JPH0325253A - ヘリウム冷凍装置 - Google Patents
ヘリウム冷凍装置Info
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- JPH0325253A JPH0325253A JP15679089A JP15679089A JPH0325253A JP H0325253 A JPH0325253 A JP H0325253A JP 15679089 A JP15679089 A JP 15679089A JP 15679089 A JP15679089 A JP 15679089A JP H0325253 A JPH0325253 A JP H0325253A
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- helium
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- helium gas
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- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 29
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 29
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Landscapes
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ヘリウム冷凍装置に関するものである。
4.4Kレベルの極低Aヘリウムは、超電導装置の冷凍
に用いられるが、一般的に、極低温レベルの熱負荷を少
しでも低減する方が経済的であり、そのため,80Kレ
ベルの熱シールドが設置されることが多い。80Kレベ
ルであれば、より安価な液体窒素が使用できるためであ
る。しかし、大量の放射線にさらされる装置←こおいて
は、放射1ヒされ易い窒素を用いることは危険である。
に用いられるが、一般的に、極低温レベルの熱負荷を少
しでも低減する方が経済的であり、そのため,80Kレ
ベルの熱シールドが設置されることが多い。80Kレベ
ルであれば、より安価な液体窒素が使用できるためであ
る。しかし、大量の放射線にさらされる装置←こおいて
は、放射1ヒされ易い窒素を用いることは危険である。
そのため、ヘリウムを熱シールドの冷媒として用いる必
要がある。
要がある。
第5図,第6図に、従来例を示す。圧縮機Lで圧縮され
たヘリウムガスは、コールドボックセ2に入る。コール
ドボヅスク内の熱交換器において、戻りヘリウムガスお
よび液体窒素8で冷却されたヘリウムガスは、一旦,レ
ールドライン(往)4としてコールドボヅクスを出、低
温移送配管9の中のシールド管10を冷却し、超電導装
![13のシールド板l4を冷却し,低温移送配管9の
シールドラィン(tJ[) 5となり、再び、コールド
ボックスに戻る。そして、熱交換器3で、さらに冷却さ
れ、一部は、膨張機6で膨張し、寒冷を発生し、戻りラ
インとなり圧縮機2に戻る。また、別の一部は、さらに
冷却され、弁7を経て、極低温移送配管9の極低温ライ
ン(往)を通って、超電導装113の本体l5の冷却に
用いられ、低温移送配管9の極低潅ライン(復)12を
通って、再びコールドボックスに戻る。極低温移送管の
中は、例えば、第6図に示すような構造をしており、熱
シールド管lOの内部に極低温ライン11.12を配し
て侵入熱の低減を図っている。
たヘリウムガスは、コールドボックセ2に入る。コール
ドボヅスク内の熱交換器において、戻りヘリウムガスお
よび液体窒素8で冷却されたヘリウムガスは、一旦,レ
ールドライン(往)4としてコールドボヅクスを出、低
温移送配管9の中のシールド管10を冷却し、超電導装
![13のシールド板l4を冷却し,低温移送配管9の
シールドラィン(tJ[) 5となり、再び、コールド
ボックスに戻る。そして、熱交換器3で、さらに冷却さ
れ、一部は、膨張機6で膨張し、寒冷を発生し、戻りラ
インとなり圧縮機2に戻る。また、別の一部は、さらに
冷却され、弁7を経て、極低温移送配管9の極低温ライ
ン(往)を通って、超電導装113の本体l5の冷却に
用いられ、低温移送配管9の極低潅ライン(復)12を
通って、再びコールドボックスに戻る。極低温移送管の
中は、例えば、第6図に示すような構造をしており、熱
シールド管lOの内部に極低温ライン11.12を配し
て侵入熱の低減を図っている。
なお、この樋の!jkffiIは、例えば、アドヴアン
シズ◆イン・クライオジ,ニイック・エンジニアリング
,第31魯 (1986),IB635頁から第645
頁( Advances in Cryogenic
Engineering,Vo1、31 ( 1 98
6).PP 635−645)において論じられている
。
シズ◆イン・クライオジ,ニイック・エンジニアリング
,第31魯 (1986),IB635頁から第645
頁( Advances in Cryogenic
Engineering,Vo1、31 ( 1 98
6).PP 635−645)において論じられている
。
〔発明が解決しようとするllIl1〕上記従来技術は
、熱シールド負荷と、極低温ラィンの制御性に配慮がさ
れておらず、熱シールド負荷と極低温ライン負荷とが互
いに干渉し合うという問題があった。
、熱シールド負荷と、極低温ラィンの制御性に配慮がさ
れておらず、熱シールド負荷と極低温ライン負荷とが互
いに干渉し合うという問題があった。
本発明の目的は、熱シールド負荷と極低温ライン負荷の
制御性を向上させることができるヘリウム冷凍装置を提
供することにある。
制御性を向上させることができるヘリウム冷凍装置を提
供することにある。
上記目的を達或するために、寒冷装置能力を、極低温ラ
インと、熱シールドラインとOこそれぞれ独立させたも
のである。
インと、熱シールドラインとOこそれぞれ独立させたも
のである。
熱シールドラインの寒冷発生能力を、極低温ラインの寒
冷発生能力から独立させることにより、それぞれの能力
を互いに独立に調整するこεができるので、互いに干渉
し合うことがない。
冷発生能力から独立させることにより、それぞれの能力
を互いに独立に調整するこεができるので、互いに干渉
し合うことがない。
以下、本発明の一実施例を111図により説明する。
圧縮機1で圧縮されたヘリウムガスは、コールドボック
ス2に入り、熱交換器3Iこおいて、戻りヘリウムガス
および液体窒素8により冷却され、一部のヘリウムガス
は、IlIgk機6で寒冷を発生し、戻りガスと合流し
、圧縮機lに戻る。別の一部のヘリウムガスは、さらに
冷却されて、弁7を通り、低温移送配管9の極低温ライ
ン(住)Uを経て、超電導!!1本体l5を冷却し、再
び低温移送配管9の極低温ライン(僕)l2を経て、コ
ールドボックス2に戻る。
ス2に入り、熱交換器3Iこおいて、戻りヘリウムガス
および液体窒素8により冷却され、一部のヘリウムガス
は、IlIgk機6で寒冷を発生し、戻りガスと合流し
、圧縮機lに戻る。別の一部のヘリウムガスは、さらに
冷却されて、弁7を通り、低温移送配管9の極低温ライ
ン(住)Uを経て、超電導!!1本体l5を冷却し、再
び低温移送配管9の極低温ライン(僕)l2を経て、コ
ールドボックス2に戻る。
一方、シールド冷却系においては、圧縮921で圧縮さ
れたヘリウムガスは、シールド冷却系のコールドボック
スnに入り、熱交換器乙において戻りヘリウムガスおよ
び液体WaXにより冷却され弁n1k軽て、低温移送配
管9のシールドライン(往)4を冷却し、さらに、超電
導装@[13のシールド板14を冷却し、再び低温移送
配管9のシールドライン(復〉5を経て、シールド系コ
ールドボックス卒に戻る。
れたヘリウムガスは、シールド冷却系のコールドボック
スnに入り、熱交換器乙において戻りヘリウムガスおよ
び液体WaXにより冷却され弁n1k軽て、低温移送配
管9のシールドライン(往)4を冷却し、さらに、超電
導装@[13のシールド板14を冷却し、再び低温移送
配管9のシールドライン(復〉5を経て、シールド系コ
ールドボックス卒に戻る。
本実施例によれば、シールド系の熱負荷と、極低温系の
熱負荷とを互いに独立に冷却しているので、制御が容易
であるという効果がある。
熱負荷とを互いに独立に冷却しているので、制御が容易
であるという効果がある。
例えば、極低温系の膨張機の入口温度,圧力は、直接に
は、必要とする寒冷発生量に依存するだけであり、シー
ルド系の熱負荷の影響は間接的にしわ過ぎず、極めて小
さいものである。故に、極低温系の運転・制御は容易と
なる。
は、必要とする寒冷発生量に依存するだけであり、シー
ルド系の熱負荷の影響は間接的にしわ過ぎず、極めて小
さいものである。故に、極低温系の運転・制御は容易と
なる。
また、極低温系が故障等により、運転を中止しても、シ
ールド系の運転を続けることにより、極低温系の温度を
低(保てるので、復旧が容易となるという効果もある。
ールド系の運転を続けることにより、極低温系の温度を
低(保てるので、復旧が容易となるという効果もある。
第2図は、本発明の第2の実施例であり、シールド冷却
系コールドボックスnに、膨張機部を設置した例である
。本実施例では、シールド冷却系の温度を低くでき、か
つ、シールド熱負荷の作動に対しても幅広く対応するこ
とが可能となる。
系コールドボックスnに、膨張機部を設置した例である
。本実施例では、シールド冷却系の温度を低くでき、か
つ、シールド熱負荷の作動に対しても幅広く対応するこ
とが可能となる。
第3図は、本発明の第3の実施例である。本実施例では
、シールド冷却系の圧縮機として、低温圧縮機31を用
いており、80Kレベルより上の熱交換器が不要となり
、全体として、コンパクトになるという効果が付加され
る。
、シールド冷却系の圧縮機として、低温圧縮機31を用
いており、80Kレベルより上の熱交換器が不要となり
、全体として、コンパクトになるという効果が付加され
る。
!J4図は、本発明の第4の実施例である。本案施例で
は、極低温系の圧縮機1の前段に減圧ポンプ1′を設置
し、極低温系の作動温度をヘリウムの沸点4.2Kより
低くした例である。熱シールド系の温度をかなり低く(
例えば、4.5K)することが可能であるので、極低温
系の熱負荷を小さくできる。したがって、減圧して比容
積が大h<なる極低温系をコンパクトにできるという効
果がある。
は、極低温系の圧縮機1の前段に減圧ポンプ1′を設置
し、極低温系の作動温度をヘリウムの沸点4.2Kより
低くした例である。熱シールド系の温度をかなり低く(
例えば、4.5K)することが可能であるので、極低温
系の熱負荷を小さくできる。したがって、減圧して比容
積が大h<なる極低温系をコンパクトにできるという効
果がある。
また、いずれの実施例昏こおいても、極低温系とシール
ド系のコールドボックスの共有{ヒをしても同様の効果
が得られ、全体として、コンパクトになることは、いう
までもない。
ド系のコールドボックスの共有{ヒをしても同様の効果
が得られ、全体として、コンパクトになることは、いう
までもない。
本発明によれば、シールド系の熱負荷と、極低温系の熱
負荷とを互いに独立に冷却しているので、制御が安定で
容易になるという効果がある。
負荷とを互いに独立に冷却しているので、制御が安定で
容易になるという効果がある。
第1図は、本発明の一実施例のヘリウム冷凍装置のフロ
ー図、第2図ないし!il4r!!Aは、本発明の第2
ないし第4実施例のヘリウム冷凍装置のフロー図、第5
図は、従来例のヘリウム冷凍装置のフロー図、第6図は
、第5図の低温移送配管部の縦断面図である。 1〜1’,21・・一・・圧縮機, 2. 22・・
一・・コールドボックス、3, 23・・・・・・fA
交t![、4. 5・聞・シールドライン、6,26
・・・・・・膨張機、9・・〜・・低温移送配32図 ’f −−−−−−4Kラk彰頃9虻鴬13−−−−−
−#電斗執孟 オ4 図
ー図、第2図ないし!il4r!!Aは、本発明の第2
ないし第4実施例のヘリウム冷凍装置のフロー図、第5
図は、従来例のヘリウム冷凍装置のフロー図、第6図は
、第5図の低温移送配管部の縦断面図である。 1〜1’,21・・一・・圧縮機, 2. 22・・
一・・コールドボックス、3, 23・・・・・・fA
交t![、4. 5・聞・シールドライン、6,26
・・・・・・膨張機、9・・〜・・低温移送配32図 ’f −−−−−−4Kラk彰頃9虻鴬13−−−−−
−#電斗執孟 オ4 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、極低温レベルのヘリウムで冷却保持される超電導装
置、極低温移送配管等の装置の熱負荷を軽減するために
設けられる熱シールドの冷却にヘリウムが用いられるヘ
リウム冷凍装置において、前記熱シールドの冷却系を極
低温レベルの冷却系と独立に作動可能に具備したことを
特徴とするヘリウム冷凍装置。 2、前記熱シールドの冷却系のヘリウム駆動源が、低温
圧縮機である第1請求項に記載のヘリウム冷凍装置。 3、前記極低温レベルが、4.2K以下で、前記熱シー
ルドレベルが、4.2K以上である第1請求項に記載の
ヘリウム冷凍装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15679089A JPH0325253A (ja) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | ヘリウム冷凍装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15679089A JPH0325253A (ja) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | ヘリウム冷凍装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0325253A true JPH0325253A (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15635363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15679089A Pending JPH0325253A (ja) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | ヘリウム冷凍装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0325253A (ja) |
-
1989
- 1989-06-21 JP JP15679089A patent/JPH0325253A/ja active Pending
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