JPH03250794A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH03250794A
JPH03250794A JP2048430A JP4843090A JPH03250794A JP H03250794 A JPH03250794 A JP H03250794A JP 2048430 A JP2048430 A JP 2048430A JP 4843090 A JP4843090 A JP 4843090A JP H03250794 A JPH03250794 A JP H03250794A
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JP
Japan
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wiring board
radiating plate
heat radiating
heat
mounting
Prior art date
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Pending
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JP2048430A
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English (en)
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Hisao Arai
久夫 新井
Kenji Bono
憲司 坊野
Koji Imai
今井 幸治
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Chichibu Fuji Co Ltd
Original Assignee
Chichibu Fuji Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体装置に関する。
さらに詳しくは、半導体装置の放熱構造の改良に関する
[従来の技術] 最近、ディスクトップ形、ラップトツブ形のパーソナル
コンピュータ等での高速高集積化が著しく、その結果大
型コンピュータ並に発熱量が増大してきていることから
、小型、低コストに製造、実装可能な放熱構造の開発要
求があるという技術的背景が存在している。
従来、このような技術的背景の下において、半導体装置
の放熱構造としては、例えば、^、に、Malhotr
a、 G、E、Leinbach、  11.5tra
v、  G、R,Wagn!rrFinN+ate:A
 New Concept in VLSI Pack
gingHevielt−Packa+d Jouna
lJ Vot、34.  No、8.  P3〜P6゜
P24〜P26に記載のものが知られている。
この従来の半導体装置の放熱構造は、配線基板内に銅板
の芯材を入れて、熱を配線基板全体に均−に分散させ、
配線基板の表裏で効率的に空気冷却を行なわせようとす
るものである。
[発明が解決しようとする課題] 前述の従来の半導体装置の放熱構造では、配線基板とい
う限定された面積内での冷却であることから、充分な冷
却効果を得ることができないという問題点を有している
本発明は、このような問題点を考慮してなされたもので
、小型、低コストに製造、実装可能で冷却性能の良好な
放熱構造を備えた半導体装置を提供することを課題とす
る。
[課題を解決するための手段] 前述の課題を解決するため、本発明に係る半導体装置は
、次のような手段を採用する。
即ち、請求項1では、熱伝導性の良好な金属材で形成さ
れた放熱板の片面に配線基板が取付けられ他面に半導体
が取付けられ、放熱板は配線基板、半導体の導通のため
に穿孔された孔と配線基板の外部接続部以外の外側に延
長され外部部材に当接取付けされる取付は部とを有して
なる。
また、請求項2では、配線基板内に熱伝導性の良好な金
属材で形成された放熱板が埋込まれ、半導体は配線基板
の少なくとも片面に一部を除去して放熱板が露出された
キャビティ部に取付けられ、放熱板は配線基板の外部接
続部以外の外側に延長され外部部材に当接取付けされる
取付は部を有してなる。
[作 用] 前述の手段によると、単に放熱板の配設面積を拡大した
小型、簡素な構造であり、放熱板に伝達した熱が放熱板
を介して外部部材に伝達除去されると共に、外部部材に
まで配設される広面積の放熱板から有効に空気で冷却さ
れることから、小型、低コストに製造、実装可能で冷却
性能の良好な放熱構造を備えた半導体装置を提供すると
いう課題が解決される。
[実施例コ 以下、本発明に係る半導体装置の実施例を図面に基いて
説明する。
第1図〜第3図は、本発明に係る半導体装置の第1実施
例を示すもので、請求項1に対応するものである。
この実施例では、放熱板1の片面に配線基板2が取付け
られ他面に半導体3が取付けられたものが示されている
放熱板1は、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム
合金、フレキシブル板状ヒートパイプ等の熱伝導性の良
好な金属材で平板形に形成されており、可撓性または湾
曲加工可能な材質特性を有している。この放熱板1には
、配線基板2、半導体3導通のために両面11.12に
貫通する多数の孔13と、放熱板1を他部材等に支持取
付けするための取付は孔14とが穿孔されている。
配線基板2は、多層構造のプリント配線基板からなるも
ので、ガラス、石英ガラス、アラミツド繊維(アラミツ
ド布)、強化エポキシ、変性エポキシ、トリアジン、マ
レイミド、ビスマレイミド−トリアジン、エポキシ、弗
素樹脂等の素材を基材21としている。この基材21に
は箔エツジング、メツキ等により銅配線22が多層に配
設され、各銅配線22はスルーホール23、ピアホール
(図示せず)で導通されている。また、この配線基板2
の半導体3との導通面側には、はんだメツキ、はんだペ
ーストのボッティングがなされた端子26が形成されて
いる。さらに、この配線基板2の両面には、ソルダマス
クレジスト24が被覆保護されている。
この配線基板2は、エポキシ系、シリコン変性エポキシ
、シリコンゴム系等の接着材4で放熱板1の片面11に
接着取付けされている。この接着取付けの位置合せ構造
は、第1図(a)に示すように、配線基板2の外部接続
部27には放熱板1が接着せず、配線基板2の外部接続
部27以外では放熱板1が外側に延長されている。なお
、この配線基板2と放熱板1との熱膨張の応力整合を図
るためには、接着材4をシリコンゴム系として応力緩和
機能を奏させるのが好ましいが、前記スルーホール23
内に接着材4を流込ませることも効果的である。また、
放熱板1の孔13もある程度の応力吸収機能を有する。
このように配線基板2が取付けられた前記放熱板1は、
配線基板2からの延長部分が他部材への取付は部分15
となる。
半導体3は、LSIが示されており、チップ31が薄性
の放熱材32に接着材33で接着取付けされて搭載され
、リード34がチップ31にボンディングワイヤ35で
接続している構造からなる。この半導体3は、放熱材3
2のチップ31搭載面の反対側面を残して全体がモール
ド材36で一体化されている。なお、前記リード34は
、鉄−ニッケル合金、銅、銅合金等からなるが、TAB
も使用することが可能である。
この半導体3は、エポキシ系等の接着材5で放熱板1の
他面12に接着取付けされている。なお、放熱板1に取
付けられた半導体3は、そのリード34が放熱板1の孔
13を通過して配線基板2の端子26に当接しており、
リフロー加熱等により端子26のボッティングを溶融し
て接続することになる。
このような実施例は、第1図(b)に示すように、放熱
板1については、取付は部15が湾曲され機器ケース等
の他部材の外部部材6に取付孔14を利用してボルト6
で締付けられて取付けされ、配線基板2については、外
部接続部27にエツジコネクタ7を実装し親基板8に接
続取付けされている。
このような実施例によると、基本的には単に放熱板1の
配設面積を拡大した構造であるため、配線基板2、半導
体3の実装配置等に大巾な設計仕様の変更を伴なうこと
もなく、小型、簡素に製造、実装が可能である。また、
配線基板2、半導体3で発熱した熱は、放熱板1に伝達
して放熱板1を介して外部部材6に伝達除去されると共
に、外部部材6にまで配設される広面積の放熱板1から
有効に空気で冷却されることになる。さらに、種々の要
因により生ずる熱的、機械的な膨張、変形応力は、放熱
板1の取付は部の湾曲で吸収解消されることになる。
第4図は、本発明に係る半導体装置の第2実施例を示す
もので、請求項2に対応するものである。
この実施例では、前述の第1実施例の放熱板1を配線基
板2内に埋込み、配線基板2の片面に一部を除去して放
熱板1が露出されたキャビティ部28に半導体3が取付
けられている。なお、配線基板2のスルーホール23は
、放熱板1に穿孔したスルーホール23よりも大径の逃
孔16で短絡が防止されている。
このような実施例によると、第1実施例と同様の作用効
果を奏する外に、放熱板1、配線基板2間の接着材4が
不要になり応力不整合の要因が削減されること、配線基
板2の外部接続部27の内部にまで放熱板1を配設する
ことができて放熱性能がさらに向上すること、放熱板1
を配線基板2が挾んでいるため応力不整合による反り変
形が防止されることの利点がある。
なお、配線基板2の他面側にも半導体3を取付けること
も可能である。
以上、図示した実施例の外に、半導体3を裸チップ等他
の半導体素子、半導体部品である実施例とすることも可
能である。
[発明の効果コ 以上のように本発明に係る半導体装置は、単に放熱板の
配設面積を拡大した小型、簡素な構造であり、その放熱
板によって熱が外部部材に伝達除去されたり有効に空気
で冷却されることから、小型、低コストに製造、実装可
能で冷却性能の良好である効果がある。また、この効果
により、配線基板2、半導体3の実装配置等に大巾な設
計仕様の変更を伴なうことな〈実施することができる効
果が生ずる。
【図面の簡単な説明】
第1−図(a)は本発明に係る半導体装置の第1実施例
を示す正面断面図、第1図(b)は第1図(a、 )の
接続取付は状態図、第2図は第1図の要部拡大断面図、
第3図は第1図(a)の平面図、第4図は本発明に係る
半導体装置の第2実施例を示す正面断面図である。 1・・・放熱板      2・・・配線基板3・・・
半導体      13・・・孔15・・・取付は部 
    27・・・外部接続部28・・・キャビティ部 第 1 図 第 図 第 図 笛 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.熱伝導性の良好な金属材で形成された放熱板の片面
    に配線基板が取付けられ他面に半導体が取付けられ、放
    熱板は配線基板、半導体の導通のために穿孔された孔と
    配線基板の外部接続部以外の外側に延長され外部部材に
    当接取付けされる取付け部とを有してなる半導体装置。
  2. 2.配線基板内に熱伝導性の良好な金属材で形成された
    放熱板が埋込まれ、半導体は配線基板の少なくとも片面
    に一部を除去して放熱板が露出されたキャビティ部に取
    付けられ、放熱板は配線基板の外部接続部以外の外側に
    延長され外部部材に当接取付けされる取付け部を有して
    なる半導体装置。
JP2048430A 1990-02-28 1990-02-28 半導体装置 Pending JPH03250794A (ja)

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