JPH03209690A - データ線プリチヤージレベル接続回路 - Google Patents
データ線プリチヤージレベル接続回路Info
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- JPH03209690A JPH03209690A JP2004757A JP475790A JPH03209690A JP H03209690 A JPH03209690 A JP H03209690A JP 2004757 A JP2004757 A JP 2004757A JP 475790 A JP475790 A JP 475790A JP H03209690 A JPH03209690 A JP H03209690A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明にデータ線プリチャージレベルを内部で発生し
、かつ、不良となったデータ線を予備のデータ線に置き
換える手段を備えた半導体記憶装置の、データ線とデー
タ線プリチャージレベルとの接続回路に関するものであ
る。
、かつ、不良となったデータ線を予備のデータ線に置き
換える手段を備えた半導体記憶装置の、データ線とデー
タ線プリチャージレベルとの接続回路に関するものであ
る。
あらかじめ決められた待機時電位(プリチャージレベル
)に設定されたデータ線とデータ線とを備え、それに接
続されるメモリセル、(例えば1個のトランジスタと1
個のコンデンサで構成されるダイナミック形、あるいは
複数個のトランジスタよりなるラッチであるスタティッ
ク形)の電位を検出し、互いの電位を比較増巾すること
によって該当メモリセルの“0“”L#を随時に読み、
書きできる半導体記憶装置において、高集積化に伴うメ
モリセル数の増力口による製造上の欠陥により、完全切
作品の歩留り数が減少するという問題がある。
)に設定されたデータ線とデータ線とを備え、それに接
続されるメモリセル、(例えば1個のトランジスタと1
個のコンデンサで構成されるダイナミック形、あるいは
複数個のトランジスタよりなるラッチであるスタティッ
ク形)の電位を検出し、互いの電位を比較増巾すること
によって該当メモリセルの“0“”L#を随時に読み、
書きできる半導体記憶装置において、高集積化に伴うメ
モリセル数の増力口による製造上の欠陥により、完全切
作品の歩留り数が減少するという問題がある。
例えば、メモリセル数が約百万のIM(1メガ)の容量
の製品を考えた場合、たった1個のメモリセルが欠陥に
より不完全であったために、残りの999,999個の
メモリセルが完全であってもそのチップは不良としてい
たのでは、製造上の効率、いわゆる歩留りが低く採算性
が非常に悪くなってしまう。
の製品を考えた場合、たった1個のメモリセルが欠陥に
より不完全であったために、残りの999,999個の
メモリセルが完全であってもそのチップは不良としてい
たのでは、製造上の効率、いわゆる歩留りが低く採算性
が非常に悪くなってしまう。
そのため現在の半導体記憶装置では、予備のメモリセル
や、予備のワード線、データ線の選択手段(デコーダ)
killえており、不良の1内所を置換する様に工夫さ
れている(いわゆる冗長回路)。その方法としては、レ
ーザー光t1!!用するレーザトリマ装置によりヒユー
ズを切断する方法や、ヒユーズに外から1圧t4え大を
流を流丁ことによりヒユーズを清新させる1気ヒユ一ズ
方式があつto ここではレーザトリマ装置によってヒユーズ金し−ザ尤
で切断するレーザトリマ方式(以下LT方式と呼ぶ)に
より以下の説明を行う。
や、予備のワード線、データ線の選択手段(デコーダ)
killえており、不良の1内所を置換する様に工夫さ
れている(いわゆる冗長回路)。その方法としては、レ
ーザー光t1!!用するレーザトリマ装置によりヒユー
ズを切断する方法や、ヒユーズに外から1圧t4え大を
流を流丁ことによりヒユーズを清新させる1気ヒユ一ズ
方式があつto ここではレーザトリマ装置によってヒユーズ金し−ザ尤
で切断するレーザトリマ方式(以下LT方式と呼ぶ)に
より以下の説明を行う。
第2図に従来のり°イカミック形メモリによる冗長回路
を備えたデータ線プリチャージレベル接続回路Cコラム
(Coユumn lデコーダ)の回路図である。
を備えたデータ線プリチャージレベル接続回路Cコラム
(Coユumn lデコーダ)の回路図である。
図において、:11はロウデコーダ、21はメモリセル
、3;はデータ線、41はデータ線、61はセンスアン
プ、61μコラムデコーダ、(7)はヒユーズである。
、3;はデータ線、41はデータ線、61はセンスアン
プ、61μコラムデコーダ、(7)はヒユーズである。
もし、このデータ線31141に接続さa、tメモリセ
ル21の中に完全に前作しないものが含まれていた場片
、図中のヒユーズj71 f L T %直でカットす
ることにより、このデータ線31141の選択が行なわ
れない様にするものである。
ル21の中に完全に前作しないものが含まれていた場片
、図中のヒユーズj71 f L T %直でカットす
ることにより、このデータ線31141の選択が行なわ
れない様にするものである。
また、代わりに選択される予備デコーダは。
不良があったアドレスが選択された時だけ活性化される
ようにロジック構成をしてtitき、やはり、LTi置
でそのアドレスをプログラミングし1便用するのが一般
的であるが、本発明では関係がないので詳細説明は省略
する。
ようにロジック構成をしてtitき、やはり、LTi置
でそのアドレスをプログラミングし1便用するのが一般
的であるが、本発明では関係がないので詳細説明は省略
する。
図中のVBLと薔かれた信号が、データ線31 nlの
プリチャージレベルの配線であり、ψEQの信号により
データ線と接続され、その電位を伝達するものである。
プリチャージレベルの配線であり、ψEQの信号により
データ線と接続され、その電位を伝達するものである。
この例では+VCC(11源電圧)にプリチャージされ
、pチャネル、pチャネル両刀のセンスアンプ51を’
JえたD−RAMの例で説明する。
、pチャネル、pチャネル両刀のセンスアンプ51を’
JえたD−RAMの例で説明する。
第4図に示す波形図で示すように、まずワード線(WT
)が選択されメモリセルのトランジスタのゲートが高電
位になり、(例えばVccと同じ5vまで)セル容量に
蓄えられていたH又にLレベルがデータ線のプリチャー
ジレベルであった+VCCレベルに影響を与え、わずか
にそのレベルをg、助させる。
)が選択されメモリセルのトランジスタのゲートが高電
位になり、(例えばVccと同じ5vまで)セル容量に
蓄えられていたH又にLレベルがデータ線のプリチャー
ジレベルであった+VCCレベルに影響を与え、わずか
にそのレベルをg、助させる。
次に、センスアンプ、5)の活性化侶号が駆幼され、レ
ベル霊前が1巾され、低いレベルはnチャネルセンスア
ンプにより完全なOvレベル箇で高いレベルはpチャネ
ルセンスアンプにより完全なVCCレベルにされる。こ
の前作の間にコラムデコーダ′I61により1対のデー
タ線3)、データ線14)が選択され、この該当メモリ
セル、21の電位を、以降の増巾を経て外郭に伝えるた
めに工/○線に伝える。
ベル霊前が1巾され、低いレベルはnチャネルセンスア
ンプにより完全なOvレベル箇で高いレベルはpチャネ
ルセンスアンプにより完全なVCCレベルにされる。こ
の前作の間にコラムデコーダ′I61により1対のデー
タ線3)、データ線14)が選択され、この該当メモリ
セル、21の電位を、以降の増巾を経て外郭に伝えるた
めに工/○線に伝える。
従来、半導体記憶装置において、欠陥があった為に1組
めるいL/i腹数組のデコーダ同第を置換したにもかか
わらず、欠陥の内容によっては予備のメモリセルやデコ
ーダ回路2便用しても完全な良品とすることに至らない
ことがめる〇例えば欠陥によって、ワード1i(WL)
とデータ線が電気力にショート奮起こしていたような場
合、待機時のワード線レベルは常にOvである為、デー
タ線のブリチャージレベルケへたらせてしまい、所定の
レベルを維持できなくなり、マージン不良音引き起こす
という問題点がめった。この動作を第5図の回路図およ
び第6図の波形図によって説明する。
めるいL/i腹数組のデコーダ同第を置換したにもかか
わらず、欠陥の内容によっては予備のメモリセルやデコ
ーダ回路2便用しても完全な良品とすることに至らない
ことがめる〇例えば欠陥によって、ワード1i(WL)
とデータ線が電気力にショート奮起こしていたような場
合、待機時のワード線レベルは常にOvである為、デー
タ線のブリチャージレベルケへたらせてしまい、所定の
レベルを維持できなくなり、マージン不良音引き起こす
という問題点がめった。この動作を第5図の回路図およ
び第6図の波形図によって説明する。
第5図のようvc n迫上の欠陥でワード線とデータS
がショートを起こした場合、第5図に示すように待機時
が長くなるような動作タイミングでメモリを使用した場
合、プリチャージレベルVBLは徐々に下がり、メモリ
セルかHのときVC、データ線がまだHVcなりきらな
い内に工10線に伝達され、以降の増巾時にエラーを起
こす要因となった。待に従来のVBL接続方法では欠陥
に無関係にデータ線とVBLを接続するので。
がショートを起こした場合、第5図に示すように待機時
が長くなるような動作タイミングでメモリを使用した場
合、プリチャージレベルVBLは徐々に下がり、メモリ
セルかHのときVC、データ線がまだHVcなりきらな
い内に工10線に伝達され、以降の増巾時にエラーを起
こす要因となった。待に従来のVBL接続方法では欠陥
に無関係にデータ線とVBLを接続するので。
このVBl、のへたりを防ぐ事はできないという問題点
があった。
があった。
この発明に上記のような問題点を解決するためになzn
たもので、欠陥により前作しないデータ線をヒューズヲ
柚断してもVBLがへたることのないデータ融プリチャ
ージレベル接続回路金得ること全目的とする◎ 〔課題を解決するための手段および作用〕この発明に係
るデータ線プリチャージレベル回路I/i、デコーダと
して不良が認められ置換を受けた時は、簡単なaシック
の付加によりVBLとデータ線とを電気的に切り離すよ
うにしたものである。
たもので、欠陥により前作しないデータ線をヒューズヲ
柚断してもVBLがへたることのないデータ融プリチャ
ージレベル接続回路金得ること全目的とする◎ 〔課題を解決するための手段および作用〕この発明に係
るデータ線プリチャージレベル回路I/i、デコーダと
して不良が認められ置換を受けた時は、簡単なaシック
の付加によりVBLとデータ線とを電気的に切り離すよ
うにしたものである。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図にこの発明の一実施例を示すダイナミック形メモ
リによる冗長回路を博え虎データ線選択101絡の回路
図である。なお、図中符号に前記従来のものと同一につ
!説明は省略する。
リによる冗長回路を博え虎データ線選択101絡の回路
図である。なお、図中符号に前記従来のものと同一につ
!説明は省略する。
この例のコラムデコーダ16)は1つのセットで4組の
データ線対・311411選択するため、lケ所のヒユ
ーズ1フ)により4組のデータ線対會、4断することも
できる。
データ線対・311411選択するため、lケ所のヒユ
ーズ1フ)により4組のデータ線対會、4断することも
できる。
kニー −L −X +71が17If!fTされ、こ
のコラムデコーダ6)の使用を不可dヒにした際には、
ノードlがpチャネルトランジスタで待機時に充電され
るパスを断之れる為、データ線プリチャージを命令する
信号ΦZQが活性化されても、ノードlと1)gQとの
AND回路であるノード2がHレベルL/Cなることが
なく、−1 哄、データ線がVBLと接続きれることtfi匙らな二
い。
のコラムデコーダ6)の使用を不可dヒにした際には、
ノードlがpチャネルトランジスタで待機時に充電され
るパスを断之れる為、データ線プリチャージを命令する
信号ΦZQが活性化されても、ノードlと1)gQとの
AND回路であるノード2がHレベルL/Cなることが
なく、−1 哄、データ線がVBLと接続きれることtfi匙らな二
い。
第6図にそのタイミング波形図を示す。
以上の儂にこの発明によれば、何らかの欠陥により創作
しないデータ線を含むデコーダをヒューズテ4Wfrシ
てロジック的1cvBr、がデータ線と接続されること
がなくなるようVC構成したので、いかなる欠陥に2い
ても、VJ、がへたる事による不良の発生を防ぐことが
でき、また内部ノードli初期状態時必らず0vlCす
るために電源投入時に発生するワンショットパルスであ
るFOR信号でのリセットが可能となるなどの効果があ
る。
しないデータ線を含むデコーダをヒューズテ4Wfrシ
てロジック的1cvBr、がデータ線と接続されること
がなくなるようVC構成したので、いかなる欠陥に2い
ても、VJ、がへたる事による不良の発生を防ぐことが
でき、また内部ノードli初期状態時必らず0vlCす
るために電源投入時に発生するワンショットパルスであ
るFOR信号でのリセットが可能となるなどの効果があ
る。
4、図1の+i1g囃な説明
第1図に本発明の一実施例であるデータ、線プリチャー
ジレベル接続回路の回路図、第2図は第1図における回
路の動作タイミング波形図。
ジレベル接続回路の回路図、第2図は第1図における回
路の動作タイミング波形図。
第3図に従来のデータ線プリチャージレベル接続回路の
l1mIJ路図、第4図ri第8図における回路の動作
タイミング波形図、第5図に欠陥の一例を表わす回路図
、第6図は第5図による欠陥による誤動作時のタイミン
グ波形図である。
l1mIJ路図、第4図ri第8図における回路の動作
タイミング波形図、第5図に欠陥の一例を表わす回路図
、第6図は第5図による欠陥による誤動作時のタイミン
グ波形図である。
図において、+l+!’fロウデコーダ、21riメモ
リセル、31ハデータ線、ltl LIiデータ線1.
ltlはセンスアンプ、161はコラムデコーダ、+7
11’jヒユーズを示す。
リセル、31ハデータ線、ltl LIiデータ線1.
ltlはセンスアンプ、161はコラムデコーダ、+7
11’jヒユーズを示す。
なお、図中、同一符号に同一 =1爬は相当部分を示す
。
。
Claims (1)
- 不良であるメモリセルを予備のメモリセルと置き換える
手段を備えた半導体記憶装置において、メモリセルから
の電位を伝えるデータ線の待機時におけるレベルを与え
る手段で、置き換えられたデータ線を待機時レベル信号
と電気的に切り離す論理を備えた事を特徴とするデータ
線プリチャージレベル接続回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004757A JPH03209690A (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | データ線プリチヤージレベル接続回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004757A JPH03209690A (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | データ線プリチヤージレベル接続回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03209690A true JPH03209690A (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=11592769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004757A Pending JPH03209690A (ja) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | データ線プリチヤージレベル接続回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03209690A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6501694B2 (en) | 2001-03-12 | 2002-12-31 | Fujitsu Limited | Precharge circuit with small width |
JP2004071144A (ja) * | 2002-08-06 | 2004-03-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリ装置のビットラインプリチャージ回路 |
JP2004164843A (ja) * | 1997-03-11 | 2004-06-10 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
-
1990
- 1990-01-11 JP JP2004757A patent/JPH03209690A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004164843A (ja) * | 1997-03-11 | 2004-06-10 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US6501694B2 (en) | 2001-03-12 | 2002-12-31 | Fujitsu Limited | Precharge circuit with small width |
JP2004071144A (ja) * | 2002-08-06 | 2004-03-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリ装置のビットラインプリチャージ回路 |
JP4652675B2 (ja) * | 2002-08-06 | 2011-03-16 | 三星電子株式会社 | 半導体メモリ装置のビットラインプリチャージ回路 |
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