JPH03239507A - Siインゴットのワイヤソーによる切断法 - Google Patents

Siインゴットのワイヤソーによる切断法

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JPH03239507A
JPH03239507A JP3367290A JP3367290A JPH03239507A JP H03239507 A JPH03239507 A JP H03239507A JP 3367290 A JP3367290 A JP 3367290A JP 3367290 A JP3367290 A JP 3367290A JP H03239507 A JPH03239507 A JP H03239507A
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JP
Japan
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wire
ingot
reel
cutting
working liquid
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Pending
Application number
JP3367290A
Other languages
English (en)
Inventor
Yamato Sakou
左光 大和
Nobuo Yasunaga
安永 暢男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/04Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by tools other than rotary type, e.g. reciprocating tools
    • B28D5/045Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by tools other than rotary type, e.g. reciprocating tools by cutting with wires or closed-loop blades
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/007Use, recovery or regeneration of abrasive mediums

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は加工液あるいは砥粒と反応するSiインゴッ
トをワイヤを用いて切断する方法に関するものである。
従来の技術 従来のSiのインゴットの切断法は内周刃で切断してい
るが、直径が6インチまでは反りが15pm以下で切断
可能であるが、8インチ以上では内周刃の剛性が保てず
、反りが154mを越え品質上好ましくない、ダイヤモ
ンドの固定砥粒で切断するため、加工変質層は307t
mを越える。
また従来の遊離砥粒によるワイヤソーのSiインゴット
の切断法(例えばS83精密工学会秋季大会学術講演会
 高能率・高精度マルチワイヤソーの開発)は、ワイヤ
送り速度を4001/sinから1200■/winの
高速度にしなければ、0.71■/winの高切断速度
が得られない、ワイヤ送り速度を高速度にすればワイヤ
の摩耗やリールの摩耗が激しい問題点がある。また砥粒
は直接S1インゴット表面のシリコン酸化膜に当たる為
、垂直荷重が高く、このため加工変質層が深い問題点が
ある。
発明が解決しようとする課題 上記問題に鑑み、本願発明はワイヤソーを用いて高切断
速度でSiインゴットを切断する方法を提供することを
目的とする。
課題を解決するための手段 本発明はSiインゴットを切断する方法において、ワイ
ヤを用い、砥粒を加工液に加えた遊離砥粒を用いるとと
もに、前記加工液のPHを7.5以上9未満とし、高切
断速度でSiインゴットの切断を可能とするものである
作用 以下本発明について詳細に説明する0本発明による被切
断物はSiの加工液あるいは砥粒と反応するインゴット
で、直径が3から10インチで長さが300から200
0■■のSi単結晶の円柱である。
ワイヤソーの機構を第1図に示す、テーブル9上に固定
されたSiインゴットlを、テーブル9を方向8に押し
あげることによりワイヤ2に接触させる。ワイヤ2はピ
アノ線でもよく、アモルファス線でもよい、ワイヤの線
径は0.08mmから0.25mmを用いる。前記ワイ
ヤ2には右巻き取りリール3と左巻き取りリール4によ
り一定の張力Tをかけ、かつ右巻き取りリール3で巻き
取り、左巻き取りリール4に巻きつけられたワイヤがな
くなれば反転し、左巻き取りリール4で巻き取る。
加工液7はPHをPH7.5以上9未満のアルカリ液を
用い、KOFIかNaOHが適している。加工液7はノ
ズル6によりSiインゴットl上に供給する。
第2図に第1図のワイヤ送り方向から見たSiインゴッ
トlの切断の図を示す0本発明の最も特徴とするところ
は、加工液7にSiまたはSiの酸化物と化学反応を起
こすアルカリを懸濁した溶液を使用する点にある。砥粒
10は例えばSiCでもよく、アルミナでもよい、砥粒
サイズは・300から@2000がよい。
第2図に示すように、加工液7は既に切断された溝12
の中に供給され、溝12の底にいたる、加工液7に含ま
れるアルカリにより溝12の底のSiまたはSiの酸化
物は反応し、反応生成物11を作る0反応生成物は加工
液7により生成するが、SiまたはSiの酸化物と化学
反応を起こすBaCO3、CaCO3,等の砥粒を用い
て反応生成物11を作ることも可能である。
この反応生成物とワイヤの間に砥粒lOが入り、Siイ
ンゴッ)1は押し上げ方向8に押し上げられる為、張力
Tにより張られたワイヤ2より反力を受け、砥粒10は
反応生成物11に押しつけられる。
同時にワイヤ2は第2図の紙面直角方向に送られている
為、砥粒lOはSiの母材よりはるかに脆くなった反応
生成物11を容易に削る。
反応生成物11は脆く、容易に削れるため、第3図に示
す様にワイヤ2がSiインゴット1に接している切断内
14で押し上げ荷重15を割った垂直荷重Wは487厘
1以下でも、Siインゴットlの上昇速度(切断速度と
いう)は0.5mm/winから1.5mm/winの
高い偵が得られる。垂直荷重WはQ、5g/am〜4 
gem鵬とするのが望ましい。
第2図の加工変質層18は10JLm以下である。この
時のワイヤの送り速度は500■/■in以下であり、
低速でSiインゴットの切断ができる。
また前記垂直荷重Wが低いため、水平分力13も低く、
張力Tによりワイヤに作用する応力は30kg11口2
の低い値でもワイヤの直線性が良く、もちろん高い応力
は破断応力の300kg/am2まで使用でき、第4図
に示すように切断後のSiウェハ16を平面上に置いて
最も低いところと最も高いところの差である反り17は
1101L以下である。
第1図では一本のワイヤでSiインゴットを切断してい
る図を示したが、アイドラリール5をインゴットの長さ
に対応させて多段に配置することにより、同時に複数枚
の切断が可能である。
加工液はアルカリの場合はPHをPH7.5以上9未満
でSiまたはSiの酸化物との反応が進む、アルカリは
KOHかNaOHの水溶液が好ましい。
切断速度は2.0−1/sinを越えると反りが10p
mを越える。垂直荷重Wは0.5g/am以下では切断
速度が0.5■■/win以下となり、48/■以上で
は加工変質層が20pmを越える。ワイヤ張力Tによる
応力は300kg/s■2越えると断線するし、30k
g/ms2未満であると反りが1101Lを越える。従
ってウェハの反りを優先すれば高い応力が適し、ワイヤ
ー寿命を優先すれば低い応力が適している。砥粒サイズ
は1300以下では切断面が荒れ、112000以上で
は垂直荷重Wが増加し、反りは15gm以上になる。
ワイヤ線径は0.08mmφ以下では、反りを15pm
以下にするために張力Tを上げ応力を300kg/mm
2とする必要があり、断線する。 0.25m5+φ以
上では切断による切り代が多く実用性にとぼしい。
実施例 実施例1 5inのSiインゴットを以下の条件で切断した。
即ち加工液はKO)l水溶液でPHをPH7.5、温度
60℃。
垂直荷重Wは3g/■1、砥粒はGOの・800、ワイ
ヤは線径が0.125mφのピアノ線で張力は1.5k
g(応力133kg/m■2)である、その結果、切断
速度1.0mm/win、反り5.8gm、加工変質層
9gal)S1ウエハを得られた。
実施例2 8inのSiインゴットを以下の条件で切断した。
即ち加工液はKO[(水溶液でPH8,5、温度55℃
、垂直荷重Wは3.5g/ms+、砥粒はCCの・60
0.ワイヤは線径が0.18■鵬φのピアノ線で張力は
2.0kg(応カフ9kg/s++s2)である、その
結果、切断速度1.5ms/+win 、反り8.0p
m、加工変質層10gmのSiウェハを得られた。
実施例3 10 inのSiインゴットを以下の条件で切断した。
即ち加工液はKOH水溶液でPH8,9、温度60℃、
垂直荷重Wは38/■園、砥粒はGCの11500、ワ
イヤは線径が0.20■■φピアノ線で張力は2.ok
g(応力63.7kg/am2)である、その結果、切
断速度2.0+*m/win、反り9.5 p、 m、
加工変質層8.OILmのSiウェハを得られた。
発明の効果 従来直径8インチのSiインゴットは内周刃では反りを
151Lm以下で切断できなかったが、本発明により、
10インチインゴットでも反りを151Lm以下にする
ことが可能になった。このためシリコンウェハからデバ
イスを作る時の焦点合わせが高精度で可能であり、記憶
容量は現在のINよりはるかに高い84M対応が可能に
なった。
【図面の簡単な説明】
第1図はワイヤソーの機構の説明図、第2図は砥粒を介
してワイヤでアルカリまたは酸で脆くなったSiインゴ
ツト面を切断している状態を説明する図、第3図は垂直
荷重を説明するための図、第4図はSiウェハの反りを
説明するための図である。 l・・・Siインゴット、2・・・ワイヤ、3・・・右
捲取すリール、4・・・左捲取すリール。 5・・・アイドラリール、6・・・ノズル、7・・・加
工液、8・・・押上方向、9・・・テーブル、lO・・
・砥粒、11・・・反応生成物、12・・・溝、13・
・・水平分力、14・・・切断線巾、15・・・押上荷
重、16・・・Siウェハ、17・◆・反り、18・・
・加工変質層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Siインゴットを砥粒を添加した加工液を使用してワイ
    ヤソーで切断する方法において、前記加工液のPHをP
    H7.5以上PH9未満とすることを特徴とするSiイ
    ンゴットのワイヤソーによる切断法。
JP3367290A 1990-02-16 1990-02-16 Siインゴットのワイヤソーによる切断法 Pending JPH03239507A (ja)

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