、ドライフイルムフオトレジスト５は硬化
膜３Ｈ面に圧着して固定され、以後、多少の外圧
が加わつた場合にも剥離することはない。続い
て、第６図に示す様に、新たに設けたドライフイ
ルムフオトレジスト５上に所定のパターン６Ｐを
有するフオトマスク６を重ね合せた後、このフオ
トマスク６の上部から露光を行う。尚上記パター
ン６Ｐは、後に、吐出口を構成する領域に相当し
ており、このパターン６Ｐは光を透過しない。従
つて、パターン６Ｐで覆われている領域のドライ
フイルムフオトレジスト５は露光されない。又、
このとき、基板１上に設けられた不図示のインク
吐出圧発生素子の設置位置と上記パターン６Ｐの
位置合せを周知の手法で行つておく必要がある。
以上の如く、フオトレジスト５を露光するとパ
ターン６Ｐ領域外のフオトレジスト５が重合反応
を起して硬化し、溶剤不溶性になる。他方、露光
されなかつたフオトレジスト５は硬化せず、溶剤
可溶性のまゝ残こる。
ターン６Ｐ領域外のフオトレジスト５が重合反応
を起して硬化し、溶剤不溶性になる。他方、露光
されなかつたフオトレジスト５は硬化せず、溶剤
可溶性のまゝ残こる。
露光操作を経た後、ドライフイルムフオトレジ
スト５を揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエ
タン中に浸漬して、未重合（未硬化）のフオトレ
ジストを溶解除去すると、硬化フオトレジスト膜
５Ｈにはパターン６Ｐに従つて第７図ａ，ｂに示
す凹部が形成される。その後、先のレジスト膜３
Ｈ上に残された硬化フオトレジスト膜５Ｈの耐溶
剤性を向上せる目的でこれを更に硬化させる。そ
の方法としては、熱重合（130℃〜160℃で10分〜
60分程度、加熱）させるか、紫外線照射を行う
か、これ等両者を併用するのが良い。
スト５を揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエ
タン中に浸漬して、未重合（未硬化）のフオトレ
ジストを溶解除去すると、硬化フオトレジスト膜
５Ｈにはパターン６Ｐに従つて第７図ａ，ｂに示
す凹部が形成される。その後、先のレジスト膜３
Ｈ上に残された硬化フオトレジスト膜５Ｈの耐溶
剤性を向上せる目的でこれを更に硬化させる。そ
の方法としては、熱重合（130℃〜160℃で10分〜
60分程度、加熱）させるか、紫外線照射を行う
か、これ等両者を併用するのが良い。
この様にして硬化フオトレジスト膜５Ｈに形成
された孔は液吐出口７となる。そして液供給口８
に所定の液供給管を接続しヘツド製作工程は完了
する。
された孔は液吐出口７となる。そして液供給口８
に所定の液供給管を接続しヘツド製作工程は完了
する。
ここで、第７図ａ、第７図ｂでわかるように記
録ヘツド１は、途中において曲折されている流路
１０とその吐出口１１と飛翔的液滴を形成するた
めのエネルギーを該流路の曲折領域に作用させる
エネルギー発生体２との複数が、供給された液体
を保持する液体保持領域９，１２によつて、複数
流路１０の一方の端部の夫々が液体保持領域９に
連通し、これら流路１０の他方の端部が夫々液体
保持領域１２に連通している。また、複数流路１
０は第７図ｂに示されるように該曲折領域で互い
に壁面で隔絶されている。
録ヘツド１は、途中において曲折されている流路
１０とその吐出口１１と飛翔的液滴を形成するた
めのエネルギーを該流路の曲折領域に作用させる
エネルギー発生体２との複数が、供給された液体
を保持する液体保持領域９，１２によつて、複数
流路１０の一方の端部の夫々が液体保持領域９に
連通し、これら流路１０の他方の端部が夫々液体
保持領域１２に連通している。また、複数流路１
０は第７図ｂに示されるように該曲折領域で互い
に壁面で隔絶されている。
従つて、エネルギー発生体２に対して液体の供
給効率が向上でき、記録によつて消費される液体
を即座に確実に供給できる。しかもエネルギー発
生体の吐出エネルギーも壁面で互いに隔絶されて
いるので互いの干渉を防止した状態で、流路の曲
折領域から吐出口に向つての液体の吐出に効率よ
く使用できる。これらから、記録ヘツドの上記不
都合にも拘らず、長期的に安定した記録を達成で
き、上記目的の耐久性に富み、信頼性の高い液体
噴射記録ヘツドを提供できる。
給効率が向上でき、記録によつて消費される液体
を即座に確実に供給できる。しかもエネルギー発
生体の吐出エネルギーも壁面で互いに隔絶されて
いるので互いの干渉を防止した状態で、流路の曲
折領域から吐出口に向つての液体の吐出に効率よ
く使用できる。これらから、記録ヘツドの上記不
都合にも拘らず、長期的に安定した記録を達成で
き、上記目的の耐久性に富み、信頼性の高い液体
噴射記録ヘツドを提供できる。
以上に詳しく説明した本発明実施例の効果とし
ては次のとおり、種々、列挙することができる。
ては次のとおり、種々、列挙することができる。
１ ヘツド製作の主要工程が、所謂、印写技術に
因る為、所望のパターンでヘツド細密部の形成
が極めて簡単に行なえる。しかも、同構成のヘ
ツドを多数、同時加工することもできる。
因る為、所望のパターンでヘツド細密部の形成
が極めて簡単に行なえる。しかも、同構成のヘ
ツドを多数、同時加工することもできる。
２ 製作工程数が比較的少ないので、生産性が良
好である。
好である。
３ 主要構成部位の位置合せを容易にして確実に
為すことができ、寸法精度の高いヘツドが歩留
り良く得られる。
為すことができ、寸法精度の高いヘツドが歩留
り良く得られる。
４ 高密度マルチアレイインクジエツトヘツドが
簡略な方法で得られる。
簡略な方法で得られる。
５ 連続、且つ大量生産が可能である。
６ エツチング液（フツ化水素酸等の強酸類）を
使用する必要がないので、安全衛生の面でも優
れている。
使用する必要がないので、安全衛生の面でも優
れている。
７ 接着剤を使用する必要がないので、接着剤が
流動して溝が塞がれたり、液吐出エネルギー発
生素子に付着して、機能低下を引き起こすこと
がない。
流動して溝が塞がれたり、液吐出エネルギー発
生素子に付着して、機能低下を引き起こすこと
がない。
８ インクジエツトヘツドの細密な主要構成部位
の形成がフオトリソグラフイによつて行なわ
れ、又このフオトリソグラフイの実施は一般に
半導体産業で使用されるクリーンルームで行な
われるためインクジエツトヘツドの組立途中で
インク路内部にゴミが侵入することを最小限に
押えることが出来る。
の形成がフオトリソグラフイによつて行なわ
れ、又このフオトリソグラフイの実施は一般に
半導体産業で使用されるクリーンルームで行な
われるためインクジエツトヘツドの組立途中で
インク路内部にゴミが侵入することを最小限に
押えることが出来る。
本発明は、上述した様に、従来の液体噴射記録
ヘツドが複雑であり吐出エネルギーの低使用効率
であり、低い液体供給性であるために、目詰り等
により耐久性が低下し、信頼性が低いものである
のに対し、画期的な液体噴射記録ヘツドを提供す
るものである。即ち、本発明１発明によれば、複
数流路はそれぞれ第１，２の液体保持領域に対し
て連通すると共に複数流路、第１，２の液体保持
領域が同一の基板平面上に形成されているので、
液体の流動状態を同等化でき、互いの干渉を防止
した状態で夫々のエネルギー発生体に対して液体
の供給効率が向上でき、同時に吐出エネルギーも
吐出口に向つて効率よく使用できるため、記録に
よつて消費される液体を即座に確実に供給できて
記録画像を無駄なく高精度に記録出来るものであ
る。加えて、第２発明は、流路の壁面を感光性樹
脂を硬化させて形成したので、上記流路をより高
精度に形成でき、エネルギー損失を一層軽減でき
しかも液体の供給抵抗を一層軽減できるため第１
発明の効果を一層向上できるものである。
ヘツドが複雑であり吐出エネルギーの低使用効率
であり、低い液体供給性であるために、目詰り等
により耐久性が低下し、信頼性が低いものである
のに対し、画期的な液体噴射記録ヘツドを提供す
るものである。即ち、本発明１発明によれば、複
数流路はそれぞれ第１，２の液体保持領域に対し
て連通すると共に複数流路、第１，２の液体保持
領域が同一の基板平面上に形成されているので、
液体の流動状態を同等化でき、互いの干渉を防止
した状態で夫々のエネルギー発生体に対して液体
の供給効率が向上でき、同時に吐出エネルギーも
吐出口に向つて効率よく使用できるため、記録に
よつて消費される液体を即座に確実に供給できて
記録画像を無駄なく高精度に記録出来るものであ
る。加えて、第２発明は、流路の壁面を感光性樹
脂を硬化させて形成したので、上記流路をより高
精度に形成でき、エネルギー損失を一層軽減でき
しかも液体の供給抵抗を一層軽減できるため第１
発明の効果を一層向上できるものである。
なお、上記実施例の図面で示したように、複数
流路を互いに平行にし、この流路の中央付近にエ
ネルギー発生体を設けることで、流路の両側から
の液体供給性を一層同等にすることができ、上述
した効果をより安定したものにできる。
流路を互いに平行にし、この流路の中央付近にエ
ネルギー発生体を設けることで、流路の両側から
の液体供給性を一層同等にすることができ、上述
した効果をより安定したものにできる。
いずれにしても、本発明は、小型化を達成しつ
つ長期的に安定した記録を達成でき、耐久性に富
み、信頼性の高い液体噴射記録ヘツドを提供でき
る。
つ長期的に安定した記録を達成でき、耐久性に富
み、信頼性の高い液体噴射記録ヘツドを提供でき
る。
第１図乃至第７図ｂは、本発明の液体噴射記録
ヘツドの構成とその製作手順を説明する為の模式
図であつて、第１図は第１工程を説明する為の模
式的斜視図、第２図ａは第２工程を説明する為の
模式的斜視図、第２図ｂは第２図ａに示す一点鎖
線XX′での切断面部分図、第３図は第３工程を説
明する為の模式的斜視図、第４図は第４工程を説
明する為の模式的斜視図、第５図は第５工程を、
第６図は第６工程を各々説明する為の模式的斜視
図、第７図ａは作成完了したヘツドの構造を示す
模式的透視図、第７図ｂは、第７図ａに一点鎖線
YY′で示す位置で切断した場合の切断面図であ
る。 １……基板、２……エネルギー発生素子、３，
５……ドライフイルムフオトレジスト、３Ｈ，５
Ｈ……ドライフイルムフオトレジスト硬化膜、
４，６……ホトマスク。
ヘツドの構成とその製作手順を説明する為の模式
図であつて、第１図は第１工程を説明する為の模
式的斜視図、第２図ａは第２工程を説明する為の
模式的斜視図、第２図ｂは第２図ａに示す一点鎖
線XX′での切断面部分図、第３図は第３工程を説
明する為の模式的斜視図、第４図は第４工程を説
明する為の模式的斜視図、第５図は第５工程を、
第６図は第６工程を各々説明する為の模式的斜視
図、第７図ａは作成完了したヘツドの構造を示す
模式的透視図、第７図ｂは、第７図ａに一点鎖線
YY′で示す位置で切断した場合の切断面図であ
る。 １……基板、２……エネルギー発生素子、３，
５……ドライフイルムフオトレジスト、３Ｈ，５
Ｈ……ドライフイルムフオトレジスト硬化膜、
４，６……ホトマスク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 供給された液体を保持する第１、第２の液体
保持領域と、該第１液体保持領域に一方の端部が
連通し該第２の液体保持領域に他方の端部が連通
していると共に互いに壁面で隔絶されている流路
の複数と、該複数流路内それぞれに該壁面で隔絶
されて配置されているエネルギー発生体と、を同
一の基板平面上に有し、飛翔的液滴を吐出する吐
出口が該エネルギー発生体に対向していることを
特徴とする液体噴射記録ヘツド。 ２ 上記流路は上記壁面で互いに平行に形成され
ており、上記吐出口は上記流路の中央付近に位置
する上記エネルギー発生体に対向している特許請
求の範囲第１項に記載の液体噴射記録ヘツド。 ３ 供給された液体を保持する第１、第２の液体
保持領域と、該第１液体保持領域に一方の端部が
連通し該第２の液体保持領域に他方の端部が連通
していると共に互いに壁面で隔絶されている流路
の複数と、該複数流路内それぞれに該壁面で隔絶
されて配置されているエネルギー発生体と、を同
一の基板平面上に有し、飛翔的液滴を吐出する吐
出口が該エネルギー発生体に対向しており、該壁
面を感光性樹脂を硬化させて形成したことを特徴
とする液体噴射記録ヘツド。 ４ 上記流路は上記壁面で互いに平行に形成され
ており、上記吐出口は上記流路の中央付近に位置
する上記エネルギー発生体に対向している特許請
求の範囲第３項に記載の液体噴射記録ヘツド。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10741481A JPS588658A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 液体噴射記録ヘツド |
| US06/394,787 US4558333A (en) | 1981-07-09 | 1982-07-02 | Liquid jet recording head |
| GB08219601A GB2104453B (en) | 1981-07-09 | 1982-07-07 | Liquid jet recording head |
| DE3250115A DE3250115C2 (de) | 1981-07-09 | 1982-07-08 | Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopf |
| DE3250114A DE3250114C2 (de) | 1981-07-09 | 1982-07-08 | Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopf |
| DE3225578A DE3225578C2 (de) | 1981-07-09 | 1982-07-08 | Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopfs |
| HK321/91A HK32191A (en) | 1981-07-09 | 1991-04-25 | Liquid jet recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10741481A JPS588658A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 液体噴射記録ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS588658A JPS588658A (ja) | 1983-01-18 |
| JPH0326130B2 true JPH0326130B2 (ja) | 1991-04-09 |
Family
ID=14458537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10741481A Granted JPS588658A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 液体噴射記録ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS588658A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59179470U (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-30 | 株式会社 東日製作所 | モ−タの特性測定装置 |
| JP3143307B2 (ja) * | 1993-02-03 | 2001-03-07 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| JP3619036B2 (ja) | 1997-12-05 | 2005-02-09 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| JP4497633B2 (ja) | 1999-03-15 | 2010-07-07 | キヤノン株式会社 | 撥液体層の形成方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2008254304A (ja) | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド |
| JP5241214B2 (ja) | 2007-12-05 | 2013-07-17 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド、記録装置及び液体吐出方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5177036A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-03 | Casio Computer Co Ltd | Inkufunshasochi |
| JPS5644671A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-23 | Seiko Epson Corp | Ink-jet head |
| JPS5662161A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-27 | Seiko Epson Corp | Ink jet head |
| JPS56150561A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | Manufacture of fluid injection nozzle |
| JPS5743876A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Ink jet head |
| JPS5787956A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-01 | Fujitsu Ltd | Ink jet heat and manufacture thereof |
| JPS57105359A (en) * | 1980-12-24 | 1982-06-30 | Fujitsu Ltd | Ink jetting print head |
| JPS57120451A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ink-jet recording device |
-
1981
- 1981-07-09 JP JP10741481A patent/JPS588658A/ja active Granted
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5177036A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-03 | Casio Computer Co Ltd | Inkufunshasochi |
| JPS5644671A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-23 | Seiko Epson Corp | Ink-jet head |
| JPS5662161A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-27 | Seiko Epson Corp | Ink jet head |
| JPS56150561A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | Manufacture of fluid injection nozzle |
| JPS5743876A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Ink jet head |
| JPS5787956A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-01 | Fujitsu Ltd | Ink jet heat and manufacture thereof |
| JPS57105359A (en) * | 1980-12-24 | 1982-06-30 | Fujitsu Ltd | Ink jetting print head |
| JPS57120451A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ink-jet recording device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS588658A (ja) | 1983-01-18 |
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