JPH03245324A - 連続磁性薄膜媒体 - Google Patents
連続磁性薄膜媒体Info
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- JPH03245324A JPH03245324A JP4172290A JP4172290A JPH03245324A JP H03245324 A JPH03245324 A JP H03245324A JP 4172290 A JP4172290 A JP 4172290A JP 4172290 A JP4172290 A JP 4172290A JP H03245324 A JPH03245324 A JP H03245324A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ０発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高分子フィルム上に垂直磁気記録層を形成し
て垂直磁気記録を行う、垂直磁気記録用の連続磁性薄膜
媒体に関するものである。
て垂直磁気記録を行う、垂直磁気記録用の連続磁性薄膜
媒体に関するものである。
以下余白
〔従来の技術〕
近年、磁気記録の高密度化の要求に伴い、減磁界の影響
が少なく、飛躍的に記録密度の向上が期特出来る垂直磁
気記録方式の研究が盛んに行われている。
が少なく、飛躍的に記録密度の向上が期特出来る垂直磁
気記録方式の研究が盛んに行われている。
この垂直磁気記録方式の具体的な応用として、ハイビジ
ョンに代表される高画質映像の記録再生がある。このよ
うな高画質の映像を記録するためには大量の記録容量を
必要とし、従来の長手記録方式による磁気テープでは短
時間しか録音出来ない。このため高密度記録が行える垂
直磁気記録媒体の実用化が待たれている。
ョンに代表される高画質映像の記録再生がある。このよ
うな高画質の映像を記録するためには大量の記録容量を
必要とし、従来の長手記録方式による磁気テープでは短
時間しか録音出来ない。このため高密度記録が行える垂
直磁気記録媒体の実用化が待たれている。
一方、最近では２″フロツピーデイスクに静止画を記録
し、テレビのモニターで再生することが出来るスチルビ
デオシステム（以下Ｓ■と省略する）がある。従来、長
手記録方式の２″フロツピーデイスクが市販されている
が、銀塩写真と比較して、静止画として満足出来る解像
度はまだ得られておらず、ここでも、より高画質の画像
を得るために、飛躍的に記録密度の向上が期特出来る垂
直磁気記録媒体が必要とされている。そこで磁性層が磁
性材料のみによって形成される、いわゆる連続磁性薄膜
型の垂直磁気記録媒体の検討が、このＳＶシステムにお
いて特に行われている。ここで、従来一般の垂直磁気記
録用の連続磁性薄膜媒体の断面図は第４図のごとく、高
分子フィルム１１」二に垂直磁気記録用の磁性層１２を
形成し、その表面に保護膜１３を形成したもので、この
場合の磁性層１２の膜厚をパラメータとした再生出力−
記録密度特性の関係は、第５図に磁性層膜厚０，２μｍ
記録密度特性１４、磁性層膜厚０．３μｍ記録密度特性
１５及び磁性層膜厚０．５μｍ記録密度特性１６にそれ
ぞれ示すように磁性層１２の膜厚が薄いほど、高密度記
録が可能となる。またＳ■システムで静止画として満足
出来る解像度が得られるような記録密度特性を得るには
、磁性層１２の膜厚は０．２μｍ以下である必要がある
。
し、テレビのモニターで再生することが出来るスチルビ
デオシステム（以下Ｓ■と省略する）がある。従来、長
手記録方式の２″フロツピーデイスクが市販されている
が、銀塩写真と比較して、静止画として満足出来る解像
度はまだ得られておらず、ここでも、より高画質の画像
を得るために、飛躍的に記録密度の向上が期特出来る垂
直磁気記録媒体が必要とされている。そこで磁性層が磁
性材料のみによって形成される、いわゆる連続磁性薄膜
型の垂直磁気記録媒体の検討が、このＳＶシステムにお
いて特に行われている。ここで、従来一般の垂直磁気記
録用の連続磁性薄膜媒体の断面図は第４図のごとく、高
分子フィルム１１」二に垂直磁気記録用の磁性層１２を
形成し、その表面に保護膜１３を形成したもので、この
場合の磁性層１２の膜厚をパラメータとした再生出力−
記録密度特性の関係は、第５図に磁性層膜厚０，２μｍ
記録密度特性１４、磁性層膜厚０．３μｍ記録密度特性
１５及び磁性層膜厚０．５μｍ記録密度特性１６にそれ
ぞれ示すように磁性層１２の膜厚が薄いほど、高密度記
録が可能となる。またＳ■システムで静止画として満足
出来る解像度が得られるような記録密度特性を得るには
、磁性層１２の膜厚は０．２μｍ以下である必要がある
。
しかしながら、磁性層１２の膜厚をパラメータとした再
生用カーパス数特性のいわゆるパスウェア耐久性の関係
について調べてみると、第６図に第４図の如き従来の連
続磁性薄膜媒体の磁性層１２の膜厚０．２μｍ耐久特性
１７、膜厚０．３μｍ耐久特性１８、膜厚０．４μｍ耐
久特性１９及び膜厚０．５μｍ耐久特性２０にそれぞれ
示すように、高密度記録の可能な磁性層１２の膜厚が０
．２μｍの媒体では、Ｓ■システムに従来から長手方向
記録で用いられている市販媒体耐久特性２１のもつ２０
０万パスを越えるパスウェア耐久性は得られない。
生用カーパス数特性のいわゆるパスウェア耐久性の関係
について調べてみると、第６図に第４図の如き従来の連
続磁性薄膜媒体の磁性層１２の膜厚０．２μｍ耐久特性
１７、膜厚０．３μｍ耐久特性１８、膜厚０．４μｍ耐
久特性１９及び膜厚０．５μｍ耐久特性２０にそれぞれ
示すように、高密度記録の可能な磁性層１２の膜厚が０
．２μｍの媒体では、Ｓ■システムに従来から長手方向
記録で用いられている市販媒体耐久特性２１のもつ２０
０万パスを越えるパスウェア耐久性は得られない。
このように高画質用のＳ Ｉｆシステムに必要な高密度
記録を行うためには、磁性層１２の厚さが０．２μｍ以
下でなければならず、又２００万パス以Ｉ−の耐久性を
得るためには磁性層１２の厚さが０．５μｍ程度必要で
あり、記録密度特性も耐久特性も十分な連続磁性薄膜媒
体の作製は不可能であった。
記録を行うためには、磁性層１２の厚さが０．２μｍ以
下でなければならず、又２００万パス以Ｉ−の耐久性を
得るためには磁性層１２の厚さが０．５μｍ程度必要で
あり、記録密度特性も耐久特性も十分な連続磁性薄膜媒
体の作製は不可能であった。
本発明は、このような問題を解決し、高密度記録が可能
で且つ充分な耐久性を持つ垂直磁気記録用の連続磁性薄
膜媒体を提供しようとするものである。
で且つ充分な耐久性を持つ垂直磁気記録用の連続磁性薄
膜媒体を提供しようとするものである。
以Ｆ余白
口１発明の構成
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、高分子フィルムにスパッタリング法により作
製される連続磁性薄膜媒体において、前記高分子フィル
ム上に非磁性層としてＩｒ、 Ｏｓ、 Ｃｒ、 Ｂｉ。
製される連続磁性薄膜媒体において、前記高分子フィル
ム上に非磁性層としてＩｒ、 Ｏｓ、 Ｃｒ、 Ｂｉ。
Ｗ、 Ｒｕ、 Ｎｏ、 Ｂｅ、 Ｒｈのいずれかの層を
厚さ０．２ｔｔ、ｍ以上設け、その１１に垂直磁気記録
層を形成することを特徴とした連続磁性薄膜媒体である
。
厚さ０．２ｔｔ、ｍ以上設け、その１１に垂直磁気記録
層を形成することを特徴とした連続磁性薄膜媒体である
。
垂直磁気記録媒体（以下垂直媒体と称す）において、パ
スウェア耐久性の確保のためには磁性層自身の強度の確
保が必要であることが木材らにより報告されている１″
。しかし垂直媒体の強度を上げるために磁性層を厚くす
ると、パスウェア耐久性は十分であるが、第５図に見ら
れるように高密度では再生出力が低下する。これは磁性
層が厚いために高密度域では飽和記録がなされず再生出
力の低下が起きたと考えられる。
スウェア耐久性の確保のためには磁性層自身の強度の確
保が必要であることが木材らにより報告されている１″
。しかし垂直媒体の強度を上げるために磁性層を厚くす
ると、パスウェア耐久性は十分であるが、第５図に見ら
れるように高密度では再生出力が低下する。これは磁性
層が厚いために高密度域では飽和記録がなされず再生出
力の低下が起きたと考えられる。
そこで、磁性層は薄いままで、全体の膜厚を厚くし、強
度を高めるために、磁性層と高分子フィルムの間に非磁
性層を設けた。この非磁性層は椙料強度を示すヤング率
が磁性層（Ｃｏ系合金）よりも大きな値を示すＩｒ、
Ｏｓ、 Ｂｉ、 Ｗ、 Ｒｕ、 Ｍｏ、 Ｂｅ、 Ｒｈ
とした。
度を高めるために、磁性層と高分子フィルムの間に非磁
性層を設けた。この非磁性層は椙料強度を示すヤング率
が磁性層（Ｃｏ系合金）よりも大きな値を示すＩｒ、
Ｏｓ、 Ｂｉ、 Ｗ、 Ｒｕ、 Ｍｏ、 Ｂｅ、 Ｒｈ
とした。
このような対策により全体の膜厚を厚くし強度を持たせ
、パスウェア耐久性を確保し、また磁性層厚さを０．２
μｍにすることにより、高記録密度が可能な垂直媒体の
作製が可能となる。
、パスウェア耐久性を確保し、また磁性層厚さを０．２
μｍにすることにより、高記録密度が可能な垂直媒体の
作製が可能となる。
以下に、本発明による比較例及び実施例について実験し
た結果を、図を参照しながら詳しく説明する。本発明の
実施例は、第１図に示すように高分子フィルム上上に非
磁性層２を形成し、更にその土に垂直磁気記録用の磁性
層３を形成し、その表面に保護膜４を形成したものであ
る。以下実験の内容について順を追って説明する。
た結果を、図を参照しながら詳しく説明する。本発明の
実施例は、第１図に示すように高分子フィルム上上に非
磁性層２を形成し、更にその土に垂直磁気記録用の磁性
層３を形成し、その表面に保護膜４を形成したものであ
る。以下実験の内容について順を追って説明する。
（比較例）
第４図に示した従来の垂直磁気記録用の連続磁性薄膜媒
体として、高分子フィルム１１である厚さ３０μｍのポ
リイミドフィルム上に、マグネトロンスパッタリング法
により垂直磁気記録用の磁性層１２であるＣｏＣｒ （
Ｃｒ ： １７ｗｔ％、Ｃｏ：ｂａｌ）の膜厚０．２μ
ｍを形成し、その上に保護膜１３としてＣを２００人形
成した。
体として、高分子フィルム１１である厚さ３０μｍのポ
リイミドフィルム上に、マグネトロンスパッタリング法
により垂直磁気記録用の磁性層１２であるＣｏＣｒ （
Ｃｒ ： １７ｗｔ％、Ｃｏ：ｂａｌ）の膜厚０．２μ
ｍを形成し、その上に保護膜１３としてＣを２００人形
成した。
（実施例１）
第１図に示した本発明の垂直磁気記録用の連続磁性薄膜
媒体として、高分子フィルム１である厚さ３０μｍのポ
リイミドフィルム上に、マグネトロンスパッタ法により
非磁性層２であるＭｏ （単体）の膜厚０．１μｍを形
成し、更にその上に垂直磁気記録用の磁性層３としてＣ
ｏＣｒ（Ｃｒ：１７ｗｔ％、 Ｃｏ：ｂａｌ）の膜厚０
．２μｍを形成し、その表面に保護膜４を２００人形成
した。
媒体として、高分子フィルム１である厚さ３０μｍのポ
リイミドフィルム上に、マグネトロンスパッタ法により
非磁性層２であるＭｏ （単体）の膜厚０．１μｍを形
成し、更にその上に垂直磁気記録用の磁性層３としてＣ
ｏＣｒ（Ｃｒ：１７ｗｔ％、 Ｃｏ：ｂａｌ）の膜厚０
．２μｍを形成し、その表面に保護膜４を２００人形成
した。
（実施例２）
実施例１においてＭｏの膜厚を０．２μｍとした。
（実施例３）
実施例１においてＭＯの膜厚を０．３μｍとした。
（実施例４）
実施例１においてＭＯの膜厚を０．４μｍとした。
（実施例５）
実施例］においてＭｏの膜厚を０．５μｍとした。
以下余白
（実施例６）
実施例１においてＭｏの膜厚を０．６μｍとした。
（実施例７）
実施例１においてＭｏをＩｒとした。
（実施例８）
実施例１においてＭＯをＯｓとした。
（実施例９）
実施例１においてＭＯをＣｒとした。
（実施例１０）
実施例１においてＭＯをＢｉとした。
（実施例１１）
実施例１においてＭＯをＷとした。
（実施例１２）
実施例１においてＭＯをＲｕとした。
（実施例１３）
実施例１においてＭＯをＢｅとした。
（実施例１４）
実施例１においてＭＯをＲｈとした。
実施例１〜６及び比較例における試料の、ＭＯの非磁性
層２の膜厚をパラメータとするパスウェア耐久性の関係
を第２図に示す。これは市販のＳＶ記録再生機を用い、
記録周波数１０ＭＨｚで試験を行った。
層２の膜厚をパラメータとするパスウェア耐久性の関係
を第２図に示す。これは市販のＳＶ記録再生機を用い、
記録周波数１０ＭＨｚで試験を行った。
第２図において比較例耐久特性５、実施例１耐久特性６
、実施例２耐久特性７及び実施例３〜６耐久特性８をそ
れぞれ比較すれば分かるように、Ｍ。
、実施例２耐久特性７及び実施例３〜６耐久特性８をそ
れぞれ比較すれば分かるように、Ｍ。
の非磁性層２が０．２μｍ及びそれ以上の試料である実
施例２〜６（実施例２耐久特性７及び実施例３〜６耐久
特性８）において、２００万パス以上のパスウェア耐久
性が得られた。第３図は実施例７〜１４の試料のパスウ
ェア耐久性において、出力が平坦部の８０％以下になっ
た時のパス数を示したものである。どの非磁性層２にお
いても２００万パス以上の耐久性が得られた。即ち上記
各々の非磁性層２の厚さ０．２μｍ以上を設け、その上
にＣｏＣｒの磁性層３を設けることにより、高密度記録
再生が可能で且つパスウェア耐久性の高い垂直磁気記録
用の連続磁性薄膜媒体が得られた。
施例２〜６（実施例２耐久特性７及び実施例３〜６耐久
特性８）において、２００万パス以上のパスウェア耐久
性が得られた。第３図は実施例７〜１４の試料のパスウ
ェア耐久性において、出力が平坦部の８０％以下になっ
た時のパス数を示したものである。どの非磁性層２にお
いても２００万パス以上の耐久性が得られた。即ち上記
各々の非磁性層２の厚さ０．２μｍ以上を設け、その上
にＣｏＣｒの磁性層３を設けることにより、高密度記録
再生が可能で且つパスウェア耐久性の高い垂直磁気記録
用の連続磁性薄膜媒体が得られた。
尚本例では、磁性層３をＣｏＣｒとしたが、スパッタリ
ング法により形成される他の垂直磁気記録用の磁性層に
も、非磁性層の下地を形成することにより同様の効果が
あることは明らかであり、本実施例のみに制限されるも
のではない。
ング法により形成される他の垂直磁気記録用の磁性層に
も、非磁性層の下地を形成することにより同様の効果が
あることは明らかであり、本実施例のみに制限されるも
のではない。
ハ１発明の効果
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、高密度での記録再生
が可能で、且つパスウェア耐久性の高い垂直磁気記録用
の連続磁性薄膜媒体を提供することが出来る。
が可能で、且つパスウェア耐久性の高い垂直磁気記録用
の連続磁性薄膜媒体を提供することが出来る。
第１図は、本発明の実施例の連続磁性薄膜媒体の断面模
式図。 第２図は、本発明の実施例１〜６及び比較例のパスウェ
ア耐久性特性図。 第３図は、本発明の実施例７〜１４のパスウェア耐久性
において、出力が平坦部の８０％以下になった時のパス
数を示す図。 第４図は、従来（比較例）の連続磁性薄膜媒体の断面模
式図。 第５図は、従来の連続磁性薄膜媒体の磁性層膜０ 厚をパラメータとした再生出力−記録密度特性図。 第６図は、従来の連続磁性薄膜媒体の磁性層膜厚をパラ
メータとしたパスウェア耐久性特性図である。 １・・・高分子フィルム、２・・・非磁性層、３・・磁
性層、４・・・保護膜、５・・・比較例耐久特性、６・
・・実施例］耐久特性、７・・・実施例２耐久特性、８
・・・実施例３〜６耐久特性、１１・・・高分子フィル
ム、１２・・・磁性層、１３・・・保護膜、１４・・・
磁性層膜厚０．２μｍ記録密度特性、１５・・・磁性層
膜厚０．３μｍ記録密度特性、１６・・・磁性層膜厚０
．５μｍ記録密度特性、１７・・・膜厚０．２μｍ耐久
特性、１８・・・膜厚０．３μｍ耐久特性、１９・・・
膜厚０．４μｍ耐久特性、２０・・・膜厚０．５μｍ耐
久特性、２１・・・市販媒体耐久特性。 参考文献 １）Ｙ、Ｍｏｔｏｍｕｒａ ａｎｄ Ｋ、Ｔａｇａｍｉ
ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、Ｍａｇｎ ＭＡＧ−２２（１
９８６）
式図。 第２図は、本発明の実施例１〜６及び比較例のパスウェ
ア耐久性特性図。 第３図は、本発明の実施例７〜１４のパスウェア耐久性
において、出力が平坦部の８０％以下になった時のパス
数を示す図。 第４図は、従来（比較例）の連続磁性薄膜媒体の断面模
式図。 第５図は、従来の連続磁性薄膜媒体の磁性層膜０ 厚をパラメータとした再生出力−記録密度特性図。 第６図は、従来の連続磁性薄膜媒体の磁性層膜厚をパラ
メータとしたパスウェア耐久性特性図である。 １・・・高分子フィルム、２・・・非磁性層、３・・磁
性層、４・・・保護膜、５・・・比較例耐久特性、６・
・・実施例］耐久特性、７・・・実施例２耐久特性、８
・・・実施例３〜６耐久特性、１１・・・高分子フィル
ム、１２・・・磁性層、１３・・・保護膜、１４・・・
磁性層膜厚０．２μｍ記録密度特性、１５・・・磁性層
膜厚０．３μｍ記録密度特性、１６・・・磁性層膜厚０
．５μｍ記録密度特性、１７・・・膜厚０．２μｍ耐久
特性、１８・・・膜厚０．３μｍ耐久特性、１９・・・
膜厚０．４μｍ耐久特性、２０・・・膜厚０．５μｍ耐
久特性、２１・・・市販媒体耐久特性。 参考文献 １）Ｙ、Ｍｏｔｏｍｕｒａ ａｎｄ Ｋ、Ｔａｇａｍｉ
ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、Ｍａｇｎ ＭＡＧ−２２（１
９８６）
Claims (1)
- １、高分子フィルムにスパッタリング法により作製され
る連続磁性薄膜媒体において、前記高分子フィルム上に
非磁性層としてＩｒ、Ｏｓ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｗ、Ｒｕ、Ｍ
ｏ、Ｂｅ、Ｒｈのいずれかの層を厚さ０．２μｍ以上設
け、その上に垂直磁気記録層を形成することを特徴とし
た連続磁性薄膜媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4172290A JPH03245324A (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 連続磁性薄膜媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4172290A JPH03245324A (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 連続磁性薄膜媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03245324A true JPH03245324A (ja) | 1991-10-31 |
Family
ID=12616312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4172290A Pending JPH03245324A (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | 連続磁性薄膜媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03245324A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1293969B1 (en) * | 2001-09-14 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP4172290A patent/JPH03245324A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1293969B1 (en) * | 2001-09-14 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
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