JPS588658A - 液体噴射記録ヘツド - Google Patents
液体噴射記録ヘツドInfo
- Publication number
- JPS588658A JPS588658A JP10741481A JP10741481A JPS588658A JP S588658 A JPS588658 A JP S588658A JP 10741481 A JP10741481 A JP 10741481A JP 10741481 A JP10741481 A JP 10741481A JP S588658 A JPS588658 A JP S588658A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- photoresist
- pattern
- flow path
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 hydrofluoric acid) Chemical class 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、インクジェットヘッド(液体噴射記録ヘッド
)、詳しくは、所謂、インクジェット記録方式に用いる
記録用インク小滴を発生する為めインクジェットヘッド
に関する。
)、詳しくは、所謂、インクジェット記録方式に用いる
記録用インク小滴を発生する為めインクジェットヘッド
に関する。
インクジェット記録方式に適用されるインクジェットヘ
ッドは、一般に微細なインク液吐出口(オリフィス)、
インク液流路及びこのインク液流路の一部に設けられる
エネルギー作用部と、該作用部にある液体に作用させる
液滴形成エネルギーを発生するインク液吐出エネルギー
作用部を具えている。
ッドは、一般に微細なインク液吐出口(オリフィス)、
インク液流路及びこのインク液流路の一部に設けられる
エネルギー作用部と、該作用部にある液体に作用させる
液滴形成エネルギーを発生するインク液吐出エネルギー
作用部を具えている。
従来、この様なインクジェットヘッドを作成する方法と
して、例えば、ガラスや金属の板に切削やエツチング等
によシ、微細な溝を形成した後、この溝を形成した板を
他の板に吐出口を形成した板と接合して液流路の形成を
行なう方法が知られている。
して、例えば、ガラスや金属の板に切削やエツチング等
によシ、微細な溝を形成した後、この溝を形成した板を
他の板に吐出口を形成した板と接合して液流路の形成を
行なう方法が知られている。
しかし、斯かる従来法によって作成されるヘッドでは、
切削加工される液流路内壁面の荒れが大き過ぎたり、エ
ツチング率の差から液流路に歪が生じたりして、流路抵
抗の一定した液流路が得難く、製作後のインクジェット
ヘッドのインク吐出特性にバラツキが出易い。又、切削
加工の際に、板の欠けや割れが生じ易く、製造歩留りが
悪いと言う欠点もある。そして、エツチング加工を行な
う場合は、製造工程が多く、製造コストの上昇をまねく
と言う不利がある。
切削加工される液流路内壁面の荒れが大き過ぎたり、エ
ツチング率の差から液流路に歪が生じたりして、流路抵
抗の一定した液流路が得難く、製作後のインクジェット
ヘッドのインク吐出特性にバラツキが出易い。又、切削
加工の際に、板の欠けや割れが生じ易く、製造歩留りが
悪いと言う欠点もある。そして、エツチング加工を行な
う場合は、製造工程が多く、製造コストの上昇をまねく
と言う不利がある。
更に、上記した従来法に共通する欠点としては、液流路
となる溝を形成した溝付板と、インク液に作用するエネ
ルギーを発生するエネルギー発生体が設けられた蓋板と
の貼合せの際に夫々の位置合せが困難であって量産性に
欠ける点が挙げられる。従って、これ等の欠点が解決さ
れる構成を有するインクジェットヘッドの開発が熱望さ
れている。
となる溝を形成した溝付板と、インク液に作用するエネ
ルギーを発生するエネルギー発生体が設けられた蓋板と
の貼合せの際に夫々の位置合せが困難であって量産性に
欠ける点が挙げられる。従って、これ等の欠点が解決さ
れる構成を有するインクジェットヘッドの開発が熱望さ
れている。
これ等の点は、殊に液流路が直線的ではなく、設計の上
から曲折された部分を有するタイプのインクジェットヘ
ッドの場合には、一層深刻な問題として浮上されるもの
である。
から曲折された部分を有するタイプのインクジェットヘ
ッドの場合には、一層深刻な問題として浮上されるもの
である。
本発明は、上記欠点に鑑み成されたもので、精密であり
、しかも、耐久性があって信頼性の高いインクジェット
ヘッドを提供することを目的とする。
、しかも、耐久性があって信頼性の高いインクジェット
ヘッドを提供することを目的とする。
又、液流路が精度良く正確に且つ歩留シ良く微細加工さ
れた構成を有するインクジェットヘッドを提供すること
も本発明の目的である。更には簡略な手法によりマルチ
アレイ型式の細密なインク吐出ノズルを有するインクジ
ェットヘッドを提供することも本発明の他の目的である
。
れた構成を有するインクジェットヘッドを提供すること
も本発明の目的である。更には簡略な手法によりマルチ
アレイ型式の細密なインク吐出ノズルを有するインクジ
ェットヘッドを提供することも本発明の他の目的である
。
そして、以上の諸口的を達成する本発明のインクジェッ
トヘッドは液体の流れ乙方向の終端に、液体を吐出させ
て飛翔的液滴を形成する為の吐出口を有し、途中に於い
て曲折されている液流路と、該液流路の少なくとも一部
を構成し、その内部を満たす液体が液滴形成の為のエネ
ルギーの作用を受けるところであるエネルギー作用部と
、該作用部を満たす液体に伝達する為の液滴形成エネル
ギーを発生するエネルギー発生体とを有し、前記液流路
の壁面の主要部分を感光性樹脂を硬化させて形成した事
を特徴とする。
トヘッドは液体の流れ乙方向の終端に、液体を吐出させ
て飛翔的液滴を形成する為の吐出口を有し、途中に於い
て曲折されている液流路と、該液流路の少なくとも一部
を構成し、その内部を満たす液体が液滴形成の為のエネ
ルギーの作用を受けるところであるエネルギー作用部と
、該作用部を満たす液体に伝達する為の液滴形成エネル
ギーを発生するエネルギー発生体とを有し、前記液流路
の壁面の主要部分を感光性樹脂を硬化させて形成した事
を特徴とする。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細にヘッドの構
成とその製作手順を説明する為の模式図である。
成とその製作手順を説明する為の模式図である。
先ず、第1図に示す様に、ガラス、セラミックス、プラ
スチック或は金属等、適当な基板1上にピエゾ素子等の
飛翔的液滴形成の為のエネルギーを発生するエネルギー
発生素子(エネルギー発生体)2を所望の個数、配設す
る(図に於ては、2個)。前記エネルギー発生素子2が
近傍のインク液体に加圧することによシ、インク吐出圧
を発生させる。
スチック或は金属等、適当な基板1上にピエゾ素子等の
飛翔的液滴形成の為のエネルギーを発生するエネルギー
発生素子(エネルギー発生体)2を所望の個数、配設す
る(図に於ては、2個)。前記エネルギー発生素子2が
近傍のインク液体に加圧することによシ、インク吐出圧
を発生させる。
尚、これ等の素子2には図示されていない信号入力用電
極が接続しである。
極が接続しである。
次に、エネルギー発生素子2を設けた基板1表面を清浄
化すると共に乾燥させた後、素子2を設けた基板面1人
に、第2図に断面図で示す如く80℃〜150℃程度に
加温された感光性樹脂のフィルムであるドライフィルム
フォトレジスト3(膜厚、約25μ〜100μ)を0.
5〜0.4f/分の速度、1〜3t/cr/lの加圧条
件下でラミネートする。
化すると共に乾燥させた後、素子2を設けた基板面1人
に、第2図に断面図で示す如く80℃〜150℃程度に
加温された感光性樹脂のフィルムであるドライフィルム
フォトレジスト3(膜厚、約25μ〜100μ)を0.
5〜0.4f/分の速度、1〜3t/cr/lの加圧条
件下でラミネートする。
尚、第2図(b)は第2図(a)に於けるx、 x’で
示す一点鎖線で示す位置での切断面に相当する切断面図
である。
示す一点鎖線で示す位置での切断面に相当する切断面図
である。
このとき、ドライフィルムフォトレジスト3は基板面I
Aに圧着して固定され、以後、多少の外圧が加わった場
合にも基板面IAから剥離することはない。
Aに圧着して固定され、以後、多少の外圧が加わった場
合にも基板面IAから剥離することはない。
続いて、第3図に示す様に、基板面LAに設けたドライ
フィルムフォトレジスト3上に所定のパターン4Pを有
するフォトマスク4を重ね合せた後、このフォトマスク
4の上部から光源7によって露光(図中、矢印)を行う
。このとき、上記パターン4Pは、基板1上のエネルギ
ー発生素子2の領域を十分に覆うもので、このパターン
4Pは光を透過しない。従って、パターン4Pで覆われ
ている領域のドライフィルムフォトレジスト3は露光さ
れない。又、このとき、エネルギー発生素子2の設置位
置と上記パターン4Pの位置合せを周知の手法で行って
おく必要がある。つまり、4Pのパターンはインク供給
室、インク流路に相当し流路中に上記素子2が露出すべ
く配慮される。
フィルムフォトレジスト3上に所定のパターン4Pを有
するフォトマスク4を重ね合せた後、このフォトマスク
4の上部から光源7によって露光(図中、矢印)を行う
。このとき、上記パターン4Pは、基板1上のエネルギ
ー発生素子2の領域を十分に覆うもので、このパターン
4Pは光を透過しない。従って、パターン4Pで覆われ
ている領域のドライフィルムフォトレジスト3は露光さ
れない。又、このとき、エネルギー発生素子2の設置位
置と上記パターン4Pの位置合せを周知の手法で行って
おく必要がある。つまり、4Pのパターンはインク供給
室、インク流路に相当し流路中に上記素子2が露出すべ
く配慮される。
以上の如く露光を行うと、パターン4P領域外のフォト
レジスト3が重合反応を起して硬化し、溶剤不溶性にな
る。他方、露光されなかった図中、破線で囲われている
フォトレジスト3は硬化せず、溶剤可溶性のま\残こる
。
レジスト3が重合反応を起して硬化し、溶剤不溶性にな
る。他方、露光されなかった図中、破線で囲われている
フォトレジスト3は硬化せず、溶剤可溶性のま\残こる
。
露光操作を経た後、ドライフィルムフォトレジスト3を
揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエタン中に浸漬し
て、未重合(未硬化)のフォトレジストを溶解除去する
と、基板l上には硬化フォトレジスト膜3Hがエネルギ
ー発生素子2を除く領域に形成される(第4図)。その
後、基板1上に残された硬化フォトレジスト膜3Hの耐
溶剤性を向上させる目的でこれを更に硬化させる。その
方法としては、熱重合(130℃〜160℃で10分〜
60分程度、加熱)させるか、紫外線照射を行うか、こ
れ等両者を併用するのが良い。
揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエタン中に浸漬し
て、未重合(未硬化)のフォトレジストを溶解除去する
と、基板l上には硬化フォトレジスト膜3Hがエネルギ
ー発生素子2を除く領域に形成される(第4図)。その
後、基板1上に残された硬化フォトレジスト膜3Hの耐
溶剤性を向上させる目的でこれを更に硬化させる。その
方法としては、熱重合(130℃〜160℃で10分〜
60分程度、加熱)させるか、紫外線照射を行うか、こ
れ等両者を併用するのが良い。
以上の工程を経て形成された中間品の外観を第5図に斜
視図で示す。
視図で示す。
次に、第4図示の中間品の硬化フォトレジスト膜3H面
を清浄化すると共に乾燥させた後、この膜3Hの表面に
従前の工程と同様、80℃〜150℃程度に加温された
ドライフィルムフォトレジスト5(膜厚、約25μ〜1
00μ)を0.5〜0.4f/分の速度、0.1 Kg
/ C1d以下の加圧条件下でラミネートする(第5図
)。この工程に於て、硬化レジスト膜3 H面にドライ
フとき注意すべき、は、上記工程で膜3 Hに形成され
たエネルギー発王素子2のインク流路溝にフォトレジス
ト5がたれ込まないようにすることである。そのだめ、
従前の工程で示したラミネート圧ではフォトレジスト5
のたれ込みが起るので、ラミネート圧0.1 Kg /
crd以下に設定する。
を清浄化すると共に乾燥させた後、この膜3Hの表面に
従前の工程と同様、80℃〜150℃程度に加温された
ドライフィルムフォトレジスト5(膜厚、約25μ〜1
00μ)を0.5〜0.4f/分の速度、0.1 Kg
/ C1d以下の加圧条件下でラミネートする(第5図
)。この工程に於て、硬化レジスト膜3 H面にドライ
フとき注意すべき、は、上記工程で膜3 Hに形成され
たエネルギー発王素子2のインク流路溝にフォトレジス
ト5がたれ込まないようにすることである。そのだめ、
従前の工程で示したラミネート圧ではフォトレジスト5
のたれ込みが起るので、ラミネート圧0.1 Kg /
crd以下に設定する。
又、別の方法としては、予め前記レジスト膜3Hの厚さ
分のクリアランスを設けて圧着する。
分のクリアランスを設けて圧着する。
このとき、ドライフィルムフォトレジスト5は硬化jl
aH面に圧着して固定され、以後、多少の外圧が加わっ
た場合にも剥離することはない。
aH面に圧着して固定され、以後、多少の外圧が加わっ
た場合にも剥離することはない。
続いて、第6図に示す様に、新たに設けたドライフィル
ムフォトレジスト5上に所定のパターン6Pを有するフ
ォトマスク6を重ね合せた後、このフォトマスク6の上
部から露光を行う。尚上記パターン6Pは、後に、吐出
口を構成する領域に相当しており、このパターン6Pは
光を透過しない。従って、パターン6Pで覆われている
領域のト4ライフィルムフォトレジスト5は露光されな
い。又、このとき、基板1上に設けられた不図示のイン
ク吐出圧発生素子の設置位置と上記パターン6Pの位置
合せを周知の手法で行っておく必要がある。
ムフォトレジスト5上に所定のパターン6Pを有するフ
ォトマスク6を重ね合せた後、このフォトマスク6の上
部から露光を行う。尚上記パターン6Pは、後に、吐出
口を構成する領域に相当しており、このパターン6Pは
光を透過しない。従って、パターン6Pで覆われている
領域のト4ライフィルムフォトレジスト5は露光されな
い。又、このとき、基板1上に設けられた不図示のイン
ク吐出圧発生素子の設置位置と上記パターン6Pの位置
合せを周知の手法で行っておく必要がある。
以上の如く、フォトレジスト5を露光するとパターン6
P領域外のフォトレジスト5が重合反応を起して硬化し
、溶剤不溶性になる。他方、露光されなかったフォトレ
ジスト5は硬化せず、溶剤可溶性のま\残こる。
P領域外のフォトレジスト5が重合反応を起して硬化し
、溶剤不溶性になる。他方、露光されなかったフォトレ
ジスト5は硬化せず、溶剤可溶性のま\残こる。
露光操作を経た後、ドライフィルムフォトレジスト5を
揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエタン中に浸漬し
て、未重合(未硬化)のフに示す凹部が形成される。そ
の後、先のレジスト膜3H上に残された硬化フォトレジ
スト膜5Hの耐溶剤性を向上させる1」的でとれを更に
硬化させる。その方法としては、熱重合(130℃〜1
60℃で10分〜60分程度、加熱)させるか、紫外線
照射を行うか、とれ等両者を併用するのが食込。
揮発性有機溶剤、例えば、トリクロルエタン中に浸漬し
て、未重合(未硬化)のフに示す凹部が形成される。そ
の後、先のレジスト膜3H上に残された硬化フォトレジ
スト膜5Hの耐溶剤性を向上させる1」的でとれを更に
硬化させる。その方法としては、熱重合(130℃〜1
60℃で10分〜60分程度、加熱)させるか、紫外線
照射を行うか、とれ等両者を併用するのが食込。
この様にして硬化フォトレジスト膜5Hに形成された孔
は液吐出ロアとなる。そして液供給口8に所定の液供給
管を接続しヘッド製作工程は完了する。
は液吐出ロアとなる。そして液供給口8に所定の液供給
管を接続しヘッド製作工程は完了する。
以上に詳しく説明した本発明の効果としてはに因る為、
所望のパターンでヘッド細密部の形成が極めて簡単に行
なえる。しかも、同構成のヘッドを多数、同時加工する
こともできる。
所望のパターンでヘッド細密部の形成が極めて簡単に行
なえる。しかも、同構成のヘッドを多数、同時加工する
こともできる。
2、製作工程数が比較的少ないので、生産性が良好であ
る。
る。
3 主要構成部位の位置合せを容易にして確実に為すこ
とができ、寸法精度の高いヘッドが歩留り良く得られる
。
とができ、寸法精度の高いヘッドが歩留り良く得られる
。
4、高密度マルチアレイインクジェットヘッドが筒路外
方法で得られる。
方法で得られる。
5、 連続、且つ大量生産が可能である。
6 エツチング液(フッ化水素酸等の強酸類)を使用す
る必要がないので、安全衛生の面でも優れている。
る必要がないので、安全衛生の面でも優れている。
7、接着剤を使用する必要がないので、接着剤が流動し
て溝が塞がれたり、液吐出エネルギー発生素子に付着し
て、機能低下を引き起こすことがない。
て溝が塞がれたり、液吐出エネルギー発生素子に付着し
て、機能低下を引き起こすことがない。
8、 インクジェットヘッドの細密な主要構成部ソ
位の形成がフォトリングラフィによって行なわれ、又こ
のフォトリングラフィの実施は一般に半導体産業で使用
されるクリーンルームで行なわれるためインクジェット
ヘッドの組1 立途中でインク路内部にゴミが侵入することを最小限に
押えるととが出来る。
のフォトリングラフィの実施は一般に半導体産業で使用
されるクリーンルームで行なわれるためインクジェット
ヘッドの組1 立途中でインク路内部にゴミが侵入することを最小限に
押えるととが出来る。
第1図乃至第7図(b)は、本発明の液体噴射記録ヘッ
ドの構成とその製作手順を説明する為の模式図であって
、第1図は第1工程を説明する為の模式的斜視図、第2
図(a)は第2工程を説明する為の模式的斜視図、第2
図(h)は第2図(a)に示す一点鎖線XX′での切断
面部分図、第3図は第3工程を説明する為の模式的斜視
図、第4図は第4工程を説明する為の模式的斜視図、第
5図は第5工程を、第6図は第6エ程を各々説明する為
の模式的斜視図、第7図(a)は作成完了したヘッドの
構造を示す模式的透視図、第7図(b)は、第7図(a
)に一点鎖線Y Y’で示す位置で切断した場合の切断
面図である。 1・・・基板、2・・・エネルギー発生素子、3,5ス
ク 2 弔50
ドの構成とその製作手順を説明する為の模式図であって
、第1図は第1工程を説明する為の模式的斜視図、第2
図(a)は第2工程を説明する為の模式的斜視図、第2
図(h)は第2図(a)に示す一点鎖線XX′での切断
面部分図、第3図は第3工程を説明する為の模式的斜視
図、第4図は第4工程を説明する為の模式的斜視図、第
5図は第5工程を、第6図は第6エ程を各々説明する為
の模式的斜視図、第7図(a)は作成完了したヘッドの
構造を示す模式的透視図、第7図(b)は、第7図(a
)に一点鎖線Y Y’で示す位置で切断した場合の切断
面図である。 1・・・基板、2・・・エネルギー発生素子、3,5ス
ク 2 弔50
Claims (1)
- 液体の流れる方向の終端に、液体を吐出させて飛翔的液
滴を形成する為の吐出口を有し、途中に於いて曲折され
ている液流路と、該液流路の少なくとも一部を構成し、
その内部を満たす液体が液滴形成の為のエネルギーの作
用を受けるところであるエネルギー作用部と、該作用部
を満たす液体に伝達する為の液滴形成エネルギーを発生
するエネルギー発生体とを有し、前記液流路の壁面の主
要部分を感光性樹脂を硬化させて形成した事を特徴とす
る液体噴射記録ヘッド。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10741481A JPS588658A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 液体噴射記録ヘツド |
US06/394,787 US4558333A (en) | 1981-07-09 | 1982-07-02 | Liquid jet recording head |
GB08219601A GB2104453B (en) | 1981-07-09 | 1982-07-07 | Liquid jet recording head |
DE3225578A DE3225578C2 (de) | 1981-07-09 | 1982-07-08 | Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopfs |
DE3250114A DE3250114C2 (de) | 1981-07-09 | 1982-07-08 | Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopf |
DE3250115A DE3250115C2 (de) | 1981-07-09 | 1982-07-08 | Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopf |
HK321/91A HK32191A (en) | 1981-07-09 | 1991-04-25 | Liquid jet recording head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10741481A JPS588658A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 液体噴射記録ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS588658A true JPS588658A (ja) | 1983-01-18 |
JPH0326130B2 JPH0326130B2 (ja) | 1991-04-09 |
Family
ID=14458537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10741481A Granted JPS588658A (ja) | 1981-07-09 | 1981-07-09 | 液体噴射記録ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS588658A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59179470U (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-30 | 株式会社 東日製作所 | モ−タの特性測定装置 |
US5478606A (en) * | 1993-02-03 | 1995-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
EP0922582A2 (en) | 1997-12-05 | 1999-06-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording heads |
US6895668B2 (en) | 1999-03-15 | 2005-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing an ink jet recording head |
US8033651B2 (en) | 2007-12-05 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and printing apparatus |
US8454131B2 (en) | 2007-04-04 | 2013-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet print head |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5177036A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-03 | Casio Computer Co Ltd | Inkufunshasochi |
JPS5644671A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-23 | Seiko Epson Corp | Ink-jet head |
JPS5662161A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-27 | Seiko Epson Corp | Ink jet head |
JPS56150561A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | Manufacture of fluid injection nozzle |
JPS5743876A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Ink jet head |
JPS5787956A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-01 | Fujitsu Ltd | Ink jet heat and manufacture thereof |
JPS57105359A (en) * | 1980-12-24 | 1982-06-30 | Fujitsu Ltd | Ink jetting print head |
JPS57120451A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ink-jet recording device |
-
1981
- 1981-07-09 JP JP10741481A patent/JPS588658A/ja active Granted
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5177036A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-03 | Casio Computer Co Ltd | Inkufunshasochi |
JPS5644671A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-23 | Seiko Epson Corp | Ink-jet head |
JPS5662161A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-27 | Seiko Epson Corp | Ink jet head |
JPS56150561A (en) * | 1980-04-25 | 1981-11-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | Manufacture of fluid injection nozzle |
JPS5743876A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Ink jet head |
JPS5787956A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-01 | Fujitsu Ltd | Ink jet heat and manufacture thereof |
JPS57105359A (en) * | 1980-12-24 | 1982-06-30 | Fujitsu Ltd | Ink jetting print head |
JPS57120451A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ink-jet recording device |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59179470U (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-30 | 株式会社 東日製作所 | モ−タの特性測定装置 |
US5478606A (en) * | 1993-02-03 | 1995-12-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
EP0922582A2 (en) | 1997-12-05 | 1999-06-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording heads |
US6331259B1 (en) | 1997-12-05 | 2001-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording heads |
US6895668B2 (en) | 1999-03-15 | 2005-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing an ink jet recording head |
US8454131B2 (en) | 2007-04-04 | 2013-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet print head |
US8033651B2 (en) | 2007-12-05 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and printing apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0326130B2 (ja) | 1991-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4558333A (en) | Liquid jet recording head | |
US4417251A (en) | Ink jet head | |
JPS58220754A (ja) | インクジエツト記録ヘツド | |
JPH0551458B2 (ja) | ||
JPS58220756A (ja) | インクジエツト記録ヘツドの製造方法 | |
JPS5919168A (ja) | インクジエツト記録ヘツド | |
JPH0310509B2 (ja) | ||
JPS60183156A (ja) | インクジエツト記録ヘツド | |
JPH0435345B2 (ja) | ||
US4570167A (en) | Ink jet recording head | |
JPS58224760A (ja) | インクジエツト記録ヘツド | |
JPS588658A (ja) | 液体噴射記録ヘツド | |
JPH0649373B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JPH0459144B2 (ja) | ||
JPH0422700B2 (ja) | ||
JPS60190363A (ja) | インクジエツト記録ヘツドの製造方法 | |
JPS588660A (ja) | 液体噴射記録ヘツド | |
JPH0224220B2 (ja) | ||
JPS5811172A (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
JPH0225335B2 (ja) | ||
JPS6344067B2 (ja) | ||
JPH0520274B2 (ja) | ||
JP3120341B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
JPH0327384B2 (ja) | ||
JPH0242668B2 (ja) |