JPH03217043A - 静電チャック装置 - Google Patents
静電チャック装置Info
- Publication number
- JPH03217043A JPH03217043A JP2012817A JP1281790A JPH03217043A JP H03217043 A JPH03217043 A JP H03217043A JP 2012817 A JP2012817 A JP 2012817A JP 1281790 A JP1281790 A JP 1281790A JP H03217043 A JPH03217043 A JP H03217043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic chuck
- terminal
- metal base
- conductor
- electrostatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 14
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 11
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 8
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 abstract 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 6
- 101100313164 Caenorhabditis elegans sea-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、静電力を利用して被チャック物を吸着保持す
る静電チャック装置に関し、とくに半導体製造装置、ス
パッタリング装置または蒸着装置等における、シリコン
ウェハーなどの基板の固定装置として利用される静電チ
ャック装置にかかわる。
る静電チャック装置に関し、とくに半導体製造装置、ス
パッタリング装置または蒸着装置等における、シリコン
ウェハーなどの基板の固定装置として利用される静電チ
ャック装置にかかわる。
[従来の技術]
従来より、静電チャック装置は、第5図に示すように、
静電力を利用してシリコンウェハーなどの基板(被チャ
ック物)を吸着保持する静電ヂャック本体101の片面
に、電極102の通電時に生じるセラミック基板103
の熱を逃がすための金属製ベース104を接続している
。また、電極102は、金属製ベース104を貫通して
設けられた引出端子105と半田材106等により電気
的導通がとられていた。
静電力を利用してシリコンウェハーなどの基板(被チャ
ック物)を吸着保持する静電ヂャック本体101の片面
に、電極102の通電時に生じるセラミック基板103
の熱を逃がすための金属製ベース104を接続している
。また、電極102は、金属製ベース104を貫通して
設けられた引出端子105と半田材106等により電気
的導通がとられていた。
そして、静電チャック装置100においては、電極10
2と引出端子105との電気の漏れを防く必要があった
。
2と引出端子105との電気の漏れを防く必要があった
。
このため、従来より金属製ベースと引出端子とを絶縁す
る筒状絶縁碍子を、銀ろう、半田材または高融点ガラス
等の溶加材によって静電チ〜Vツク本体に接合した静電
チャック装置が提案されている。
る筒状絶縁碍子を、銀ろう、半田材または高融点ガラス
等の溶加材によって静電チ〜Vツク本体に接合した静電
チャック装置が提案されている。
[発明が解決しようとする課題]
しかるに、銀ろうまたは半田材等の溶加材によって筒状
絶縁碍子を静電ヂャック本体に接合した静電チャック装
置においては、銀ろうまなは半田材を溶融した際に、表
面張力等により端子と金属基盤とが導通ずる可能性があ
った。このため、端子と金属基盤との電気絶縁性が低下
してしまうという課題があった。
絶縁碍子を静電ヂャック本体に接合した静電チャック装
置においては、銀ろうまなは半田材を溶融した際に、表
面張力等により端子と金属基盤とが導通ずる可能性があ
った。このため、端子と金属基盤との電気絶縁性が低下
してしまうという課題があった。
また、高融点ガラス等の溶加材によって筒状絶縁碍子を
静電チャック本体に接合した静電チャック装置において
は、作業温度か800℃を越える温度で作業すると静電
チャック本体に熱歪が発生ずる。このため、第3図に示
すように、静電ヂャック本体のチャック面の平面精度か
悪化し、反り、うねりが発生ずるという課題があった。
静電チャック本体に接合した静電チャック装置において
は、作業温度か800℃を越える温度で作業すると静電
チャック本体に熱歪が発生ずる。このため、第3図に示
すように、静電ヂャック本体のチャック面の平面精度か
悪化し、反り、うねりが発生ずるという課題があった。
なお、静電チャック本体のチャック面は、被チャック物
を吸着保持する部分であるため、平面精度を0. 01
0關以下に抑えないと被チャック物の吸着力が著しく低
下してしまう。
を吸着保持する部分であるため、平面精度を0. 01
0關以下に抑えないと被チャック物の吸着力が著しく低
下してしまう。
本発明は、端子と金属基盤との電気絶縁性の低下を防ぎ
、且つ静電チャック本体の反り、うねりの発生を防いで
被チャック物の吸着力の低下を防く静電チャック装置の
提供を目的とする。
、且つ静電チャック本体の反り、うねりの発生を防いで
被チャック物の吸着力の低下を防く静電チャック装置の
提供を目的とする。
[課題を解決するための手段]
請求項1に記載の本発明の静電チ・Vツク装置は、電気
絶縁性セラミック基板内に導電体を埋め込み、前記導電
体に電気を供給する端子が片面から突出した静電チャッ
ク本体と、話静電チャック本体の片面がわに接合され、
前記端子を外部に取り出す端子穴を廟ずる金属基盤と、
前記端子の外周と前記端子穴の内周との間に配設された
絶縁碍子とを備え、前記絶縁碍子は、電気絶縁性溶加材
によって800゜C以下の作業温度で前記静電チャック
本体の前記片面に接合された技術手段を採用した。
絶縁性セラミック基板内に導電体を埋め込み、前記導電
体に電気を供給する端子が片面から突出した静電チャッ
ク本体と、話静電チャック本体の片面がわに接合され、
前記端子を外部に取り出す端子穴を廟ずる金属基盤と、
前記端子の外周と前記端子穴の内周との間に配設された
絶縁碍子とを備え、前記絶縁碍子は、電気絶縁性溶加材
によって800゜C以下の作業温度で前記静電チャック
本体の前記片面に接合された技術手段を採用した。
請求項2に記載の本発明の静電チャック装置は、電気絶
縁性セラミック基板内に導電体を埋め込み、前記導電体
に電気を供給する端子が片面から突出した静電チャック
本体と、該静電チャック本体の片面がわに接合され、前
記端子を外部に取り出ず端子穴を有する金属基盤とを備
え、前記静電チャック本体は、前記端子の外周と前記端
子穴の内周との間に向かって片面から突出した筒状部を
看する技術手段を採用した。
縁性セラミック基板内に導電体を埋め込み、前記導電体
に電気を供給する端子が片面から突出した静電チャック
本体と、該静電チャック本体の片面がわに接合され、前
記端子を外部に取り出ず端子穴を有する金属基盤とを備
え、前記静電チャック本体は、前記端子の外周と前記端
子穴の内周との間に向かって片面から突出した筒状部を
看する技術手段を採用した。
[作用]
5
(請求項1)
導電体に電気を供給する端子の外周と金属基盤に設けら
れた端子を外部に取り出すための端子穴の内周との間に
絶縁碍子を配設する。そして、電気絶縁性溶加材によっ
て静電チャック本体の片面に絶縁碍子を接合することに
よって、端子と金属基盤とが導通ずる可能性がなくなる
ので、端子と金属製基盤との電気絶縁性の低下が防げる
。また、静電チャック本体の片面と絶縁碍子との接合作
業を800℃以下の作業温度で行うことによって、静電
チャック本体の反り、うねりの発生が抑制されるので、
静電チャック本体の平面精度の低下を防げろ。
れた端子を外部に取り出すための端子穴の内周との間に
絶縁碍子を配設する。そして、電気絶縁性溶加材によっ
て静電チャック本体の片面に絶縁碍子を接合することに
よって、端子と金属基盤とが導通ずる可能性がなくなる
ので、端子と金属製基盤との電気絶縁性の低下が防げる
。また、静電チャック本体の片面と絶縁碍子との接合作
業を800℃以下の作業温度で行うことによって、静電
チャック本体の反り、うねりの発生が抑制されるので、
静電チャック本体の平面精度の低下を防げろ。
(請求項2)
導電体に電気を供給する端子の外周と金属基盤に設けら
れた端子穴の内周との間に向かって、静電チャック本体
の片面から筒状部を突出することによって、端子と金属
基盤とが導通する可能性がなくなり、端子と金属製基盤
との電気絶縁性の低下が防ける。さらに、静電チャック
本体の片面と6 絶縁碍子とを接合する必要がなくなることによって、静
電ヂャック本体を高温下に晒すことかなくなる。このた
め、静電チャック本体の反り、うねりの発生が抑制され
るので、静電チャック本体の平面精度の低下を防げる。
れた端子穴の内周との間に向かって、静電チャック本体
の片面から筒状部を突出することによって、端子と金属
基盤とが導通する可能性がなくなり、端子と金属製基盤
との電気絶縁性の低下が防ける。さらに、静電チャック
本体の片面と6 絶縁碍子とを接合する必要がなくなることによって、静
電ヂャック本体を高温下に晒すことかなくなる。このた
め、静電チャック本体の反り、うねりの発生が抑制され
るので、静電チャック本体の平面精度の低下を防げる。
[発明の効果]
端子と金属基盤との電気絶縁性の低下を防止できる。
また、静電チャック本体の被チャック物を吸着保持する
部分の平面精度が0.010mm以下に抑えることがで
きるので、被チャック物の吸着力の低下を抑制できる。
部分の平面精度が0.010mm以下に抑えることがで
きるので、被チャック物の吸着力の低下を抑制できる。
[実施例]
本発明の静電チャック装置を第1図ないし第4図に示V
実施例に基づき説明する。
実施例に基づき説明する。
第1図は本発明の第1実施例に採用された静電チャック
装置を示し、第2図はその静電チャック装置の静電ヂャ
ック本体を示し、第3図は作業温度と平面精度との関係
を表すグラフを示す。
装置を示し、第2図はその静電チャック装置の静電ヂャ
ック本体を示し、第3図は作業温度と平面精度との関係
を表すグラフを示す。
静電ヂャック装置1は、静電チャック本体2、アルミニ
ウム製の金属ベース3および絶縁碍子4から構成されて
いる。また、静電チャック装置1は、例えば真空蒸着装
置における、第2電極としての被チャック物である薄い
円盤状基板5を保持吸着する固定装置として使用される
。
ウム製の金属ベース3および絶縁碍子4から構成されて
いる。また、静電チャック装置1は、例えば真空蒸着装
置における、第2電極としての被チャック物である薄い
円盤状基板5を保持吸着する固定装置として使用される
。
静電ヂャック本体2は、複数の第1電極21を電気絶縁
性のセラミック基板22内に埋め込んでいる。
性のセラミック基板22内に埋め込んでいる。
第1電極21は、本発明の導電体であって、タングステ
ン、白金、鉛、銅または銀等の半円状の導体ペーストで
ある。
ン、白金、鉛、銅または銀等の半円状の導体ペーストで
ある。
セラミック基板22は、グリーンシ一ト23およびグリ
ーンシー1・24からなる。そして、グリーンシ一ト2
3、第1電極21およびグリーンシ一ト24を積層して
一体焼成することによって静電チャック本体2が製造さ
れる。
ーンシー1・24からなる。そして、グリーンシ一ト2
3、第1電極21およびグリーンシ一ト24を積層して
一体焼成することによって静電チャック本体2が製造さ
れる。
グリーンシ一ト23は、アルミナを主成分とする電気絶
縁性のセラミックを用いており、テープ成形、鋳込成形
またはプレス成形等の所定の成形方法により、外径φ1
50順の円板状に成形されている。このグリーンシ一ト
23の片面には、第1電極21(導体ペースト)が所定
の印刷法を用いて印刷されている。
縁性のセラミックを用いており、テープ成形、鋳込成形
またはプレス成形等の所定の成形方法により、外径φ1
50順の円板状に成形されている。このグリーンシ一ト
23の片面には、第1電極21(導体ペースト)が所定
の印刷法を用いて印刷されている。
グリーンシ一ト24は、アルミナを主成分とする電気絶
縁性のセラミックを用いており、テープ成形、鋳込成形
、印刷成形またはプレス成形算の所定の成形方法により
、外径φ150鴫の円板状に成形されている。
縁性のセラミックを用いており、テープ成形、鋳込成形
、印刷成形またはプレス成形算の所定の成形方法により
、外径φ150鴫の円板状に成形されている。
また、このグリーンシ一ト24には、複数の第1電極2
1にそれぞれ電気を供給する複数の棒状端子25を取り
出すための複数の取出穴26が形成されている。これら
の棒状端子25の一端は、グリーンシート24の片面(
図示下端面)から外部に向がって突設するように第1電
極21の片面に接合されている。棒状端子25の他端は
、直流電源(図示せず)を介して基板5に接続される。
1にそれぞれ電気を供給する複数の棒状端子25を取り
出すための複数の取出穴26が形成されている。これら
の棒状端子25の一端は、グリーンシート24の片面(
図示下端面)から外部に向がって突設するように第1電
極21の片面に接合されている。棒状端子25の他端は
、直流電源(図示せず)を介して基板5に接続される。
金属ベース3は、本発明の金属基盤であって、第1電極
21が通電された際にグリーンシーl・24が発熱する
ため、この熱を外部に伝達(熱放散)するものである。
21が通電された際にグリーンシーl・24が発熱する
ため、この熱を外部に伝達(熱放散)するものである。
この金属ベース3は、プレス成形等の所定の成形方法に
より、外径φ150mmの円板9 状に成形されている。そして、金属ベース3は、複数の
棒状端子25を取り出すための複数の端子穴31が形成
されている。また、複数の端子穴31は、絶縁碍子4と
グリーンシー1・24との接合を行う易いように取出穴
26よりも径大に形成されている。
より、外径φ150mmの円板9 状に成形されている。そして、金属ベース3は、複数の
棒状端子25を取り出すための複数の端子穴31が形成
されている。また、複数の端子穴31は、絶縁碍子4と
グリーンシー1・24との接合を行う易いように取出穴
26よりも径大に形成されている。
絶縁碍子4は、アルミナを主成分とする電気絶縁性のセ
ラミックにより筒状に成形され、棒状端子25の外周と
端子穴31の内周との間に配設されている。この絶縁碍
子4は、低敵点封止ガラス材またはアルミナを主成分と
する無機質接着材等の電気絶縁性の溶加材41によって
500℃以下の作業温度でグリーンシー1・24の片面
に接合されている。
ラミックにより筒状に成形され、棒状端子25の外周と
端子穴31の内周との間に配設されている。この絶縁碍
子4は、低敵点封止ガラス材またはアルミナを主成分と
する無機質接着材等の電気絶縁性の溶加材41によって
500℃以下の作業温度でグリーンシー1・24の片面
に接合されている。
低融点封止ガラス材は、500゜Cの作業温度で使用さ
れる。また、無機質接着材は、150゜Cの作業温度で
使用される。
れる。また、無機質接着材は、150゜Cの作業温度で
使用される。
基板5は、静電チャック本体2の図示上面(チャック面
)27に静電力により吸着保持されて固定される。この
基板5には、シリコンウェーハ等が使用され、例えば、
目的とする物質の薄膜を真空中の蒸着によって、基板5
の表面に付着させ(真]0 空蒸着法)、ダイオード、1〜ランジスタ、モノリシッ
クIC等の電極、薄膜抵抗あるいは薄膜回路等が形成さ
れる。
)27に静電力により吸着保持されて固定される。この
基板5には、シリコンウェーハ等が使用され、例えば、
目的とする物質の薄膜を真空中の蒸着によって、基板5
の表面に付着させ(真]0 空蒸着法)、ダイオード、1〜ランジスタ、モノリシッ
クIC等の電極、薄膜抵抗あるいは薄膜回路等が形成さ
れる。
本実施例の静電チャック装置1の作用を第1図ないし第
3図に基づき説明する。
3図に基づき説明する。
グリーンシ一ト23、第1電極21およびグリーンシー
1・24を順次積層して一体焼成することによって静電
ヂャック本体2を製造する。そして、グリーンシーI・
23のチャック面27およびグリーンシー1・24の片
面を平面精度0.010mm以丁に研磨した後に、静電
ヂャック本体2のグリーンシーl・24の片面に絶縁碍
子4を接合する。このとき、溶加材41として低融点封
止カラス材またはアルミナを主成分とする無機質接着材
を使用して作業温度500’Cまたは150℃で、低融
点封止ガラス材または無機質接着材を溶融させながら、
静電チャック本体2のグリーンシー1・24の片面に絶
縁碍子4を接合する。
1・24を順次積層して一体焼成することによって静電
ヂャック本体2を製造する。そして、グリーンシーI・
23のチャック面27およびグリーンシー1・24の片
面を平面精度0.010mm以丁に研磨した後に、静電
ヂャック本体2のグリーンシーl・24の片面に絶縁碍
子4を接合する。このとき、溶加材41として低融点封
止カラス材またはアルミナを主成分とする無機質接着材
を使用して作業温度500’Cまたは150℃で、低融
点封止ガラス材または無機質接着材を溶融させながら、
静電チャック本体2のグリーンシー1・24の片面に絶
縁碍子4を接合する。
なお、溶加材41を溶融さぜな際に、表面張力などによ
って絶縁碍子4の内周に侵入してしまい溶加材が棒状端
子25に接触してしまうことが考えられる。このような
場合でも、溶加材が電気絶縁性の部材で構成されている
ので、棒状端子25と金属ベース3とが溶加材41を介
して導通することが防げる。
って絶縁碍子4の内周に侵入してしまい溶加材が棒状端
子25に接触してしまうことが考えられる。このような
場合でも、溶加材が電気絶縁性の部材で構成されている
ので、棒状端子25と金属ベース3とが溶加材41を介
して導通することが防げる。
この後に、静電チャック本休2の平面精度を測定したか
、平面精度は0.010mm以下であり、静電ヂャック
本体2のクリーンシー1〜24と絶縁碍子4との接合前
とほとんど変化が見られなかった。したがって、グリー
ンシー)一23のヂャック面27およびグリーンシー1
・24の片面には、反り、うねりが発生しないと言える
。
、平面精度は0.010mm以下であり、静電ヂャック
本体2のクリーンシー1〜24と絶縁碍子4との接合前
とほとんど変化が見られなかった。したがって、グリー
ンシー)一23のヂャック面27およびグリーンシー1
・24の片面には、反り、うねりが発生しないと言える
。
したがって、静電チャック本体2の平面精度の低下の発
生しない静電チャック本体2と絶縁碍子4との接合を行
うことができる。このため、グリーンシー1〜23のチ
ャック面27の平面精度が0.010(財)以下に抑え
ることができるので、基板5の吸着力の低下を抑制でき
る。
生しない静電チャック本体2と絶縁碍子4との接合を行
うことができる。このため、グリーンシー1〜23のチ
ャック面27の平面精度が0.010(財)以下に抑え
ることができるので、基板5の吸着力の低下を抑制でき
る。
また、静電チャック本体2を金属ベース3に保持した際
の棒状端子25と金属ベース3との絶縁性を測定したが
抵抗値無限大であった。
の棒状端子25と金属ベース3との絶縁性を測定したが
抵抗値無限大であった。
したがって、電気絶縁性を損なわずに静電チャック本休
2と絶縁碍子4との接合を行うことができる。すなわち
、棒状端子25に供給される電気が金属ベース3に漏れ
ることを防げるので、所定の通電量で第1電極21およ
び基板5を通電できる。
2と絶縁碍子4との接合を行うことができる。すなわち
、棒状端子25に供給される電気が金属ベース3に漏れ
ることを防げるので、所定の通電量で第1電極21およ
び基板5を通電できる。
このため、安定した基板5の吸着力を持つ静電チャック
装置1を提供することができる。
装置1を提供することができる。
第4図は本発明の第2実施例に採用された静電チャック
装置を示す。
装置を示す。
本実施例では、棒状端子25の外周と金属ベース3の端
子穴31の内周との間に位置するように、静電チャック
本休2の片面から図示下方に向かって突出する筒状部2
8を静電チャック本体2の片面に一体的に設けている。
子穴31の内周との間に位置するように、静電チャック
本休2の片面から図示下方に向かって突出する筒状部2
8を静電チャック本体2の片面に一体的に設けている。
この静電ヂャック装置1においても第1実施例と同様に
棒状端子25に供給される電気が金属ベース3に漏れる
ことを防止できる。さらに、静電チャック本体2と絶縁
碍子4との接合を行わないので、静電チ・ヤック本休2
を高温下に晒すことがなくなる。このため、静電ヂャ1
3 ック本休2に熱歪みが発生しないので、第1実施例と同
様にグリーンシー1・23のチャック面27の平面精度
が0.010mm以下に抑えることができる。
棒状端子25に供給される電気が金属ベース3に漏れる
ことを防止できる。さらに、静電チャック本体2と絶縁
碍子4との接合を行わないので、静電チ・ヤック本休2
を高温下に晒すことがなくなる。このため、静電ヂャ1
3 ック本休2に熱歪みが発生しないので、第1実施例と同
様にグリーンシー1・23のチャック面27の平面精度
が0.010mm以下に抑えることができる。
(変形例)
本実施例では、静電チャックを真空蒸着装置における基
板の固定装置に利用したが、静電チャックを半導体製造
装置における半導体の固定装置や、スパッタリング装置
における基板の固定装置あるいは搬送装置に利用しても
良い。
板の固定装置に利用したが、静電チャックを半導体製造
装置における半導体の固定装置や、スパッタリング装置
における基板の固定装置あるいは搬送装置に利用しても
良い。
本実施例では、電気絶縁性溶加材として低融点封止ガラ
ス材またはアルミナを主成分とする無機質接着材を使用
したが、その他の作業温度が800゜C以下の溶加材を
使用しても良い。
ス材またはアルミナを主成分とする無機質接着材を使用
したが、その他の作業温度が800゜C以下の溶加材を
使用しても良い。
さらに、セラミック基板および被チャック物の構成物質
および形状は、本実施例に限定されるものではなく、本
発明の範囲内で種々変更することができる。
および形状は、本実施例に限定されるものではなく、本
発明の範囲内で種々変更することができる。
端子の外周を絶縁チューブで被覆しても良く、平板状等
の種々の形状の端子を用いても良い。
の種々の形状の端子を用いても良い。
また、絶縁碍子を金属基盤より外部に向かって14
突設するように延長しても良い。
本実施例では、セラミック基板内に2つの導電体を埋め
込んだが、セラミック基板内に1つまたは3つ以上の導
電体を埋め込んでも良い。
込んだが、セラミック基板内に1つまたは3つ以上の導
電体を埋め込んでも良い。
第1図は本発明の第1実施例の採用された静電チャック
装置を示す断面図、第2図は静電チーVツク本体を示す
平面図、第3図は作業温度と平面精度との関係を表すグ
ラフである。第4図は本発明の第2実施例の採用された
静電チャック装置の主要部を示す断面図である。第5図
は従来の静電ヂャック装置の主要部を示す断面図である
。 図中 1・・・静電ヂャック装置 2・・・静電チャック本体
3・・・金属ベース(金属基盤) 4・・・絶縁碍子
21・・・第1電極(導電体)22・・・セラミック基
板25・・・棒状端子 28・・・筒状部 31・・端
子穴 41・・・溶加材
装置を示す断面図、第2図は静電チーVツク本体を示す
平面図、第3図は作業温度と平面精度との関係を表すグ
ラフである。第4図は本発明の第2実施例の採用された
静電チャック装置の主要部を示す断面図である。第5図
は従来の静電ヂャック装置の主要部を示す断面図である
。 図中 1・・・静電ヂャック装置 2・・・静電チャック本体
3・・・金属ベース(金属基盤) 4・・・絶縁碍子
21・・・第1電極(導電体)22・・・セラミック基
板25・・・棒状端子 28・・・筒状部 31・・端
子穴 41・・・溶加材
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)電気絶縁性セラミック基板内に導電体を埋め込み、
前記導電体に電気を供給する端子が片面から突出した静
電チャック本体と、 該静電チャック本体の片面がわに接合され、前記端子を
外部に取り出す端子穴を有する金属基盤と、 前記端子の外周と前記端子穴の内周との間に配設された
絶縁碍子と を備え、 前記絶縁碍子は、電気絶縁性溶加材によって800℃以
下の作業温度で前記静電チャック本体の前記片面に接合
されたことを特徴とする静電チャック装置。 2)電気絶縁性セラミック基板内に導電体を埋め込み、
前記導電体に電気を供給する端子が片面から突出した静
電チャック本体と、 該静電チャック本体の片面がわに接合され、前記端子を
外部に取り出す端子穴を有する金属基盤と を備え、 前記静電チャック本体は、前記端子の外周と前記端子穴
の内周との間に向かって片面から突出した筒状部を有す
ることを特徴とする静電チャック装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012817A JPH03217043A (ja) | 1990-01-22 | 1990-01-22 | 静電チャック装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012817A JPH03217043A (ja) | 1990-01-22 | 1990-01-22 | 静電チャック装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03217043A true JPH03217043A (ja) | 1991-09-24 |
Family
ID=11815940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012817A Pending JPH03217043A (ja) | 1990-01-22 | 1990-01-22 | 静電チャック装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03217043A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102289A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チヤツク装置の電気的接合方法 |
US5633073A (en) * | 1995-07-14 | 1997-05-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and eutectic connection |
US5817406A (en) * | 1995-07-14 | 1998-10-06 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and brazing material connection |
KR20040022580A (ko) * | 2002-09-09 | 2004-03-16 | 주성엔지니어링(주) | 서셉터 |
KR100427459B1 (ko) * | 2001-09-05 | 2004-04-30 | 주성엔지니어링(주) | 아크 방지용 정전척 |
WO2004084298A1 (ja) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Tokyo Electron Limited | 静電チャックを用いた基板保持機構およびその製造方法 |
JP2007142456A (ja) * | 2007-02-05 | 2007-06-07 | Fujitsu Ltd | 静電チャック |
WO2013118781A1 (ja) * | 2012-02-08 | 2013-08-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 静電チャック装置 |
KR20140107279A (ko) * | 2011-12-20 | 2014-09-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 탑재대 및 플라즈마 처리 장치 |
JP2022111734A (ja) * | 2021-01-20 | 2022-08-01 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-01-22 JP JP2012817A patent/JPH03217043A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102289A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チヤツク装置の電気的接合方法 |
JP2581627B2 (ja) * | 1991-10-04 | 1997-02-12 | 株式会社巴川製紙所 | 静電チャック装置の電気的接合方法 |
US5633073A (en) * | 1995-07-14 | 1997-05-27 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and eutectic connection |
US5817406A (en) * | 1995-07-14 | 1998-10-06 | Applied Materials, Inc. | Ceramic susceptor with embedded metal electrode and brazing material connection |
KR100427459B1 (ko) * | 2001-09-05 | 2004-04-30 | 주성엔지니어링(주) | 아크 방지용 정전척 |
KR20040022580A (ko) * | 2002-09-09 | 2004-03-16 | 주성엔지니어링(주) | 서셉터 |
WO2004084298A1 (ja) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Tokyo Electron Limited | 静電チャックを用いた基板保持機構およびその製造方法 |
JP2007142456A (ja) * | 2007-02-05 | 2007-06-07 | Fujitsu Ltd | 静電チャック |
KR20140107279A (ko) * | 2011-12-20 | 2014-09-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 탑재대 및 플라즈마 처리 장치 |
WO2013118781A1 (ja) * | 2012-02-08 | 2013-08-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 静電チャック装置 |
US9412635B2 (en) | 2012-02-08 | 2016-08-09 | Tokyo Electron Limited | Electrostatic chuck device |
JP2022111734A (ja) * | 2021-01-20 | 2022-08-01 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3323135B2 (ja) | 静電チャック | |
US6272002B1 (en) | Electrostatic holding apparatus and method of producing the same | |
US6351367B1 (en) | Electrostatic holding apparatus having insulating layer with enables easy attachment and detachment of semiconductor object | |
JP3485390B2 (ja) | 静電チャック | |
JPH05235152A (ja) | 静電チャック | |
CN110767596A (zh) | 静电吸盘 | |
US6122159A (en) | Electrostatic holding apparatus | |
EP2775516A2 (en) | Balanced stress assembly for semiconductor devices with one or more devices bonded on both sides to lead frames, the other sides of the lead frames being bonded to AlN, Al2O3 or Si3N4 substrates | |
JPH03217043A (ja) | 静電チャック装置 | |
JP4858319B2 (ja) | ウェハ保持体の電極接続構造 | |
KR20200027897A (ko) | 세라믹 기판 및 정전 척 | |
KR101979265B1 (ko) | 전력 반도체 모듈 패키지 및 이의 제조방법 | |
JP4002758B2 (ja) | パワー半導体モジュール | |
KR101397133B1 (ko) | 정전척의 제조방법 | |
JP2018157186A (ja) | セラミックスヒータ及び静電チャック並びにセラミックスヒータの製造方法 | |
JP6699765B2 (ja) | ウェハ保持体 | |
JPH06291175A (ja) | 静電チャック | |
JP3089756B2 (ja) | 静電チャック | |
JP7139165B2 (ja) | 保持装置 | |
JP2003179129A (ja) | 静電チャック装置 | |
JPH09293774A (ja) | 静電チャック | |
JPH11251419A (ja) | 基板保持用静電チャック及び基板保持方法 | |
JP2004031599A (ja) | 静電チャック | |
JP2960566B2 (ja) | 静電チャック基板および静電チャック | |
JP2004111533A (ja) | 静電吸着装置 |