JPH03215864A - 露光機 - Google Patents
露光機Info
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- JPH03215864A JPH03215864A JP2010370A JP1037090A JPH03215864A JP H03215864 A JPH03215864 A JP H03215864A JP 2010370 A JP2010370 A JP 2010370A JP 1037090 A JP1037090 A JP 1037090A JP H03215864 A JPH03215864 A JP H03215864A
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- JP
- Japan
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- film
- upper frame
- exposed
- superposed
- transparent conductive
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、露光機に関し、特にプリン1〜配線板を製造
する際に用いる露光機に関する。
する際に用いる露光機に関する。
(従来の技術)
プリント配線板を製造する際に、741〜マスクを用い
、露光処理を行なって回路を形成する方法がある。
、露光処理を行なって回路を形成する方法がある。
この方法は、絶縁基板に感光性樹脂層を塗布あるいはラ
ミネー1〜により形成し、その表面に回路m パターン以外から紫外線を透過するように処即したフォ
トマスクを積層し、紫外線を照躬して露光し、現像する
ことによって回路パターン以外の感光性樹脂層を残し、
その後無電解めっき処理等によって回路を形成する。
ミネー1〜により形成し、その表面に回路m パターン以外から紫外線を透過するように処即したフォ
トマスクを積層し、紫外線を照躬して露光し、現像する
ことによって回路パターン以外の感光性樹脂層を残し、
その後無電解めっき処理等によって回路を形成する。
露光の際に用いる露光機は、従来、上梓に取り付【プた
ポリエチレン等の高分子フイルムと、下粋に取り付けた
ガラスまたはアクリルとの間に絶縁基板を挟む@造にな
っていて、減圧下で互いに密看させ、感光性樹脂層を感
光する。なお、密着を良くするために、高分子フイルム
の表面をゴムローラで擦って間の空気を除去する処理を
行なうこともある。
ポリエチレン等の高分子フイルムと、下粋に取り付けた
ガラスまたはアクリルとの間に絶縁基板を挟む@造にな
っていて、減圧下で互いに密看させ、感光性樹脂層を感
光する。なお、密着を良くするために、高分子フイルム
の表面をゴムローラで擦って間の空気を除去する処理を
行なうこともある。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、従来の高分子フイルムを絶縁基板の表面に重ね
密着させる構造であると、上枠を上げて高分子フィルム
を絶縁基板から剥離するときに、高分子フイルム表面に
静電気が発生し、ゴミやほこりが付t−tる。このゴミ
等が付着した箇所は、紫外線が透過せず、そのために、
その部分の感光(2) 性樹脂層が露光されずに現像の際に除去される。
密着させる構造であると、上枠を上げて高分子フィルム
を絶縁基板から剥離するときに、高分子フイルム表面に
静電気が発生し、ゴミやほこりが付t−tる。このゴミ
等が付着した箇所は、紫外線が透過せず、そのために、
その部分の感光(2) 性樹脂層が露光されずに現像の際に除去される。
従って、無電解めつき処理を行なうと、感光性樹脂層の
除去された箇所にめっきが形成されるために、短絡不良
を生じ易い欠点がある。この欠点を解決するために、粘
着ローラで高分子フィルム表面のゴミ等を除去している
が、裏側を擦る作業のために、作業が困難であり、露光
処理の工程にかかる時間が長くなる欠点がある。
除去された箇所にめっきが形成されるために、短絡不良
を生じ易い欠点がある。この欠点を解決するために、粘
着ローラで高分子フィルム表面のゴミ等を除去している
が、裏側を擦る作業のために、作業が困難であり、露光
処理の工程にかかる時間が長くなる欠点がある。
本発明は、以上の欠点を改良し、露光時に発生する静電
気を原因とする不良を防止し、作業の容易な露光機を提
供することを目的とする。
気を原因とする不良を防止し、作業の容易な露光機を提
供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、上記の目的を達成するために、フィルムを取
り付けた上梓と基板を取り付けた下枠とからなる扶持体
により被露光体を挟み、この被露光体を露光する露光機
において、フィルムが透明導電性フィルムである露光機
を提供するものである。
り付けた上梓と基板を取り付けた下枠とからなる扶持体
により被露光体を挟み、この被露光体を露光する露光機
において、フィルムが透明導電性フィルムである露光機
を提供するものである。
(作用)
上粋に透明導電性フィルムを用いているために、(3)
このフィルムを被露光体から剥離づ−る際に静電気の発
生を著しく減少できる。また、フイルム表面をゴムロー
ラ等で擦った場合にも、同様に静電気の発生を減少でき
る。従って、静電気を原因としてゴミやほこりがフィル
ムに付看するのを大幅に減少できる。
生を著しく減少できる。また、フイルム表面をゴムロー
ラ等で擦った場合にも、同様に静電気の発生を減少でき
る。従って、静電気を原因としてゴミやほこりがフィル
ムに付看するのを大幅に減少できる。
(実施例)
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
第1図は露光ほの斜視図を示す。1は減圧室であり、内
部の上と下に露光用のランプが配置されている。2は減
圧室1から突き出して設けられた台である。3は、挟持
板であり、通常は台2の上に配置され、露光時には減圧
室1内に移送され、上下のランプの間に配置される。挟
持板3は、アルミ製の角状の上枠4に透明導電性フイル
ム5を取り付け、同じアルミ製の角状の下枠6にはガラ
ス板やアクリル板を基板7として取り付け、この上枠4
と下枠6とを一体化したもので、上枠4は、一端を支点
として可動できる。また、透明導電性フィルム5は、ポ
リエチレン等の透明性の高分子(4) フィルムにITO等の透明導電膜を形成したものである
。
部の上と下に露光用のランプが配置されている。2は減
圧室1から突き出して設けられた台である。3は、挟持
板であり、通常は台2の上に配置され、露光時には減圧
室1内に移送され、上下のランプの間に配置される。挟
持板3は、アルミ製の角状の上枠4に透明導電性フイル
ム5を取り付け、同じアルミ製の角状の下枠6にはガラ
ス板やアクリル板を基板7として取り付け、この上枠4
と下枠6とを一体化したもので、上枠4は、一端を支点
として可動できる。また、透明導電性フィルム5は、ポ
リエチレン等の透明性の高分子(4) フィルムにITO等の透明導電膜を形成したものである
。
次に上記実施例の動作について説明する。
被露光体は絶縁基板の両面に感光性樹脂層を形成した構
造とする。そしてこの被露光体8を第2図に示す通り、
下枠6の基板7の表面に載せる。
造とする。そしてこの被露光体8を第2図に示す通り、
下枠6の基板7の表面に載せる。
基板7には予じめネガ9が重ねられている。次に被露光
体8に他のネガ10を重ねる。ネガ10を重ねた後、第
3図に示す通り、上枠4を閉じて透明導電性フィルム5
を被露光体8に重ね、表面を11 ゴムローラ會で擦って、透明導電性フイルム5と被露光
体8との間に存在する空気を除去する。その後、挟持板
3を減圧室1内に移送し、ランプにより樹脂感光層に紫
外線を照射して露光する。露光後、挟持板3を再び台2
にまで引き出して上枠4を開いて透明導電性フイルム5
を被露光体8′h1ら剥離する。この際に、透明導電性
フイルム5は、表面がS電性であるために、従来の高分
子フイルムに比べてほとんど静電気が発生せず、ゴミ等
が付肴しない。従って、次の被露光体を挟持板3に挟ん
で露光処理を行なった場合に、ゴミ等により露光が妨げ
られることがない。露光後は、被露光体8を現像液に浸
漬して現像を行ない、さらに2次露光を行ない、無電解
めっき処即により絶縁基板に回路を形成する。こうして
形成された回路は、短絡不良をなくすことができる。
体8に他のネガ10を重ねる。ネガ10を重ねた後、第
3図に示す通り、上枠4を閉じて透明導電性フィルム5
を被露光体8に重ね、表面を11 ゴムローラ會で擦って、透明導電性フイルム5と被露光
体8との間に存在する空気を除去する。その後、挟持板
3を減圧室1内に移送し、ランプにより樹脂感光層に紫
外線を照射して露光する。露光後、挟持板3を再び台2
にまで引き出して上枠4を開いて透明導電性フイルム5
を被露光体8′h1ら剥離する。この際に、透明導電性
フイルム5は、表面がS電性であるために、従来の高分
子フイルムに比べてほとんど静電気が発生せず、ゴミ等
が付肴しない。従って、次の被露光体を挟持板3に挟ん
で露光処理を行なった場合に、ゴミ等により露光が妨げ
られることがない。露光後は、被露光体8を現像液に浸
漬して現像を行ない、さらに2次露光を行ない、無電解
めっき処即により絶縁基板に回路を形成する。こうして
形成された回路は、短絡不良をなくすことができる。
なお、上記実施例及び従来例について露光処理時の上枠
のフィルムの静電気量及び、絶縁基板に回路形成後の短
絡不良を測定した。
のフィルムの静電気量及び、絶縁基板に回路形成後の短
絡不良を測定した。
測定に用訃た絶縁基板は、厚さ1.5mtnz幅20
() mtn N長さ5 0 0 rtrmの、めっき
触媒入り接着剤を塗布したガラスエボキシ基材(日立化
成工余株式会社製ACL−E168)とし、この両面に
感光性フィルム(日立化成工業株式会社製SR−300
0−22)をラミネートして被露光体とする。
() mtn N長さ5 0 0 rtrmの、めっき
触媒入り接着剤を塗布したガラスエボキシ基材(日立化
成工余株式会社製ACL−E168)とし、この両面に
感光性フィルム(日立化成工業株式会社製SR−300
0−22)をラミネートして被露光体とする。
透明導電性フィルムは厚さ125μmのポリエステルフ
ィルムに抵抗500ΩのITOを形成したものとする。
ィルムに抵抗500ΩのITOを形成したものとする。
また、従来例は、上枠に取り付Cプるフィルムをポリエ
チレンフィルムとする以外は実施例と同じとする。短絡
不良は、倍率8倍の拡大鏡を用いて短絡箇所を調べた。
チレンフィルムとする以外は実施例と同じとする。短絡
不良は、倍率8倍の拡大鏡を用いて短絡箇所を調べた。
表
結果は表の通りとなった。表から明らかな通り、実施例
により静電気量を1/20にでき、短絡不良を防止でき
る。
により静電気量を1/20にでき、短絡不良を防止でき
る。
(発明の効果)
以上の通り、本発明によれば、十枠に透明導電性フィル
ムを取り付Gノでいるために、静電気による不良を防止
でき、露光処理の容易な露光閤が得られる。
ムを取り付Gノでいるために、静電気による不良を防止
でき、露光処理の容易な露光閤が得られる。
第1図は本発明の実施例の斜視図、第2図は上枠を用い
た状態の挟持板の側面図、第3図は上枠を閉じた状態の
挟持板の側面図を示す。 1・・・減圧室、 3・・・挟持板、 4・・・上枠5
・・・透明導電性フィルム、 6・・・下枠、(7) 7・・・基板、 8・・・被露光体。
た状態の挟持板の側面図、第3図は上枠を閉じた状態の
挟持板の側面図を示す。 1・・・減圧室、 3・・・挟持板、 4・・・上枠5
・・・透明導電性フィルム、 6・・・下枠、(7) 7・・・基板、 8・・・被露光体。
Claims (1)
- (1)フィルムを取り付けた上枠と基板を取り付けた下
枠とからなる挟持板により被露光体を挟み、この被露光
体を露光する露光機において、フィルムが透明導電性フ
ィルムである露光機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010370A JPH03215864A (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | 露光機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010370A JPH03215864A (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | 露光機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03215864A true JPH03215864A (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=11748271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010370A Pending JPH03215864A (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | 露光機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03215864A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002139825A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Ibiden Co Ltd | 露光用マスクの清掃方法および露光用マスクの清掃装置 |
JP2018016608A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | 紀伊産業株式会社 | カバー扱き装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5121337B1 (ja) * | 1971-03-29 | 1976-07-01 | ||
JPS53143402A (en) * | 1977-05-20 | 1978-12-13 | Shimuko Japan Kk | Contact printer for photographic engraving plate |
-
1990
- 1990-01-19 JP JP2010370A patent/JPH03215864A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5121337B1 (ja) * | 1971-03-29 | 1976-07-01 | ||
JPS53143402A (en) * | 1977-05-20 | 1978-12-13 | Shimuko Japan Kk | Contact printer for photographic engraving plate |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002139825A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Ibiden Co Ltd | 露光用マスクの清掃方法および露光用マスクの清掃装置 |
JP2018016608A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | 紀伊産業株式会社 | カバー扱き装置 |
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