JPH03221836A - 粒子解析装置 - Google Patents
粒子解析装置Info
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- JPH03221836A JPH03221836A JP2018423A JP1842390A JPH03221836A JP H03221836 A JPH03221836 A JP H03221836A JP 2018423 A JP2018423 A JP 2018423A JP 1842390 A JP1842390 A JP 1842390A JP H03221836 A JPH03221836 A JP H03221836A
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 10
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/06—Alloys based on silver
- C22C5/10—Alloys based on silver with cadmium as the next major constituent
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、フローサイトメータ等において、流体中の被
検粒子に走査光を照射して、その光学信号を光検出器で
受光して被検粒子の情報を得る粒子解析装置に関するも
である。
検粒子に走査光を照射して、その光学信号を光検出器で
受光して被検粒子の情報を得る粒子解析装置に関するも
である。
[従来の技術]
フローサイトメータとは、高速で流れる細胞浮遊溶液、
即ちサンプル液に例えばレーザー光を照射し、その散乱
光による光電信号を検出し、細胞の性質・構造を解明す
る装置であり、細胞化学、免疫学、血液学、腫瘍学、遺
伝学等の分野で使用されている。
即ちサンプル液に例えばレーザー光を照射し、その散乱
光による光電信号を検出し、細胞の性質・構造を解明す
る装置であり、細胞化学、免疫学、血液学、腫瘍学、遺
伝学等の分野で使用されている。
このフローサイトメータ等に用いられる従来の粒子解析
装置では、フローセルの中央部の例えば200LLmX
200LLmの微小な四角形断面を有する流通部内を、
シース液に包まれて通過する血球細胞等の被検粒子にレ
ーザービーム等の照射光を照射し、その結果として生ず
る前方及び側方散乱光等の光学信号により、被検粒子の
形状・太きさ・屈折率等の粒子的性質を得ることが可能
である。また、蛍光材により染色され得る被検粒子に対
しては、照射光とほぼ直角方向の側方散乱光から被検粒
子の蛍光を検出することにより、被検粒子を解析するた
めの重要な情報を求めることができる。
装置では、フローセルの中央部の例えば200LLmX
200LLmの微小な四角形断面を有する流通部内を、
シース液に包まれて通過する血球細胞等の被検粒子にレ
ーザービーム等の照射光を照射し、その結果として生ず
る前方及び側方散乱光等の光学信号により、被検粒子の
形状・太きさ・屈折率等の粒子的性質を得ることが可能
である。また、蛍光材により染色され得る被検粒子に対
しては、照射光とほぼ直角方向の側方散乱光から被検粒
子の蛍光を検出することにより、被検粒子を解析するた
めの重要な情報を求めることができる。
[発明が解決しようとする課題]
上述の従来例のおいては、固定された照射光中を被検粒
子が横切ることによる前方散乱光を光検出器で検出して
、被検粒子の大きさの情報を得ている。しかし、流通部
内の被検粒子の位置は流れと直交する方向にばらついて
おり、照射光の強度分布とずれ、被検粒子を照射する光
量が被検粒子の位置によって変化するので、散乱光強度
は一定にならずに測定に誤差が含まれ易い。また、被検
粒子の流速が測定されないと、測定に適した流速に設定
することができない。
子が横切ることによる前方散乱光を光検出器で検出して
、被検粒子の大きさの情報を得ている。しかし、流通部
内の被検粒子の位置は流れと直交する方向にばらついて
おり、照射光の強度分布とずれ、被検粒子を照射する光
量が被検粒子の位置によって変化するので、散乱光強度
は一定にならずに測定に誤差が含まれ易い。また、被検
粒子の流速が測定されないと、測定に適した流速に設定
することができない。
本発明の目的は、上述の欠点を解消し、被検粒子の大き
さ及び(又は)流速を高精度で測定する粒子解析装置を
提供することにある。
さ及び(又は)流速を高精度で測定する粒子解析装置を
提供することにある。
[課題を解決するための手段]
上述の目的を達成するために、本発明に係る粒子解析装
置においては、流体中の被検粒子に照射光を照射し、得
られる散乱光又は蛍光を測定して被検粒子の情報を得る
粒子解析装置において、前記照射光を被検粒子の流れと
交叉する方向に走査する走査手段と、該走査により得ら
れる光を光検出器で受光してパルス信号を求める第1の
検出手段と、前記パルス信号のパルス時間幅を求める第
2の検出手段と、前記パルス時間幅から被検粒子の大き
さ及び(又は)流速を算出する演算手段とを備えたこと
を特徴とするものである。
置においては、流体中の被検粒子に照射光を照射し、得
られる散乱光又は蛍光を測定して被検粒子の情報を得る
粒子解析装置において、前記照射光を被検粒子の流れと
交叉する方向に走査する走査手段と、該走査により得ら
れる光を光検出器で受光してパルス信号を求める第1の
検出手段と、前記パルス信号のパルス時間幅を求める第
2の検出手段と、前記パルス時間幅から被検粒子の大き
さ及び(又は)流速を算出する演算手段とを備えたこと
を特徴とするものである。
[イ乍用]
上述の構成を有する粒子解析装置は、流体中の被検粒子
に流れと交叉する方向の照射光を照射し、それにより発
生する光を光検出器で受光して、得られたパルス信号の
パルス時間幅から被検粒子の大きさ及び速度を算出する
。
に流れと交叉する方向の照射光を照射し、それにより発
生する光を光検出器で受光して、得られたパルス信号の
パルス時間幅から被検粒子の大きさ及び速度を算出する
。
[実施例]
本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
第1図は粒子解析装置の構成図であり、レーザー光源1
から出射されるレーザービームの光軸01上には、レー
ザー光源1に近い側から、レーザービームを偏向するた
めの光偏向器2、集光レンズ3、被検粒子1を流通させ
るフローセル4、集光レンズ5、光検出器6が順次に配
置されて゛いる。また、光検出器6の出力は信号処理ア
ナグロ回路7、A/D変換器8、CPU回路9、CRT
等から成る出力装置10に順次に接続されている。
から出射されるレーザービームの光軸01上には、レー
ザー光源1に近い側から、レーザービームを偏向するた
めの光偏向器2、集光レンズ3、被検粒子1を流通させ
るフローセル4、集光レンズ5、光検出器6が順次に配
置されて゛いる。また、光検出器6の出力は信号処理ア
ナグロ回路7、A/D変換器8、CPU回路9、CRT
等から成る出力装置10に順次に接続されている。
レーザー光源lから出射されたレーザービームは、光偏
向器2によって偏向され、集光レンズ3で集光された後
に、フローセル4の定位置で被検粒子の流れの方向と垂
直な方向に高速度で繰り返して走査するようにされてお
り、被検粒子による散乱光束は集光レンズ5を介して光
検出器6により受光される。1個の被検粒子が走査定位
置を通過する際に、光偏向器2の光束により少なくとも
3回照射することができる。例えば、1個の被検粒子に
対して走査を3回実施した場合には、第2図に示すよう
に3個のパルス信号PL、 P2、P3が信号処理アナ
グロ回路7に人力される。ここでは、各パルスP1、P
2、P3の時間幅t1、t2、tsとパルスP1、P2
、P3のピーク時間幅tsがアナログ量で読み取られ、
A/D変換器8でデジタル量に変換される。そして、こ
れらを用いてCPU回路9内で被検粒子の半径r及び流
速Vが算出されて、出力装置10に出力される。
向器2によって偏向され、集光レンズ3で集光された後
に、フローセル4の定位置で被検粒子の流れの方向と垂
直な方向に高速度で繰り返して走査するようにされてお
り、被検粒子による散乱光束は集光レンズ5を介して光
検出器6により受光される。1個の被検粒子が走査定位
置を通過する際に、光偏向器2の光束により少なくとも
3回照射することができる。例えば、1個の被検粒子に
対して走査を3回実施した場合には、第2図に示すよう
に3個のパルス信号PL、 P2、P3が信号処理アナ
グロ回路7に人力される。ここでは、各パルスP1、P
2、P3の時間幅t1、t2、tsとパルスP1、P2
、P3のピーク時間幅tsがアナログ量で読み取られ、
A/D変換器8でデジタル量に変換される。そして、こ
れらを用いてCPU回路9内で被検粒子の半径r及び流
速Vが算出されて、出力装置10に出力される。
以下に、時間幅t1. t2、ts、tsから被検粒子
の半径r及び流速Vを算出する方法を述べる。第3図は
走査方向をX軸、流れ方向をy軸としたX−y平面に、
被検粒子を半径rの球Qと仮定し、中心を原点Oに併せ
て正射影したものである。走査位置をy=yi(i=1
.2.3)s走査速度をVとすると、図中の距離gi
(i =1.2.3)に対して次式が成立する。
の半径r及び流速Vを算出する方法を述べる。第3図は
走査方向をX軸、流れ方向をy軸としたX−y平面に、
被検粒子を半径rの球Qと仮定し、中心を原点Oに併せ
て正射影したものである。走査位置をy=yi(i=1
.2.3)s走査速度をVとすると、図中の距離gi
(i =1.2.3)に対して次式が成立する。
I2i = (r” −yi” )”” =
il)j2i ==v−ti (i=1.2.3)・
・・(2)また、パルスのピーク時間幅tsは走査時間
間隔と等しく、この間に走査位置yiが変化して、次式
の関係が成立している。
il)j2i ==v−ti (i=1.2.3)・
・・(2)また、パルスのピーク時間幅tsは走査時間
間隔と等しく、この間に走査位置yiが変化して、次式
の関係が成立している。
y2= yl+ V−ts −(3
)y3= y2+ V・ts ・・
・(4)これらの式から、yl、βiを消去して目的の
次式が得られる。
)y3= y2+ V・ts ・・
・(4)これらの式から、yl、βiを消去して目的の
次式が得られる。
r=(1/4)−[(2t22−t12−ts2) ・
v”/ (8ts2) ] l/2 ・・・(5
)V = [(tl’ + 16t、2’ + t34
−8 t12・t2”−2t、12・t、32−8 t
22・ts2)・V2/ (4t22−2 t12−2
ts”ll”” ・・・(6)このような計算によ
り、1個の被検粒子を3回走査することにより、被検粒
子の半径r及び(又は)流速■を算出することができる
。
v”/ (8ts2) ] l/2 ・・・(5
)V = [(tl’ + 16t、2’ + t34
−8 t12・t2”−2t、12・t、32−8 t
22・ts2)・V2/ (4t22−2 t12−2
ts”ll”” ・・・(6)このような計算によ
り、1個の被検粒子を3回走査することにより、被検粒
子の半径r及び(又は)流速■を算出することができる
。
なお、」二連の実施例においては散乱光を受光している
が、レーザービームの光軸01と直交方向からフィルタ
を介して蛍光を受光した場合にも応用できる。
が、レーザービームの光軸01と直交方向からフィルタ
を介して蛍光を受光した場合にも応用できる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明に係る粒子解析装置は、液体
中の被検粒子に流れと交叉する方向に唄射光を照射し、
それにより発生する光を光検出器で受光し、得られたパ
ルス信号のパルス時間幅から被検粒子の大きさ及び(又
は)流速を算出しているので、測定値の精度が高く、ま
た被検粒子の速度を測定に最適な流速に設定することが
できる。
中の被検粒子に流れと交叉する方向に唄射光を照射し、
それにより発生する光を光検出器で受光し、得られたパ
ルス信号のパルス時間幅から被検粒子の大きさ及び(又
は)流速を算出しているので、測定値の精度が高く、ま
た被検粒子の速度を測定に最適な流速に設定することが
できる。
図面は本発明に係る粒子解析装置の実施例を示し、第1
図は構成図、第2図はパルス信号の説明図、第3図は被
検粒子の大きさの算出方法の説明図である。 符号1は1/−ザー光源、2は光偏向器、4はフローセ
ル、6は光検出器、7は信号処理アナログ回路、9はC
PU回路、10は出力装置である。
図は構成図、第2図はパルス信号の説明図、第3図は被
検粒子の大きさの算出方法の説明図である。 符号1は1/−ザー光源、2は光偏向器、4はフローセ
ル、6は光検出器、7は信号処理アナログ回路、9はC
PU回路、10は出力装置である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、流体中の被検粒子に照射光を照射し、得られる散乱
光又は蛍光を測定して被検粒子の情報を得る粒子解析装
置において、前記照射光を被検粒子の流れと交叉する方
向に走査する走査手段と、該走査により得られる光を光
検出器で受光してパルス信号を求める第1の検出手段と
、前記パルス信号のパルス時間幅を求める第2の検出手
段と、前記パルス時間幅から被検粒子の大きさ及び(又
は)流速を算出する演算手段とを備えたことを特徴とす
る粒子解析装置。 2、前記走査は1個の被検粒子に対して少なくとも3回
行い、前記演算手段は前記第2の検出手段により得られ
た3個の前記パルス時間幅を基に被検粒子の大きさ及び
(又は)流速を算出する請求項1に記載の粒子解析装置
。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018423A JPH03221836A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 粒子解析装置 |
KR1019910001520A KR910014527A (ko) | 1990-01-29 | 1991-01-28 | Ag-SnO-CdO전기접점재료와 그제법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018423A JPH03221836A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 粒子解析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03221836A true JPH03221836A (ja) | 1991-09-30 |
Family
ID=11971242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018423A Pending JPH03221836A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 粒子解析装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03221836A (ja) |
KR (1) | KR910014527A (ja) |
-
1990
- 1990-01-29 JP JP2018423A patent/JPH03221836A/ja active Pending
-
1991
- 1991-01-28 KR KR1019910001520A patent/KR910014527A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR910014527A (ko) | 1991-08-31 |
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