JPH03223318A - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents

光硬化性樹脂組成物

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JPH03223318A
JPH03223318A JP2017971A JP1797190A JPH03223318A JP H03223318 A JPH03223318 A JP H03223318A JP 2017971 A JP2017971 A JP 2017971A JP 1797190 A JP1797190 A JP 1797190A JP H03223318 A JPH03223318 A JP H03223318A
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grafted
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acid anhydride
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JP2017971A
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Hisao Narahara
奈良原 久男
Fumio Shiratori
白鳥 文男
Tatsuo Yamaguchi
辰夫 山口
Hiroyoshi Omika
大美賀 広芳
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Nippon Petrochemicals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は共役ジエン重合体もしくは共役ジエン共重合体
を変性してなる特定の変性樹脂に、特定のグラフトシリ
カ等のグラフト無機粉体を配合してなる光硬化性樹脂組
成物に関するものである。
特に光硬化させるプリント配線板の製造に適した光硬化
性樹脂組成物に関するものである。
[従来の技術] 従来、プリント配線板の製造方法には種々の方法が開発
されてきたが、特に光硬化性の感光性樹脂をエツチング
レジストまたはメツキレジストとして用いる方法が、近
年主流となってきた。
前者は、基板上に光硬化性樹脂組成物の層を何らかの方
法で作成し、次いでネガ型の回路パターンマスクを密着
させ、活性光線を照射し、必要部を硬化させ、未硬化部
分を現像により除去し、次いでエツチングすることによ
り所定の回路パターンを得る方法である。
後者は、マスクを逆パターンとし、必要部の樹脂膜を現
像で除去し、この部分を耐エツチング性の半田メツキ等
を行ない、次いで不必要部の樹脂膜を剥離した後、エツ
チングして所定の回路パターンを得るものである。
ここで回路パターンマスクとは、写真におけるネガに相
当し、透明基板上に適宜のパターンを形成する光遮断層
が形成されている。基板はガラス性のものもあるが、ポ
リエステル等のプラスチックフィルムが主流である。遮
断層の材料はCrやAg等の金属が使用されることが多
い。
この光硬化性樹脂組成物の一般的な構成は、■バインダ
ーポリマー、■光重合性のモノマーまたはオリゴマー(
架橋剤)、■光重合開始剤、■その他(安定剤、着色剤
、難燃化剤)等からなる。
バインダーポリマーの役割はフィルム形状を持たせるこ
とで、アクリル系のポリマーが主に使われ、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステルおよびスチレン等を共重合させた分子量敵方のも
のである。
光重合性モノマー/オリゴマーにもアクリロイル基やメ
タクリロイル基を持ったものが使われる。
この組成物を用い必要部のみ露光して、不溶化させるの
が原理である。
[発明が解決しようとする課題] 特定のマレイン化変性油を用いた光硬化性樹脂組成物を
エツチングレジスト等の、いわゆるフォトレジストとし
て用いる方法として、例えば特公昭52−21528号
公報に記載されているが、ここに記載の組成物はマレイ
ン化変性油と一分子中に不飽和結合を2個以上有するエ
チレン性不飽和化合物との混合物であるため、得られた
光照射前の塗膜は、指触試験において常温タック性を有
していることが本発明者等の試験により判明した。
すなわち、通常プリント配線板の製造に当たり、形成し
た感光塗膜に回路パターンマスクを真空密着し、UV露
光するか、このとき感光性樹脂塗膜に常温タック性があ
ると、露光後の回路パターンマスクを剥離する際、塗膜
が一部マスクに付着する。これを防ぐために露光後、冷
却装置や冷却槽を置けばよいが、この結果、設備費が多
くかかる、工程が一つ増え、煩雑になる等の欠点が生じ
るため好ましくない。回路パターンマスクに剥離剤等を
塗布することはファインパターン形成に悪影響を与える
。そこで、本発明者等は特願昭63−189596号に
おいて、共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体に
a、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加することによ
り軟化点(JIS−に−2531−60の環球式軟化点
測定法による)が70〜200℃の範囲にある付加生成
物を得て、次いてアルコール性水酸基を持つα、β−不
飽和モノジカルボン酸エステルで一部または全部を開環
し、共役二重結合を導入することにより製造された変性
樹脂により形成された感光性樹脂塗膜は、指触試験にお
ける常温タック性は殆ど無いことを報告した。
ここで、実機において感光性塗膜が回路パターンマスク
に付着する度合は、温度、圧力、時間等の各条件に依存
する。いずれも温度が高くなるほど、圧力が高いほどま
た時間が長くなるほど付着し易くなる。例えば、実機で
は連続使用であるために光源の熱放射により雰囲気自体
の温度が上昇し易い、またマスクを真空密着させるため
に圧力がかかりより付着し易い等の現象が生じるのであ
る。
そこで、本発明者等は、より実機に近い条件でもって感
光性塗膜の付着試験を行なったところ、上記特願昭63
−189598号の技術では必ずしも満足できないこと
が判明した。
すなわち、新たな試験においては露光後パターンマスク
を剥離する際、明瞭に剥離音を発する等のマスクに対し
完全なタックフリー性を持たないことが明らかになった
。このタックフリー性が十分てないと、工業生産におい
て同一のパターンマスクを多数回使用する場合、マスク
に樹脂が付着することが生し、これにより高価なパター
ンマスクが使用不能になったり、極端な場合には形成し
ようとするレジストパターンに欠落や短絡が生じるとい
うことになる。
また、形成された感光性塗膜には、ある程度の硬度が必
要である。これは、プリント配線板製造工程において、
各工程間はコンベアラインで結ばれている。すなわち感
光性樹脂膜を形成された基板は露光工程へとコンベアラ
インで運ばれるが、このとき塗膜が柔らかいと移送時に
傷がつく可能性がある。上述の変性樹脂により形成され
た感光性樹脂塗膜は、この硬度が十分ではない。
すなわち、本発明は実質的にタックフリーで、かつ十分
なる硬度を有する感光性塗膜が得られる組成物を提供す
ることを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、(a)数平均分子量が500〜5000、ビ
ニル基含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体また
は共役ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS
−に−2531−60の環球式軟化点測定法による)が
70〜200℃の範囲にあるα、β−不飽和ジカルボン
酸無水物付加物に、 一般式、 (式中、R1およびR2は水素原子またはメチル、R3
はへテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化水素残
基) で表わされるアルコール性水酸基を持つα、β−不飽和
モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
より得られた変性樹脂100重量部、 (b)飽和もしくは不飽和の置換もしくは未置換炭化水
素残基が、001μm以下の粒度を有する無機粉体にグ
ラフトしてなるグラフト無機粉体(無機原子−個当りの
グラフト炭化水素残基における炭素数の合計は4個以上
)3〜50重量部、および(C)光重合開始剤0.1〜
20重量部、からなることを特徴とする光硬化性樹脂組
成物に関する。
以下に本発明をさらに説明する。
本発明においては、共役ジエン重合体または共役ジエン
共重合体にα、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加す
ることにより、軟化点(JIS−に−2531−60の
環球式軟化点測定法による)が70〜200℃の範囲に
ある付加生成物を得て、次いでこれにアルコール性水酸
基を有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルによ
り酸無水基の一部または全部を開環することにより製造
された変性樹脂(a)を用いる。
ここで用いられる共役ジエン重合体または共役ジエン共
重合体とは、ブタジェンおよびイソプレン等の炭素数4
〜5の共役ジオレフィンの低重合体、またはこれらの共
役ジオレフィンの一種または二種以上とエチレン性不飽
和結合を有するこれらの共役ジオレフィン以外のモノマ
ー、特にイソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、・
α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエ
ンのような脂肪族または芳香族モノマーとの低重合度共
重合体である。またこれらの二種以上の混合物も利用す
ることができる。
上記共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体はビニ
ル基含有量が50モル%以上て数平均分子量500〜5
000の範囲のものが用いられる。この時、ビニル基含
有量が50モル%未満のものは架橋密度が小さく好まし
くない。また、数平均分子量が500未満のものは、得
られる感光性塗膜の強度が低く、−刃数平均分子量が5
000を越えるものは平滑な塗膜が得られないので何れ
も好ましくない。
ここで、上記変性樹脂(a)の製造は以下のようにして
行なうことが出来る。
共役ジエン重合体または共役ジエン共重合体の製造は従
来公知の方法で行われる。すなわちアルカリ金属または
有機アルカリ金属化合物を触媒として炭素数4〜5の共
役ジオレフィン単独、またはこれらのジオレフィン混合
物、あるいは共役ジオレフィンに対して好ましくは50
モル%以下の量の芳δ族ビニルモノマー、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンまたはジビニ
ルベンゼンとを0℃から 100℃の温度でアニオン重
合させる方法か代表的な製造方法である。この場合、分
子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低重合物を
得るためには、ベンジルナトリウムのような有機アルカ
リ金属化合物を触媒とし、アルキルアリール基を有する
化合物、例えばトルエンを連鎖移動剤とする連鎖移動重
合法(米国特許節3,789,090号)またはテトラ
ヒドロフラン溶媒中でナフタリンのような多環芳香族化
合物を活性剤とし、ナトリウムのようなアルカリ金属を
触媒とするリビング重合法(特公昭42−17485号
公報、同43−27432号公報)、あるいはトルエン
、キシレンのような芳香族炭化水素を溶媒とし、ナトリ
ウムのような金属の分散体を触媒とし、ジオキサンのよ
うなエーテル類を添加して分子量を制御する重合法(特
公昭32−7448号公報、同33−1245号公報、
同3l−1011i8号公報)等が好適な製造方法であ
る。また周期律表中第■族金属、例えばコバルトまたは
ニッケルのアセチルアセトナート化合物およびアルキル
アルミニウムハロゲニドを触媒とする配位アニオン重合
によって製造される低重合体(特公昭45−507号公
報、同4B−30300号公報)も用いることができる
次に、これら共役ジエン重合体または共役ジエン共重合
体にα、β−不飽和ジカルボン酸無水物を付加させるこ
とにより酸無水基の付加物を製造する。
本発明に言うα、β−不飽和ジカルボン酸無水物として
は無水マレイン酸、無水シトラコン酸、クロル無水マレ
イン酸等が挙げられる。
通常、この付加反応は、これら単独、もしくはこれら両
者を溶解する不活性溶媒中で、反応温度100〜250
℃で行なわれる。この際、ゲル化防止剤として、ハイド
ロキノン、カテコール類、 p−フェニレンジアミン誘
導体等が0.1〜0.3重量部添加される。
本発明においては、得られる酸無水物の付加物の軟化点
(前記環球式軟化点の測定方法による)が70〜200
℃の範囲となるようα、β−不飽和ジカルボン酸無水物
を付加することが肝要である。
軟化点が70℃未iZだと得られる塗膜にタックが生し
、200℃を越えると平滑な塗膜が得られず、好ましく
ない。この軟化点は主に原料である共役ジエン重合体ま
たは共役ジエン共重合体の不飽和結合の含有量、分子量
およびα、β−不飽和ジカルボン酸無水物の付加量等に
依存する。例えば数平均分子ffi 1000の液状ブ
タジェン重合体を用いた場合は、全酸価として400m
gKOH/g以上の値が必要である。
次に、本発明では上記のようにして得られた酸無水物の
付加物に、前記(1)式で表されるアルコール性水酸基
を有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルを反応
させ酸無水基の少なくとも一部を開環させた前記(a)
に記載の変性樹脂を製造する。
前記式(1)におけるR3基の炭素数は、好ましくは2
〜20であり、含んでも良い好ましいヘテロ原子は窒素
および酸素である。
具体的な前記(I)式で表されるアルコール性水酸基を
有するα、β−不飽和モノカルボン酸エステルは具体的
には、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、 2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、N−メチロールアクリルアミド、2−ヒドロキ
シ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート等があり
、これらは単独、または混合して用いることができる。
これらによる酸無水基の開環反応は通常塩基触媒の存在
下で、100℃以下の比較的低温で行なわれる。ここに
おいて、開環反応は必ずしも酸無水基の全部を行なう必
要がなく、例えば50%開環し、残りの酸無水基は不飽
和基を持たないアルコールや水で開環したものでよい。
また−級アミン含有化合物でイミド化したものも挙げら
れる。もちろん全ての酸無水基を開環させてもよい。な
お、この反応の際、これらに対し反応性を持たなく、か
つ両者を溶解する溶媒を用いることが好ましい。
この例としてトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類、およびジ
アセトンアルコール等の三級アルコール類等が挙げられ
る。
何れにしろアルコール性水酸基を有するα、β−不飽和
モノカルボン酸エステルにより開環させる割合は、酸無
水基の10モル%以上、好ましくは30モル%以上であ
ることが光硬化性の点から適当である。10モル%未満
ては、光硬化性が不十分となるので好ましくない。
かくすることにより前記(a)の変性樹脂が製造される
グラフト無機粉体(b)の製造法については、いずれも
無機粉体の無機粒子上に存在するOH−基等の官能基に
シラン化合物等をグラフトさせることにより製造される
ものであって、例えば特公昭62−21815号公報、
“「日本接着協会誌J 、VOI 21゜p、 252
 (1985) ’   “「表面J 、Vol 12
1.p、 157(1983)等に詳細に記載されてい
る。−船釣には主に次のグラフト方法に従い、飽和もし
くは不飽和の置換もしくは未置換炭化水素基が無機粉体
粒子上の無機原子にグラフトされる。
(1)無機粉体、例えばシリカ上の−S10H基の塩化
チオニルによる塩素化、次いでその塩素化生成物のアル
コールによるアルキル化方法等に従う無機原子、例えば
シリカ上のケイ素原子へのアルキル基の導入方法。
(2)無機粉体、例えばシリカ上の一5f OH基また
はアルミナと、トリクロロビニルシラン等の有機置換基
を持つクロルシランとの反応による無機原子、例えばシ
リカまたはアルミナ上のケイ素原子またはアルミニウム
原子への有機置換基の導入方法。
(3) シリカ上の−SI OH基またはアルミナとシ
ラノール基と有機基を持つシラン化合物との反応による
無機原子、例えばシリカまたはアルミナ上のケイ素原子
またはアルミニウム原子へのシラノール基の導入方法。
グラフトされるべき好ましい無機粉体は、平均粒径が0
.001〜0.1μ鵡のシリカまたはアルミナである。
0.1amより粒径の大きな無機粉体では、塗面が平滑
にならない、また硬度が上昇しない等のために好ましく
ない。シリカとしては、熱分解シリカ、沈降シリカがよ
り好ましい。
シリカまたはアルミナ上のケイ素原子またはアルミニウ
ム原子に、直接、または酸素原子もしくはケイ素原子等
を介してグラフトされる飽和もしくは不飽和の置換もし
くは未置換炭化水素基は、ブチル、ヘキシル、ヘプチル
、オレイル、デカニル、(メタ)アクリロイルアルキル
、グリシドキシアルキル、3.4−エポキシシクロヘキ
シル−アルキル等の有機残基である。これらの基がエチ
レン性二重結合やエポキシ基を有するときは、光硬化に
より前記変性樹脂(a)と共重合することができる。
グラフトした炭化水素残基の合計の炭素数はケイ素等の
無機原子−個当り 4以上であることが好ましい。4未
満である場合には、増粘しやすいので扱いが困難である
。この点から、例えばトリメチルクロロシランと反応さ
せることによりグラフト化されたグラフトシリカは好ま
しくない。
グラフト化前の無機粉体に対して少なくとも20重量%
以上の量をグラフト化させることが好ましい。これより
少ないと平滑な塗面が得られない。
本発明においては、変性樹脂(a)  100重量部に
対し、グラフト化無機粉末(b)の配合量が3〜50重
量部、好ましくは3〜30重量部であることが肝要であ
る。添加量が3重量部未満だと得られる塗膜のタックお
よび鉛筆硬度の改良が十分でな(、添加量が30重量部
を越えると塗膜の平滑性が十分でなくなるためにいずれ
も好ましくない。
成分(b)のグラフト化無機粉体の配合方法は、成分(
a)の変性樹脂に直接、または溶剤に溶解もしくは分散
させて混合することができる。
本発明で更に加える前記(c)の光重合開始剤とは、従
来公知の通常の光重合開始剤でよく、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ミヒラーケト
ン、2,4−ジエチルチオキサントン等に加え、通常イ
ルガキュアー 184、イルガキュアー 651、イル
ガキュアー 907(チバガイギー社)、フロキュア−
1173(メルク社)等の商品名で市販される市販品で
もよい。これらは単独または混合して使用することが出
来る。これらの使用量は変性樹脂(a)  100重量
部に対し0.1〜20重量部であり、0.1重量部より
少なくなると光硬化性が低下するので好ましくなく、2
0重量部より多くなると得られた感光性塗膜の強度が劣
化するので好ましくない。
この塗膜にタックを生じさせない範囲で樹脂組成物に任
意の第4成分を加えることは許される。
この第4成分としてトリメチロールプロパントリアクリ
レートやペンタエリスリトールトリアクリレート等の光
重合性モノマー、アミノアクリレート等が挙げられる。
本発明において、変性樹脂(a)、グラフト化無機粉体
(b)および光重合開始剤(c)を配合した光硬化性樹
脂組成物は、従来公知の適当な溶剤に溶解させたいわゆ
るワニスとしてロールコータ、アプリケータ等の塗布用
塗料として用いられても良いし、水溶化または水分散し
て電着塗装液としても用いられる。
後者の電着塗装の場合、水溶化または水分散化するため
には変性樹脂(a)の有する酸量のうち少なくとも10
%以上を通常の塩基化合物で中和する方法が好適に使用
できる。中和が少なければ水溶性または水分散性が悪く
、水系塗料として好ましくない。中和に用いられる塩基
としては、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、N
、  N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン等のアミン類および水酸化カリウム等
が用いられる。また、水溶性あるいは水分散性を改良し
たり、塗膜のフロー性を調整する目的で、必要に応じ各
種の有機溶剤を使用することができる。このような有機
溶剤の例としては、エチルセルソルブ、ブチルセルソル
ブ、エチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトン
アルコール、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−2
、メチルエチルケトン等の水溶性有機溶剤、キシレン、
トルエン、メチルイソブチルケトン、 2−エチルヘキ
サノール等の非水系有機溶剤がある。
また上記のように中和してなる電着塗料組成物は水系で
あるので、安全上および製造上の利点は明らかである。
本発明の光硬化性樹脂組成物には、熱重合安定剤として
従来公知のハイドロキノン、2.6−ジ−ターシャルブ
チルバラクレゾール、バラベンゾキノン、ハイドロキノ
ン七ツメチルエーテル、フェノチアジン、α−ナフチル
アミン等を適宜に配合し使用できる。
本発明の感光性組成物は任意の基板に塗布することが出
来るが、以下に銅張り積層板に塗布する場合を例に取り
説明する。
銅張り積層板への塗布方法は通常のデイツプコート、ロ
ールコート、カーテンコートのほか常法に従って水系塗
料とし電着法を用いて塗布してもよい。なお、乾燥は通
常120℃以下、好ましくは100℃以下で5〜20分
行なう。この時温度が120℃以上になると塗膜の熱硬
化が生じるため好ましくない。
こうして得られた塗膜は常温でタックがなく平滑な塗面
を持つために回路パターン製造用の感光性塗膜に最適で
ある。
この銅張り積層板に塗布した感光性塗膜に、ネガ型マス
クを介して紫外線等の活性線を露光し、マスクの露光部
の塗膜を硬化せしめる。
硬化のための活性線は、光重合開始剤の吸収波長によっ
ても異なるが通常は、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧
水銀灯等の光源から発せられる紫外線または電子線加速
器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等の活性
エネルギー線である。光源光度、照射時間等は適宜に決
定することが出来る。活性線を照射する雰囲気としては
大気中でもまた窒素等の不活性雰囲気下でも良い。
光硬化後、適当な現像液で現像することにより、未露光
部が溶出して回路パターン部の導電性被膜が露出し、こ
れをエツチング液で除去し、さらに適当な剥離液で硬化
塗膜を除くことにより、極めて高解像度の配線パターン
が完成する。なお、現像後、耐エツチング性をより高め
るため、さらにUV照射や120℃以上の温度で残存塗
膜の後硬化をおこなってもよい。
[発明の効果] 本発明により実機の露光装置においても実質的にタック
フリーでかつ十分な硬度を有する感光性塗膜が得られる
。従って、本発明の光硬化性樹脂組成物は光感元型のプ
リント配線板の製造方法に適するものである。また、本
発明の組成物は塗布後の乾燥時における塗膜の過度のフ
ローを抑制するため、乾燥時に感光性塗膜がフローし、
エツジ部の膜厚が薄くなり、その結果、エツチングの際
の保護が十分行われずに生じる、スルーホールのエツジ
部の欠損を防ぐ効果もある。
[実施例」 以下に本発明を実施例等によって詳細に説明する。なお
、本発明は以下の実施例には限定されない。
製造例1 ベンジルナトリウムを触媒とし、連鎖移動剤トルエンの
存在下に30℃でブタジェンを重合させて得られた数平
均分子量1000.25℃における粘度14ポイズ、1
.2結合65%の液状ブタジェン重合体322g、無水
マレイン酸245g、キシレン10gおよびアンチゲン
6C(住友化学■製、商品名)1.1gを還流冷却管お
よび窒素吹き込み管付きの14のセパラブルフラスコに
仕込み、窒素気流下に190℃で4.5時間反応させた
。次に未反応無水マレイン酸、キシレンを留去させ、全
酸価480j19KOH/gのマレイン化ブタジェン重
合体を合成した。このものの軟化点(環球式軟化点 J
IS−に−2531−80)は128℃であった。
得られたマレイン化ブタジェン重合体200g。
ジアセトンアルコール180g、ヒドロキノン0.2g
を還流冷却管および空気吹き込み管付きの lJのセパ
ラブルフラスコに仕込み、80℃のオイルバスに漬け、
フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化ブタジェン重合体を
完全に溶解させた。
次いで、吹き込み管にて空気を少量づつ反応混合液内に
吹き込みつつ、2−ヒドロキシプロピルアクリレート 
117.6g 、およびトリエチルアミン16gを加え
、70℃で6時間反応させて変性樹脂Aを得た。変性樹
脂Aの不揮発分濃度は57%、酸価は178aIyK 
01(/樹脂gであった。
製造例2 内容積100Jの撹拌機付き槽に純水を50Kg入れ、
酢酸を加えてpH3,5に調整し、シランカップリング
剤A 174 (γ−メタクリロキシプロピルートリメ
トキシシラン:日本ユニカー味製) 1.25Kgを入
れ、室温で1時間撹拌し、シランカップリング剤A17
4のメトキシ基を十分加水分解する。次いで高純度超微
粒子シリカであるアエロジル380(日本アエロジル■
製)  5に9を約40〜60分かけ徐々に入れる。そ
の後、素早く混合物を減圧度150〜1oOs+Hg 
、系内温度250度、ローター回転数2000Orpm
でスプレードライヤー(NIROATO旧ZER092
−0929−00)にかけ、脱水、乾燥し、グラフト化
シリカを得た。
実施例1 製造例1で得られた変性樹脂Aに、樹脂固形分100重
量部に対し20重量部となるように、製造例2て得られ
たグラフト化シリカを加え、さらに光重合開始剤イルガ
キュアー907(チバガイギー社)を樹脂固形分に対し
7.2重量%、2,4−ジエチルチオキサントンを同様
に0.8重量%となるように加え、上記樹脂の酸基の1
/3を中和する量のトリエチルアミンを加え40℃で1
時間混合した。さらに固形分濃度が15重量%となるよ
う計算された量の脱イオン水を徐々に加え、ガラスピー
ズを用い常法により水分散して、光硬化性電着塗料組成
物を調製した。この電着液のpHは6.6、電導度は1
.50m5/cj+であった。
この電着液を用いて以下に示す条件で、予めブラッシン
グし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装して
、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより、1
5μmの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
(電着条件) 電着方法:アニオン電着 定電流法: 90〜1loaA/ d+e2*  3分
実施例2および3 製造例1で得られた変性樹脂Aに、樹脂固形分100重
量部に対し、実施例2では20重量部となるように、ま
た実施例3ては40重量部となるように、それぞれ製造
例2で得られたグラフト化シリカを加え、さらに光重合
開始剤イルガキュアー 907(チバガイギー社)を樹
脂固形分に対し7.2重量%、2.4−ジエチルチオキ
サントンを同様に0.8重量%となるようにを加え、遮
光しつつ40℃以下で1時間撹拌することにより、光硬
化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μ口の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行ない、結果を第1表に示した。
比較例1 製造例1で得られた変性樹脂Aと、全固形分に対し 8
重量%となるように光重合開始剤ベンゾインイソブチル
エーテルを加え、遮光しつつ40℃以下で1時間撹拌す
ることにより、光硬化性樹脂組成物を調製した。
予めブラッシングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板
に、この組成物をアプリケータにて塗布し、80℃にて
20分乾燥し、15μ層の厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行なった。結果を第1表に示した
比較例2 製造例1で得られた変性樹脂Aと、全固形分に対し8重
量96となるように光重合開始剤イルガキュアー 90
7(チバガイギー社)を加え、樹脂の酸基の1/3を中
和する量のトリエチルアミンを加え、常法により水分散
して、光硬化性電着塗料組成物を調製した。この組成物
の非揮発分は15%、pHは6.6、電導度は1.80
IIs/cmてあった。
この電着液を用いて実施例1に示す条件で、予めブラッ
シングし、さらに洗浄脱脂した銅張り積層板に電着塗装
して、水切り後、100℃にて5分乾燥することにより
、15μmの厚みを持つ塗膜を得た。
得られた塗膜について後述するタック試験、感光性試験
および鉛筆硬度試験を行なった。結果を第1表に示した
(タック試験) 感光性塗膜を形成した銅張り積層板を、35℃の暗室恒
湿恒温槽に入れ、上に回路パターンを描いたネガマスク
(PETフィルム製)を重ね、上部に1.5m厚のガラ
ス板と分銅を載せ、マスクと塗面の接触面にo、ghg
/ctiの圧力がかかるようにした(この圧力は、真空
密着による圧力として設定した)。この状態で5分間保
持した後、ガラス板と分銅を取り去り、ネガマスクを剥
したが、この時の剥離状態により以下のように評価した
。なお、試験前にそれぞれの試験器具は予め雰囲気温度
に予熱をした。
O:マスクは剥離音を発することなく抵抗なく剥がれる
X:マスクを剥す時、抵抗感があり、また明瞭に剥離音
がする。
(感光性試験) 30、50. 100μmの幅のパターンラインを持つ
評価用回路パターンマスクを用いて、以下の露光、現像
条件でパターンラインを形成し、顕微鏡観察によりパタ
ーン再現性を評価した。
O:パターンが形成される。
×:パターンが形成されない。
(1)露光条件 露光装置;ウシオ電機製 UVC−2613光 源 ;
メタルハライドランプ 光  量  ;  170aJ/cai(2)現像条件 現像装置 ;自社製スプレー装置(スプレー圧1.3!
Jg/cai) 現 像 液; 1%炭酸ソーダ水 現像液温度−30℃

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)数平均分子量が500〜5000、ビニル基
    含有量が50モル%以上の共役ジエン重合体または共役
    ジエン共重合体から誘導される、軟化点(JIS−K−
    2531−60の環球式軟化点測定法による)が70〜
    200℃の範囲にあるα,β−不飽和ジカルボン酸無水
    物付加物に、 一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1およびR_2は水素原子またはメチル、
    R_3はヘテロ原子を含んでもよい炭素数2以上の炭化
    水素残基) で表わされるアルコール性水酸基を持つα,β−不飽和
    モノカルボン酸エステルを反応させることにより該付加
    物の酸無水基を少なくとも10モル%開環させることに
    より得られた変性樹脂100重量部、 (b)飽和もしくは不飽和の置換もしくは未置換炭化水
    素残基が、0.1μm以下の粒度を有する無機粉体にグ
    ラフトしてなるグラフト無機粉体(無機原子一個当りの
    グラフト炭化水素残基における炭素数の合計は4個以上
    )3〜50重量部、および (c)光重合開始剤0.1〜20重量部、 からなることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 2、前記α,β−不飽和ジカルボン酸無水物が無水マレ
    イン酸である請求項1に記載の組成物。 3、前記α,β−不飽和モノカルボン酸エステルが、2
    −ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
    ルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレー
    ト、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒド
    ロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒ
    ドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレートより
    なる群から選ばれる請求項1に記載の組成物。 4、前記共役ジエンがブタジエンである請求項1に記載
    の組成物。 5、前記(b)における無機粉体の粒子の大きさが0.
    001〜0.1μmである請求項1に記載の組成物。 6、前記(b)の飽和もしくは不飽和の置換もしくは未
    置換炭化水素残基が、n−ヘキシル基、n−へブチル基
    、n−オクチル基、3−ブテニル基、オレイル基、アル
    キル成分が2〜6個の炭素原子を有するアクリルオキシ
    −アルキル基およびメタクリルオキシアルキル基、グリ
    シドオキシプロピル基、エポキシシクロヘキシル−エチ
    ルおよびイソブチルからなる群から選ばれる請求項1に
    記載の組成物。 7、前記グラフト無機粉体が、グラフト前無機粉体の2
    0重量%またはそれ以上の量の有機置換基がグラフトし
    ているグラフト無機粉体である請求項1に記載の組成物
    。 8、前記 (b)のグラフト無機粉体が、トリアルコキ
    シシランを水性酸性溶液中で加水分解し、この加水分解
    したトリアルコキシシランを0.1μm以下の粒度を持
    つ微細に分けられた無機粉体と緊密接触するように分散
    して分散体を作り、この分散体を80〜110℃に加熱
    して脱水処理することにより、上記の無機粉体粒子上に
    加水分解したトリアルコキシシランを該粒子重量当り2
    0重量%以上化学吸着させて生成せしめたものである請
    求項1に記載の組成物。 9、前記無機粉体が、熱分解シリカ、沈降シリカもしく
    はアルミナである請求項1に記載の組成物。
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