JPH03252599A - 非帯電性ｘ線撮影用増感紙 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＸ線撮影用増感紙に関し、詳しくは帯電防止を
施した非帯電性医療Ｘ線撮影用増感紙に関する。

〔発明の背景〕

医療用Ｘ線写真の撮影に於ては、被写体を通過したＸ線
の波長を、ハロゲン化銀感光材料の感光波長域に変換す
るため、−旦該Ｘ線を蛍光体スクリーンに吸収せしめＸ
線刺戟によって発生する前記感光波長域の蛍光の強弱に
従って感光させ、現像処理ＩこよフてＸ線画像が作成さ
れる。

前記蛍光体スクリーンは用途によって、直接撮影用増感
スクリーン（ｉｎｔｅｎｓｉｆｙｉｎｇ　５ｃｒｅｅｎ
、　−般に増感紙と呼ばれる）及び間接撮影用蛍光スク
リーン（ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ　５ｃｒｅｅｎ、一般
に蛍光板と呼ばれる）があり、Ｘ線によって蛍光を発す
る蛍光体を、Ｘ線撮影に支障のない支持体上に塗設し、
一般には更に形成された蛍光体層を保護層で被覆ｌまた
ものである。

増感紙は撮影に使用するＸレイフィルムがフィルム支持
体の表裏に夫々感光層が塗設されているので夫々の感光
層に増感紙を宛かい受光効率を上げており、蛍光板に於
てはＸ線遮断のためにカメラ側に鉛入りガラスを設けて
いる。

前記増感紙及び蛍光板は共に、Ｘ線が人体等の被写体を
通過し強弱のパターンを有する画像Ｘ線束となり、該画
像Ｘ線束が蛍光体層に吸収された°核層の蛍光体粒子を
刺激して蛍光を生じて画像蛍光束となり、該画像蛍光束
にＸレイフィルムが感光し、固定画像を形成する仲介を
するものである。

該増感紙等に要求される特性としては、効率のよい画像
変換を行うための感度、残光の長短等の発光特性及び耐
用性がある。

更に増感紙に必要な特性として非帯電性がある。

ハロゲン化銀写真感光材料（以後単にフィルムと称す）
、特にＸ線用等の高感度フィルムは、摩擦或は剥離によ
って生ずる帯電電荷の放電刺戟に甚だ弱く、所謂スタチ
ックマークの発生によって画像が損傷されるので、従来
からフィルムの帯電防止には大きな努力が払われて来た
。しかしながら未だ満足すべき水準には達していない。

また医療用Ｘ線撮影では人体を通り抜けたＸ線を増感紙
で光Ｉこ変換し、フィルム上に焼き付けるために、Ｘ線
フィルムを増感紙にいかに密着させるかがその画質の良
しあしを左右する。そのため、モノカッセテの撮影はも
ちろんＸ４ＩＴＶや胸部チェンジャにおいてもその密着
性について充分留意されている。しかし、密着を良くす
ると、反面カッセテなどからフィルムを取り除く時に、
静電気が発生憚ることがある。特に、この現象は、日本
の場合、冬季に多く発生する。このようにフィルムを増
感紙から剥離するときに発生する静電気は感光性を有す
るフィルムをかぶらせてしまい、所謂、スタチックマー
クを発生させ、診断上大きな問題となることがある。

前記剥離帯電のみならず、増感紙をフィルムに密着する
までの増感紙操作においても撮影機器との間に摩擦帯電
が起り、この帯電に基因してフィルムにスタチックマー
クを与える。

従ってフィルム自体の不充分な非帯電性に加えて増感紙
からの帯電故障が累加されることとなり、増感紙自体の
非帯電性化が希まれる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、医療用Ｘ線撮影システムにおいて、帯
電防止性能のよい非帯電性増感紙の提供にある。

〔発明の構成及び作用効果〕

前記本発明の目的は、支持体上に保護層で被覆された蛍
光体層を設けたＸ線撮影用増感紙に、下記一般式ＣＩ）
で表される化合物を少くとも１種含有することを特徴と
するＸ線撮影用増感紙によって達成される。

一般式［１） 式中、Ｘは、エチレン性不飽和基を少くとも２個含有す
る共重合可能な七／マーを共重合した七ツマー単位を表
す。

Ｙは、共重合可能なエチレン性不飽和七ツマ−を九重合
したモノマー単位を表す。

Ｒ１は、水素原子又は１〜６個の炭素原子を有する低級
アルキル基を表す。

Ｑは、二価の連結基を表す。

Ｚは、Ｎとともに、含窒素複素環を形成するのに必要な
原子群を表し、この含窒素複素環は、Ｑに結合した四級
窒素原子Ｎ以外に更に少くとも１つの四級窒素原子を含
む。

Ｈｚは、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、も
しくは、７〜２０個の炭素原子を有するアラルキル基を
表し、Ｒ２はＮとＺによって形成される複素環とともに
、更に環状構造を形成してもよい。

（Ａ）”は、合計ｐ価の陰イオンを表しｐ≧２である。

ａは、０．２５〜８０モル％であり、ｍは０〜９０モル
％であり、ｎは１０〜９９モル％である。

次に本発明の詳細な説明する。

前記一般式（１）において、Ｘは ３ 署 （Ｃ）１２−Ｃ尤Ｔ で示される七ツマ−から銹導される七ツマー単位で、ｋ
≧ｌであり、好ましくは２又は３である。

Ｒ３は水素原子又はメチル基である。Ｔは連結基であっ
て、スルホンアミド等のアミド基、スルホン酸エステル
等のエステル基、メチレン、エチレン、トリエチレン等
のアルキレン基、フェニレン。

フェニレンオキシカルボニル等のアリーレン基、又はこ
れらの組合せからなる。

上記の共重合可能なモノマーの例は、ジビニルベンゼン
、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレング
リコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ
メタクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレ
ート又はテトラメチレングリコールジメタクリレート等
であり、このうち、ジビニルベンゼン、エチレングリコ
ールジメタクリレートが特に好ましい。

Ｙのエチレン性不飽和七ツマ−の例は、エチ【７ン、プ
ロピレン、１−ブテン、イソブチン、スチレン、ａ−メ
チルスチレン、ビニルトルエン、脂肪族酸のモノエチレ
ン性不飽和エステル（例えば酢酸ヒニル、酢酸アリル）
、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカルボ
ン酸のエステル（例えばメチルメタクリレート、エチル
アクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、ヘキシルメタクリレート、オクチルアクリレート
、ベンジルアクリレート、シクロへキシルメタクリレー
ト、２−エチルへキシルアクリレート）、モノエチレン
性不飽和化合物（例えばアクリロニトリル）、ジエン類
（例えばブタジェン、イソブレ／）等でありこのうちス
チレン、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート
、ブチルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレー
トなどが特に好ましい。Ｙは上記の七ツマー単位を二種
以上含んでいてもよい。

Ｒ１は水素原子或は炭素数１〜６個の低級アルキル基（
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ア
ミル基、ヘキシル基）を表し１、このうち、水素原子或
はメチル基が特に好ましい。

Ｑは、二価の連結基を表し、例えば、炭素数ｌ〜１２の
２価のアルキレン基、置換アルキレン基（例１１３ えばメチレン基、エチレン基、±ＣＨｚ’）ｚｃ　　Ｃ
Ｈ２−−ｅＣ８１５ａ等で示される基）、フェニレン基
、又は炭素数７〜２０のアラルキレン基、置換アラルキ
レン（Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、置換アルキル
基、Ｌは一〇）１．０−　−ＣＨ，Ｎ（Ｒ″）−−ｅｌ
１２０Ｃ１ ０ １ ＣＮ（Ｒ’）−（Ｒ６は、水素原子又はアルキル基）、
Ｍは炭素数１〜１２のアルキレン、置換アルキレン基を
表す）を表す他に、下記の式で示される基などを表す。

− ここでＷは、炭素数１〜１２のアルキレン基、Ｃ換アル
キレン基、又は炭素数７〜２０のアラルキしン基、置換
アラルキレン基を表しＲ６は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。

Ｚは、Ｎとともに含窒素複素環を形成するのに必要な原
子群を表し、この含窒素複素環はＱに結合した第四級窒
素原子以外に更に少くとも１つの第四級窒素原子を含む
。

Ｚが形成する含窒素複素環は、好ましくは下記の一般式
（ＩＩ）又は（［１）で表される構造を有する。

一般式（Ｉｔ）　　　　　　一般式〔ＩＩＩ）Ｒｓ　　
Ｒ＠　　ＲＩｌｌ、　Ｒ１１は、炭素数１−８のアルキ
ル基、置換アルキル基、アルコキシ基、炭素数６〜１２
のアリール基、水酸基、カルボキシル基、又（ま水素原
子を表す。

Ｒ２Ｒ７Ｒ１２は、炭素数１〜２０のアルキル基、置換
アルキル基、もしくは、炭素数７〜２０のアラルキル基
、置換アラルキル基を表し、Ｒ２は、Ｒ′と一緒になっ
て、更に環状構造を形成してもよい。

アルキル基としては無置換アルキル基、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基
、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ド
デシル基、など；アルキル基の炭素原子は好ましくは１
−１０個である。

置換アルキル基としては、例えばアルコキシアルキル基
（例えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキ
シブチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、
エトキシブチル基、ブトキシエチル基、ブトキシプロピ
ル基、ブトキシブチル基、ビニロキシエチル基）、シア
ノアルキル基（例えば、２−シアノエチル基、３−シア
ノプロピル基、４−シアノブチル基）、ノ１０ゲン化ア
ルキル基（例えば２−フルオルエチル基、２−クロルエ
チル基、３−フルオルエチル基）、アルコキシカルボニ
ルアルキル基（例えばエトキシカルボニルメチル基など
）、アリル基、２−ブテニル基、プロパギル基などがあ
る。

アラルキル基としては、無置換アラルキル基、例えばベ
ンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、ナフチ
ルメチル基など；置換アラルキル基例えば（アルキルア
ラルキル基、例えば４−メチルベンジル基、２．５−ジ
メチルベンジル基、４−イソグロビルベンジル基、アル
コキシアラルキル基、例えば４−メトキシベンジル基、
４−エトキンベンジル基、−４−（４−メトキシフェニ
ル）ベンジル基、シアノアラルキル基、例えば４−シア
ノベンジル基、４（４−シアノフェニル）ベンジル基、
バーフルオルアルコキシアラルキル基、例えば４−ペン
タフルオルプロポキシベンジル基、４−ウンデカフルオ
ルヘキシロキンベンジル基、ハロゲン化アラルキル基、
例エバ、４−クロルベンジル基、４−ブロムベンジル基
、３−クロルベンジル基、４−（４−クロルフェニル）
ベンジル基、４−（４−ブロムフェニル）ベンジル基な
どがある。アラルキル基の炭素数は好ましくは７〜１４
個である。

更に、Ｒ２とＲ７が一緒になって形成される複素環は好
ましくは、下記一般紙式（ＩＶ）で表される構造を有す
る。

一般式（ＩＶ） （Ｒ８，ＲＩ、　Ｒ１Ｇ、　Ｒ１１，Ｒ１２は上述した
ものと同じ） （Ａ）ＰＱは合計ｐ価の陰イオンを意味し、１価のＡθ
イオンｐ個或は、ｐ価のＡ”イオン１個でもよく四級窒
素数に見合う陰イオン群である。陰イオンＡとしては、
ハロゲンイオン（例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素
イオン）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオ
ン、エチル硫酸イオン）、アルキル或はアリールスルホ
ン酸イオン（例えばエタンスルホン酸、エタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸）、
酢酸イオン、硫酸イオンなどの例があり、塩素イオンが
特に好ましい。

Ｑは０．２５〜８０モル％、好ましくは２０〜６０モル
％であり、ｍは０〜９０モル％、好ましくは０〜５０モ
ル％であり、ｎは１０〜９９モル％、好ましくは、３０
〜８０モル％であり、特に好ましくは４０〜８０モル％
である。

本発明の一般式ＣＩ）で表される化合物は、般に上記の
エチレン性不飽和基を少くとも２個含有する共重合可能
な千ツマ−、エチレン性不飽和モノマー及び下記一般式
（Ｖ） 一般式〔■〕 Ｉ ＣＨ，＝Ｃ −Ａ （但し、Ｒ’、　Ｑ、　Ａは、前記に示したものに同じ
）で表される不飽和モノマーとで乳化重合した後、ｐ！ したものに同じ、Ｚｌは、Ｄｌとともに含窒素複素環を
形成するのに必要な原子群を表し、この含窒素複素環は
ＤＩ以外に少くとも１つの三級窒素原子を含む）で表さ
れる三級アミンにより四級化し、更に、Ｒ”−Ａ（Ａは
前記の（Ａ）”で表される陰イオンとなり得る置換基）
で、複素環中の残りの三級窒素原子を四級化する事によ
って得ることができる。

このＨＩ３−Ａで表されるアルキル化剤としては、例え
ば、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ジメチル硫酸、ジ
エチル硫酸、エチルブロマイド、プロピルブロマイド、
アリルクロライド、ブチルブロマイド、°クロルー２−
ブテン、エチルクロルアセテート、ヘキシルブロマイド
、オクチルブロマイド；アラルキル化剤、例えばベンジ
ルクロライド、ベンシルブロマイド、ｐ−ニトロベンジ
ルクロライド、ｐ−クロルベンジルクロライＦ１ｐ−メ
チルベンジルクロライド、ｐ−イソプロピルベンジルク
ロライド、ジメチルベンジルクロライド、ｐ−メトキシ
ベンジルクロライド、ｐ−ペンタフルオルプロペニルオ
キシベンジルクロライド、ナフチルクロライド、又はシ
フニコルメチルクロライド 好ましくは、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ジメチル
硫酸、ジエチル硫酸、ベンジルクロライドなどが挙げら
れる。

また本発明の一般式〔Ｉ〕で表される化合物は、上記の
エチレン性不飽和基を少くとも２個含有する共重合可能
な七ツマ−　エチレン性不・飽和モノマー及び上記一般
式（Ｖ）で表される不飽和モノ、、−−−ｚ　　　　　
（Ｄ　’，　Ｒ　”、　Ｚ　、　（Ａ）’θは前記に示
したものと同じ）で表される化合物により、四級化する
ことによって得ることもできる。

上記の乳化重合は一般にアニオン界面活性剤（例えばロ
ーム＆ハウス社からトリトン７７０の名で市販されてい
るもの）、カチオン界面活性剤（例えばセチルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアン
モニウムクロライド）、ノニオン界面活性剤の（例えば
ポリビニルアルコール）中から選ばれた少くとも一つの
界面活性剤及びラジカル開始剤（例えば過硫酸カリウム
と亜硫酸水素カリウムとの併用）の存在下で行われる。

上記の四級化反応は一般に０℃ないし約１００℃の温度
で行われるが、特に４０℃〜７０℃が好ましい。

本発明の一般式（Ｉ）で表され．る化合物を合成するも
う１つの方法は、上記のエチレン性不飽和基を少くとも
２個含有する共重合可能な七ツマーエチレン性不飽和七
ツマ−、及び下記一般式（Ｖｌ）で表される七ツマ−と
を直接乳化重合させる方法である。

一般式（ＶＴ） ′・−＝．、２ （Ｒ’，Ｒ”、Ｑ．Ｄ．Ｚ．（Ａ）ｐｅは前記と同じ）
これは、加熱した水中に、七ツマ−の溶液（モノマー同
志が溶は合わないときは、水、アルコール、アセトン、
等の補助溶媒を用いる）及び重合開始剤を同時に添加す
ることを特徴とする方法である。

又、重合温度は５０〜１００℃で行うことができるが、
８０〜１００℃で行った方が、好ましい重合体分散物を
得ることができる。

本発明の重合体の具体例を以下に示すが、これ （４） に限定されるものではない。

（１） （５） （２） （６） （３） Ｑ：ｍ：ｎ−２５：２５：５０ （７） Ｑｅ ＣＨ、Ｓｏ　、” Ｑ　：　ｎ＝２５　：　７５ （８） （ｌｌ）− （１２） （９） ａｅ ｒ０ １２：ｍ：ｎ−２０：２５：５５ ＣＱｏＣｆｆｅ １２：＋ａ：ｎ−３０：　１５：５５ Ｑ：ｍ：ｎ−２０：２０：ｔｉυ Ｑｅ ＣＨｓＳＯａｅ Ｑ　：　ｎ＝２５　：　７５ （１３） （１６） （１４）’ Ｑ　：　ｎ＝５５　：　４５ （１７）’ ＣＨ。

（１５） （ｔ　：　ｎ−４０：　６０ （１８） ｒＩ。

ＣｆｆｅＣＨ３ＳＯ４” Ｑ　：　ｗｒ　：　ｎ−２，５：　４７．５　：　５０
Ｑ：ｍ：ｎ−２ｏ：４０：４０ （２：ｍ：ｎ＝１０：４５：４５ （１９） ＣＱｅ　　ＣＨ，５ｏ４ｅ 【ｌ二ｎ＝４：９６ （２０） （１：ｍ：ｎ−５：３５：６０ 前記一般式（１１で表される化合物の添加量は増感紙ｃ
２当り０．００５−２．０ｇ、好ましくは０．０１−０
．５である。

本発明の増感紙において用いられる支持体としては各種
高分子材料が用いられる。

更に取り扱い上可挟性のあるシート或はウェブに加工で
きるものが好適であり、この点から例えばセルロースア
セテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ
イミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボ
ネイトフィルム等のプラスチックフィルムが好ましい。

又、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によっ
て異なるが、一般的には８０μ■〜１０００μｍであり
、゛取り扱い上の点から、更に好ましくは８０μｍ〜５
００μｍである。

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、蛍光体層
との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。

更に、これら支持体は、蛍光体層との接着性を向上させ
る目的で蛍光体層が設けられる面に下引層を設けてもよ
い。

本発明に用いられる蛍光体としては、従来知られている
ＣａＷＯ４，Ｇｄ、ＪＳｉＴｂ或はＺｎＳ　ｉ　Ａｇ等
をはじめとして、特開昭５０−１１６１６８号、同５２
−１１５６８５号、特公昭５５−３３５６０号、同５８
−２６４０号等に開示された蛍光体、或は特開昭４８−
８０４８７号、同５１−２９８８９号、同５４−４７８
８３号、同５７−１４８２８５号及び同５８−８０４８
８号等に開示された蛍光体が用いられる。

本発明の増感紙に用いられる蛍光体を具体的に例示すれ
ばＹ２０！Ｓ　：　Ｔｂ５Ｇｃｔ、ｏ！ｓ　：　Ｔｂｓ
　Ｌａ２０ｚＳ　：　Ｔｂ５（Ｙ、Ｇｄ）２０ｚＳ：　
Ｔｂ−（Ｙ、Ｇｄ）ｚＯｓｓ：　Ｔｂ、Ｔｍ、　ＹｚＪ
Ｓ：　Ｅｕ。

Ｇｄ２Ｏ２Ｓ　：　Ｅｕ、　（ｙ、ｃａ）、ｏ、ｓ　：
　Ｅｕ％Ｙ２Ｏ５：　ＥＬＩ％　Ｇｄ２Ｏ２：　Ｅｕ−
（ｙ、ｃａ）、ｏ、　：　Ｅｕ、　ＹＶＯ４：　Ｅｕ、
　ＹＰＯ４：　Ｔｂ。

ＧｄＰＯ，’：　Ｔｂ５ＬａＰＯ，：　Ｔｂ、　ＹＰＯ
４：　Ｅｕ％Ｌａ０Ｂｒ　：　Ｔｂ。

Ｌａ０Ｂｒ　：　Ｔｂ、Ｔｍ、　Ｌａ０Ｂｒ　：　Ｃｅ
、　Ｌａ０ＣＱ　：　Ｔｂ、　Ｌａ０ＣＱ　：Ｔｂ、Ｔ
ｅａ、　Ｌａ０ＣＱ　：　Ｃｅ％Ｇｄ０Ｂｒ　：　Ｔｂ
、　Ｇｄ０（ｊｌ　：　Ｔｂ。

ＣａＷＯイＣａＷＯ：　ＰｂＳＭｇＷＯイＢａ５Ｏ，：
　Ｐｂ５ＢａＳＯ，：Ｅｕ”、（Ｂａ、５ｒ）ＳＯａ　
：　Ｅｕ”、Ｂａ５（ＰＯａ）ｔ　：　Ｅｕ”（Ｂａ、
５ｒ）ｓ（ＰＯａ）ｚ　：　Ｅｕ”、ＢａＦＣＱ　：　
Ｅｕ”、ＢａＦＢｒ　：Ｅｕ”、ＢａＦＣ（１：　Ｅｕ
”、Ｔｂ、　ＢａＦＢｒ　：　Ｅｕ”、Ｔｂ、　ＢａＦ
２゜ＢａＣＱｇ、ＫＣＱ　：　Ｅｕ”、ＢａＦ、、Ｂａ
Ｃ（２１，Ｂａ５Ｏ，、ＫＣＱ：　Ｅｕ”（Ｂａ、Ｍｇ
）Ｆｚ、ＢａＣＬ、ＫＣＱ：　Ｅｕ”、Ｃｓｌ　：　Ｎ
ａ１Ｃｓｌ　：　ＴＱ。

Ｎａｌ、ＺｎＳ：　Ａｇ、　（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ＋　Ａｇ
、　ＺｎＳ：　ＣｕＳＺｎＳ：　Ｃｕ。

Ａｌ１、（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ　：　Ｃｕ、　（Ｚｎ、Ｃｄ
）Ｓ　：　Ｃｕ、Ａ（１，（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ａｕ、＾
Ｑ、　ＨｆＰｔ（ｈ　：　Ｃｕ等のＸ線用蛍光体があげ
られる。

使用する蛍光体の平均粒子径は、蛍光体の感度や粒状性
を考慮して、平均粒子径０．１−１００μｍ１好ましく
は１〜３０μｍのものが用いられる。これら蛍光体は混
用されてもよい。

本発明の増感紙において、一般的には上述の蛍光体は蒸
着等の気相堆積法によるか或は適当なバインダ中に分散
され塗設される。該バインダとしては、゛例えばゼラチ
ンの如き蛋白質、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニ
ル、エチルセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリ
マー　ボリレウレタン等のような通常層形成に用いられ
るバインダが使用される。一般にバインダは蛍光体１重
量部に対して０．０１〜１重量部の範囲で使用される。

しかしながら得られる感度と鮮鋭度の点ではバインダは
少ない方が好ましく、塗布の容易さとの兼合いから０．
０３〜０．２重量部の範囲がより好ましい。

本発明の増感紙の蛍光体層の層厚は、増感紙の放射線に
対する感度、蛍光体の種類等によって異なるが、蒸着形
成でバインダを含有しない場合でｌＤｍ−１０００μｍ
１更に好ましくは２０μｍ−８００μｍの範囲から選ば
れるのが好ましく、バインダを含有する場合でｌＯμｏ
＋−１ｏｏｏμｍ１更に好ましくは５０μｍ〜５００μ
霧、更に好ましくは９０μＩ１１〜３００μｍの範囲か
ら選ばれるのが好ましい。

本発明において用いられる保護層用材料としては耐湿性
を有することが好ましく、たとえば酢酸セルロース、ポ
リカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸、ポ
リメタクリル酸、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド（ナイロン）、ポ
リ四弗化エチレン、四弗化エチレン−六弗化プロピレン
共重合体、ポリスチレンなどがあげられる。

又、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ンリコーン樹脂
等の熱硬化型樹脂或は光硬化型樹脂を用いてもよい。

〔実施例〕

次に実施例によって具体的に本発明を説明する。

実施例１ （１）　　タングステン酸カルシウム２Ｑｗｔ％とバイ
ンダとしてポリビニルブチラール２ｖｔ％と酢酸ブチル
７３ｗｔ％とを混合してスラリー状とした塗布液を！Ｉ
Ｉ！Ｅした。次に、ガラス板上に置いた白色顔料縁す込
ミポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体、厚み
２２５０μｍ）の上にこの塗布液をドクターブレードを
用いて均一に塗布した。塗布後に、塗膜が形成された支
持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を２５
°Ｃから１００℃に徐々に上昇させて、塗膜の乾燥を行
った。このようにして、支持体上に層厚が約１８０μｍ
の傾向体層を形成した。

この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレートの透明
フィルム（厚さ＝１２μｍ１ポリエステル系接着剤が付
与されているもの）を接着層側を下に向けて接着するこ
とにより透明保護膜を形成し、支持体、蛍光体及び透明
保護膜から構成された医療用Ｘ線撮影用増感紙（Ｓ−１
）を作成した。

増感紙Ｓ−１において支持体上に蛍光体層を形成させた
後、表１に示した本発明の化合物（固形分７．５ｇ）、
ジアセチル化セルロース３０ｇを５５％のアセトンと４
５％のメタノールを含む分散液（固形分濃度１．５％）
を作り、それを１　ｇ／ｍ２となるように均一に塗布し
た。その後、増感紙Ｓ−１と同様にポリエチレンテレフ
タレートの透明保護膜を形成させ、医療用増感紙ｓ−２
から５−１１を作成した。

（２）帯電防止性能テスト 〔Ｉ〕で得られた増感紙とコニカ（株）製医療用Ｘ線フ
ィルム；タイプＡを温度２３°ｃ１相対湿度２０％の暗
室の中で２時間調湿した。その後、増感紙とフィルムを
密着させ、それをゴムローラーで５回こすりつけた後、
フィルムと増感紙を瞬時に剥離した。そのフィルムを現
像液ＸＤ−９０（コニカ（株）製）、自動現像機ＫＸ−
５００（コニカ（株）製）を用い処理した。このように
して得られたフィルムに生じたスタチックマークを目視
で評価した。得られた結果を表１に示した。ここで、ス
タチックマークの評価は以下の様にした。

５：全熱発生しない。

４：極僅かに発生している。

３：試料の１／３発生している。

２：試料の２／３発生している・ ：試料全面に発生している。

比較重合体（ａ） ｘ：ｙ：ｚ４　：４８：４８ 比較重合体（ｂ） ｘ：７票５：９５ 実施例２ （２）医療用Ｘ線撮影用オルソ増感紙の作成実施例１に
おいて、タングステン酸カルシウムの代わりにＧｄ、Ｏ
，Ｓ　：　Ｔｂを用いて、オルソ用の増感紙を作成した
。（Ｔ−１）又、実施例Ｉと同様にして、表２に示した
ような増感紙を作成した。

これらの増感紙を用い、実施例１と同様なスタチックマ
ークの試験を行った。ただし、フィルムとしてタイプＡ
の代わりに、ＭＧ（コニカ（株）製）を用いた。

以上のように、本発明の試料は、スタチックマーク性に
優れていることが分かる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上に保護層で被覆された蛍光体層を設けたＸ線撮
   影用増感紙に、下記一般式〔 I 〕で表される化合物を
   少くとも１種含有することを特徴とするＸ線撮影用増感
   紙。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは、エチレン性不飽和基を少くとも２個含有
   する共重合可能なモノマーを共重合したモノマー単位を
   表す。 Ｙは、共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを共重合
   したモノマー単位を表す。 Ｒ＾１は、水素原子又は１〜６個の炭素原子を有する低
   級アルキル基を表す。 Ｑは、二価の連結基を表す。 Ｚは、Ｎとともに、含窒素複素環を形成するのに必要な
   原子群を表し、この含窒素複素環は、Ｑに結合した四級
   窒素原子Ｎ以外に更に少くとも１つの四級窒素原子を含
   む。 Ｒ＾２は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、
   もしくは、７〜２０個の炭素原子を有するアラルキル基
   を表し、Ｒ＾２はＮとＺによって形成される複素環とと
   もに、更に環状構造を形成してもよい。 （Ａ）＾ｐ＾■、合計ｐ価の陰イオンを表しｐ≧２であ
   る。ｌは、０．２５〜８０モル％であり、ｍは０〜９０
   モル％であり、ｎは１０〜９９モル％である。〕