JPH03255680A - エキシマレーザ発振装置 - Google Patents

エキシマレーザ発振装置

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Publication number
JPH03255680A
JPH03255680A JP5408290A JP5408290A JPH03255680A JP H03255680 A JPH03255680 A JP H03255680A JP 5408290 A JP5408290 A JP 5408290A JP 5408290 A JP5408290 A JP 5408290A JP H03255680 A JPH03255680 A JP H03255680A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
flow path
dust filter
fan
oscillation device
Prior art date
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Pending
Application number
JP5408290A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoichiro Nakamura
中村 正一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP5408290A priority Critical patent/JPH03255680A/ja
Publication of JPH03255680A publication Critical patent/JPH03255680A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は放電励起エキシマレーザ発振装置に関し、特に
放電により生ず″るダストを除去する手段に関する。
〔従来の技術〕
従来、放電励起のエキシマレーザ発振装置はレーザ媒質
として主に希ガスとハロゲンガスの混合ガスを用い、こ
のレーザガスの励起エネルギを2本の対向した金属性の
電極間の放電により得ていた。またこの放電を繰返し行
うため、レーザガスを循環するためのファンを有し、フ
ァンによって作られたガスの流れをスムーズに放電空間
に導くための構造を有していた。
〔発明が解決しようとした課題〕
上述した従来のエキシマレーザ発振装置はレーザガスの
励起に放電を用いるため電極のスパッタリングによりダ
ストが生じ、このダストがレーザガス中のハロゲンと反
応して不純物が発生する。
このためハロゲンガス濃度の低下や光の減衰、ガス容器
に取りつけたミラーまたはウィンドウ等のレーザオブテ
ィクスの汚染、などの原因となりレーザ発振出力が低下
するという欠点がある。
これに対し、エキシマレーザ発振装置に外付けするタイ
プの市販の「ガス再生器」と呼ばれる装置がある。これ
により各種のダストや不純物を吸着しレーザガスを浄化
することが可能であるが、この種の装置な性能は優れる
が高価で取扱いがめんどうであり、すべてのエキシマレ
ーザ発振装置に付けられてはいないのが現状である。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のエキシマレーザ発振装置は、ガス容器内にガス
を循環するためのファンと、主放電空間にガスを導くた
めの流路と放電により発生するダストを吸着するための
ダストフィルタとダストフィルタにガスを導くための流
路とを有している。
本発明は装置内部にダストフィルタを有しているのでレ
ーザのガス容器内のガスをダストフィルタに導くために
新たなファンやポンプ等を必要とせず、主放電空間を流
れるガス流の大きな防げとならないで、ダストを吸着す
ることができるという特徴を有する。
〔実施例1〕 次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の実施例1の横断面図であり発明に関係
する部分のみを模式的に表わしたものである。レーザガ
スを封入したガス容器1内のガスを循環するためのファ
ン2により吹出されたガスな主流路3を通り2本の対向
した主電極4間の放電空間を高速で流れ、熱交換器5で
冷やされて再びファン2に吸い込まれる。一方、ファン
2により循環されるガスの一部を主流路3のわきに設け
た側流路6に流しダストフィルタ7を通して再び主流路
3に戻す。ここで側流路6の開口の数、大きさ1位置を
適当に選べば、主流路3を流れるガスの風速を大きく損
なうことなくダストフィルタ7にガスを流すことができ
る。
また、側流路6の開口位置を主流路3の下側に設けるこ
とにより、重いダストを効率よくダストフィルタ7へ導
くことができる。
〔実施例2〕 第2図は本発明の実施例2の横断面の模式図、第3図は
縦断面の模式図である。主流路3に関する部分は実施例
1に同じである。側流路6を流れるガスはガス容器1と
は別に設けたダストフィルタ容器8ヘパイブを通して導
びかれる。ダストフィルタ容器8の入口と出口には各々
気密バルブ9が設けられる。ダストフィルタ容器8内の
ダストフィルタを通過したガスは再びガス容器1に流れ
込む。この実施例ではダストフィルタ容器8が気密バル
ブ9を継てガス容器7とつながっているため、ダストフ
ィルタの取りはずし、交換が容易であるという利点があ
る。
また、ダストフィルタを通過した後のきれいなガスをレ
ーザオアティクス10周辺に流し込むことによりレーザ
オブティクス10にダストが付着することをおさえるこ
とができるという利点がある。
さらに、ガス容器内のレーザガス交換時に行われるガス
排気の際の排気口1を側流路6に設けることによりガス
排気の際のガスの流れにより一部ダストフィルタに付着
されたダストが離れた場合でも、主流路3に散乱するの
を防ぐことができるという利点を有する。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、ガス容器内に2つ以上の
流路を設け、少なくとも1つが放電空間を含み、これと
は別の流路にダストフィルタを設けることにより、新た
なファンやポンプを設けることなく簡便にダストを取り
除くことができ、レーザ発振出力の低下をおさえる効果
がある。
また、ダストフィルタを含む流路を放電空間を含む流路
の下側に設けることにより、ガスより重いダストを効率
よくダストフィルタに導け、またさらにダストフィルタ
を別の容器に入れて流路の一部をパイプで構成し気密バ
ルブを設けることによりダストフィルタの交換が容易に
行える。さらに、ダストフィルタ通過後のきれいなガス
をレーザオプティクス周辺に流すことにより、レーザオ
ブティクスの汚染を低減できる。またレーザガスの排気
口をダストフィルタを含む流路内に設けることにより、
ガスの排気の際にダストフィルタに吸着されたダストが
再び放電空間を含む流路に散乱するのを防ぐことができ
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1の横断面の模式図、第2図、
第3図は本発明の実施例2の横断面と縦断面の模式図で
ある。 1・・・ガス容器、2・・・ファン、3・・・主流路、
4・・・主電極、5・・・熱交換器、6・・・側流路、
7・・ダストフィルタ、8・・・ダストフィルタ容器、
9・・・気密バルブ、10・・・レーザオブティクス、
11・・・ガス排気口。 尚、図中の和(白い矢印)はガスの流れを模式%式%

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)レーザガスを封入したガス容器内に、2本の対向し
    て置かれた主電極と、前記主電極間の放電空間にレーザ
    ガスを高速で流すためのファンとを有する放電励起タイ
    プのエキシマレーザ発振装置において、前記ファンによ
    り流れるガスの流路を2つ以上有し、少なくとも1つの
    流路内に放電空間が含まれ、これとは別の流路内にダス
    トフィルタを有することを特徴としたエキシマレーザ発
    振装置。 2)前記ダストフィルタを有する流路の入口の少なくと
    も1つが前記放電空間を有する流路より下側に位置する
    ことを特徴とした特許請求の範囲第1項記載のエキシマ
    レーザ発振装置。 3)前記ダストフィルタを通過した後のガスが前記レー
    ザ容器に付けられたレーザオプティクス周辺を流れるよ
    うに流路を設けることを特徴とした特許請求の範囲第1
    項記載のエキシマレーザ発振装置。 4)前記ダストフィルタが前記レーザ容器外の別の容器
    内にあり2つの容器の間を接続するために少なくとも2
    本以上のガスパイプを有し各ガスパイプに気密可能なバ
    ルブを有することを特徴とした特許請求の範囲第1項記
    載のエキシマレーザ発振装置。 5)レーザガスの交換のためのレーザガス排気口が、前
    記ダストフィルタを有する流路内にあることを特徴とし
    た特許請求の範囲第1項記載のエキシマレーザ発振装置
JP5408290A 1990-03-05 1990-03-05 エキシマレーザ発振装置 Pending JPH03255680A (ja)

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JPH03255680A true JPH03255680A (ja) 1991-11-14

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JP5408290A Pending JPH03255680A (ja) 1990-03-05 1990-03-05 エキシマレーザ発振装置

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JP (1) JPH03255680A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1039592A1 (fr) * 1999-03-23 2000-09-27 Cinema Magnetique Communication ( C.M.C.) Procédé et dispositif pour l'excitation d'une décharge électrique à fréquence élevée dans un laser au gaz
JP2007531312A (ja) * 2004-03-31 2007-11-01 サイマー インコーポレイテッド ガス放電レーザチャンバの改善

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1039592A1 (fr) * 1999-03-23 2000-09-27 Cinema Magnetique Communication ( C.M.C.) Procédé et dispositif pour l'excitation d'une décharge électrique à fréquence élevée dans un laser au gaz
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