JPH03251466A - グレーズセラミックス基板の製造方法 - Google Patents

グレーズセラミックス基板の製造方法

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JPH03251466A
JPH03251466A JP2933190A JP2933190A JPH03251466A JP H03251466 A JPH03251466 A JP H03251466A JP 2933190 A JP2933190 A JP 2933190A JP 2933190 A JP2933190 A JP 2933190A JP H03251466 A JPH03251466 A JP H03251466A
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JP
Japan
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glazed
partial
substrate
rounded
partial projection
Prior art date
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Pending
Application number
JP2933190A
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English (en)
Inventor
Tsumoru Nagira
積 梛良
Yoshimasa Hayashi
芳昌 林
Osamu Miyazawa
修 宮沢
Yasuaki Fukuda
福田 恭彬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Publication of JPH03251466A publication Critical patent/JPH03251466A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、サーマルヘッドに使用されるグレーズセラミ
ックス基板の製造方法に関し、更に詳しくは該基板のグ
レーズ層を部分的に凸状となした部分凸を有するグレー
ズセラミックス基板の製造方法に関する。
[従来の技術] セラミックス基板上にガラス層を被覆したグレーズセラ
ミックス基板は、サーマルプリンターヘッド用基板等の
電子回路基板として汎用されている。
従来、平面型のグレーズ基板が広く普及しているが、近
年、サーマルプリンターヘッドにおいて高印字品質、高
速印刷といった高性能対応量が要望され、このため発熱
体を形成する箇所を凸形状にした部分凸型のグレーズセ
ラミックス基板が使用されるようになった。
このような部分凸型のグレーズ層を形成する従来の方法
としては、セラミックス基板にガラスペーストを全面印
刷した後、更にその上の凸となる部分に同様のガラスペ
ーストを印刷し、同時に焼成するか、あるいはガラス軟
化点の異る2種のガラスペーストを用い、平面部と凸部
にわけ2度焼成を行う方法で作製してきた。
[発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、サーマルプリンターヘッド用基板の高性
能化に対応するためには、単に部分凸を形成するたりで
はなく、部分凸の位置及び形状か高精度でなければなら
ず、その点、前記の方法は、焼成時の有機成分等の脱パ
イによるペーストの収縮、軟化したカラスの流動等の影
響で、バラツキを生し、所望の精度が得られず、特に、
凸部のR仕様あるいは四項上部の位置、ピッチ間隔等を
精度良く安定に作製することは非常に困難であり、高性
能サーマルヘッド基板の用途には不向きであった。
そこて、本発明者は、前記問題点について種々検討した
結果、マスクしたグレーズ表面上をサンドブラスト法を
用いて研削することにより高精度、高精細で、矩形の部
分凸のグレーズ部を形成することができることを見出し
、これに基づいて木発明は完成したものである。
したかって、本発明の目的は、上記のような従来の欠点
を解消して、印字性能の良い、高品質、高性能のサーマ
ルヘッド用基板に十分対応できる部分凸を有するグレー
ズセラミックス基板の製造方法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 木発明の前記目的は、 1)アルミナ基板の少なくとも片面にグレーズ平面層を
形成し、ついて部分凸となるべきグレーズ表面に樹脂あ
るいはゴム等のマスク物質によりマスクを形成した後、
サンドブラスト法により露出したグレーズ表面の所望の
厚さを除去し、得られた部分凸部を加熱処理してアール
化することを特徴とする部分凸を有するグレーズセラミ
ックス基板の製造方法。
2)請求項1記載の加熱処理温度がカラス軟化点以上で
あることを特徴とする部分凸を有するグレーズセラミッ
クス基板の製造方法によりそれぞれ達成された。
[発明の具体的構成コ 本発明に用いられるグレーズ材料のガラス粉末は、サー
マルプリンターヘットにおいて要求される絶縁性及び耐
熱性(軟化800℃以上)をともに満足するものが用い
られ、好ましくはAl203−Ba0B203−CaO
−5IO2系ガラスのものが使用される。
このガラス粉末は、印刷あるいはスプレーによりアルミ
ナ基板上に付着させた後、焼成により平滑なガラス層を
得る。この平滑なガラス層上の所望の部分凸を形成した
い箇所に樹脂あるいはゴム等のマスク物質を形成した後
、露出されている箇所をサンドブラスト法により精度良
く部分凸を形成できる。
部分凸の高さは、ガラス層の厚さ以内であれは随意に調
整でき、その精度は目標値に対し±1μm以内である。
サンドブラスト法は、被研磨体に珪砂等の細粒子を吹付
ける方法であり、乾式及び湿式のいづれの方法も適用で
きる。
このマスク物質としては、樹脂あるいはゴム等が用いら
れるが、まず樹脂としてはフェノール樹脂、エリア樹脂
、メラミン樹脂等が挙げられる。
ゴムとしては、好ましくはフッ素ゴム、フルオロシリコ
ーンゴム、シリコーンゴム、クロロプレンゴム等も使用
することがてきる。
マスクの形成方法としては、樹脂の場合には、例えば熱
硬化性樹脂を印刷する方法かあり、またゴムの場合には
、ゴムを押し当てる方法等がある。
前記サンドブラスト法により形成された矩形の部分凸を
有するグレーズ基板は、矩形エツジでの配線の断線を防
止するため、ガラスの軟化点以上の温度において熱処理
し、部分凸のアール化(R化)を行う。R化処理するた
めの加熱焼成温度は、少なくともガラス軟化点以上の温
度が必要であるが、使用したガラス材料の特性に合せた
適性条件によフて行うことか好ましい。
また、前記組成系のガラスは軟化点を越えた温度では結
晶化しやすくこれが突起の原因となる。
したがって、このような突起を防止するためには、60
分以内のプロファイルで熱処理を行う必要がある。この
ような欠陥は、サーマルプリンターヘット等の電子回路
基板においては、印字むらあるいは微細配線形成の妨げ
となるため好ましくない。部分凸部のR形状は、熱処理
温度、熱処理時間及び熱処理前の部分凸部により、R=
 1 mm以上において精度良く制御できる。
[実施例コ 以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明するか、
これにより本発明か制限されるものではない。
第1図に示されるように、50mmX 270mmで厚
さ1mmの96%の研磨されたアルミナ基板1上に、ス
プレーてA1203−11ao−8203−CaO−5
i02系カラス粉末を均等に付着した後、1000℃強
のン晶度で焼成し、片面60μmの厚さの平滑なグレー
ズ層2を形成した。得られたグレーズセラミック基板を
第1図aに示す。
欧にこの平滑、かつ平坦のグレーズ層の表面上の矩形の
部分凸を形成したい箇所に熱硬化性樹脂としてフェノー
ル樹脂を印刷した後、熱硬化してマスキング3を形成し
た。(第1図b)。
このように熱硬化性樹脂でマスキングした後、湿式サン
ドブラスト法4により露出したグレーズ表面の一部を削
り取った。(第1図C)ついてマスクを剥離し部分凸5
を有するグレーズ表面を十分洗浄した後(第1図d)、
1000℃で熱処理して矩形の部分凸をR化した。(第
1図e)Rの形状は矩形の部分凸の幅および高さ、ある
いはR化の熱処理温度を調節することにより任意に変え
ることかできる。
このR他処理により得られた部分凸6の形状は、角か取
れて円みを帯び、R化した形状の部分凸を有するグレー
ズ基板が得られた。
[発明の効果] 本発明は、サンドブラスト法により部分凸を形成するこ
とにより、高精度の部分凸か得られるばかりでなく、更
にこれをR他処理することによりグレーズの部分凸の曲
率を任意に精度よく形成することかでき、かつ製造工数
か少ないばかりてなく安価にサーマルプリンターヘッド
用の部分凸を有するグレーズセラミックス基板を容易に
製造することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(e)は、本発明の部分凸を有するグレ
ーズセラミックス基板をサンドブラスト法により製造す
る順序を示す断面略図である。 符号の説明 1・・アルミナ基板  2・・グレーズ層3・・マスク
物質   4・・サンドブラスト5・・部分凸 6・・R他処理した部分凸

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)アルミナ基板の少なくとも片面にグレーズ平面層を
    形成し、ついで部分凸となるべきグレーズ表面に樹脂あ
    るいはゴム等のマスク物質によりマスクを形成した後、
    サンドブラスト法により露出したグレーズ表面の所望の
    厚さを除去し、得られた部分凸部を加熱処理してアール
    化することを特徴とする部分凸を有するグレーズセラミ
    ックス基板の製造方法。 2)請求項1記載の加熱処理温度がガラス軟化点以上で
    あることを特徴とする部分凸を有するグレーズセラミッ
    クス基板の製造方法。
JP2933190A 1990-02-08 1990-02-08 グレーズセラミックス基板の製造方法 Pending JPH03251466A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL2000832C2 (nl) * 2007-08-27 2009-03-03 F Van Tetterode Glas Atelier B V Informatiedrager en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke informatiedrager.
JP2013202796A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Toshiba Hokuto Electronics Corp サーマルプリントヘッド
JP2021115716A (ja) * 2020-01-23 2021-08-10 ローム株式会社 サーマルプリントヘッドの製造方法およびサーマルプリントヘッド

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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NL2000832C2 (nl) * 2007-08-27 2009-03-03 F Van Tetterode Glas Atelier B V Informatiedrager en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke informatiedrager.
JP2013202796A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Toshiba Hokuto Electronics Corp サーマルプリントヘッド
JP2021115716A (ja) * 2020-01-23 2021-08-10 ローム株式会社 サーマルプリントヘッドの製造方法およびサーマルプリントヘッド

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