JPH0320758Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0320758Y2
JPH0320758Y2 JP18702885U JP18702885U JPH0320758Y2 JP H0320758 Y2 JPH0320758 Y2 JP H0320758Y2 JP 18702885 U JP18702885 U JP 18702885U JP 18702885 U JP18702885 U JP 18702885U JP H0320758 Y2 JPH0320758 Y2 JP H0320758Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
sample chamber
gas
low
heat exchange
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP18702885U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6293745U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP18702885U priority Critical patent/JPH0320758Y2/ja
Publication of JPS6293745U publication Critical patent/JPS6293745U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0320758Y2 publication Critical patent/JPH0320758Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 この考案は、各種半導体あるいは金属、非金属
等の材料あるいは部品等を低温において検査もし
くは測定するための低温試験用試料冷却装置に関
し、特にその低温試験用試料冷却装置において低
温の試料に対し外部から光を入射させたり外部へ
光を放出させたりするための光学窓や試料表面に
おける水分などの不純物による曇りを防止する技
術に関するものである。
従来の技術 Ga−As系半導体あるいはGa−In−As系半導
体等の各種半導体の製造にあつては、品質管理の
ために低温環境に置かれた半導体試料に光を照射
して格子欠陥等の各種欠陥を検出することが行な
われている。またこのほか、各種材料に対してそ
の低温での特性や挙動を調べるため、低温環境に
置かれた試料に光を照射したり、またその低温試
料の光の透過光、反射光、散乱光等を測定したり
することが最近では広く行なわれるようになつて
いる。
このような低温での光学的試験を行なうにあた
つて試料を低温に冷却保持しておくための試料冷
却装置としては、最近に至り第2図に示すような
装置が開発されている。この試料冷却装置につい
て次に説明する。
液体窒素あるいは液体ヘリウム等の低温液化ガ
ス1を収容するための冷却槽2には、全体として
中空筒状をなす内筒体3がその冷却槽2の中央部
を上下に貫通するように配設されており、その内
筒体3の下端には、冷却槽2の下方において試料
室4が形成されている。またその内筒体3の上部
には、内筒体3内および試料室4内にヘリウムガ
ス等の熱交換用ガスを導入するための導入口10
が設けられている。前記内筒体3内には、半導体
試料などの試験対象となる試料5を保持しておく
ための試料保持部6を下端に設けた保持軸7が上
方から挿入されている。そして前記冷却槽2およ
び試料室4はその全体が間隔を置いて外装体8に
よつて取囲まれており、その冷却槽2および試料
室4の外面と外装体8の内面との間は例えば真空
断熱による断熱層9とされている。さらに前記試
料保持部6に保持される試料5に対向する位置に
おける試料室4の壁面および外装体8の壁面に
は、それぞれ試料5に光を入射させたり逆に透過
光、反射光、散乱光等を放出させたりするための
光学窓11,12が形成されている。なお第2図
において13は冷却槽2内へ低温液化ガスを供給
するための供給管、14は冷却槽2内で蒸発した
ガスの放出口である。
第2図に示す装置を用いて試料5の低温光学試
験を行なうにあたつては、予め内筒体3および試
料室4内を排気して真空とした後、冷却槽2内に
液体窒素等の低温液化ガス1を注入しておき、熱
交換用ガス導入口10から内筒体3および試料室
4内へヘリウムガス等の熱交換用ガス15を導入
する。この熱交換用ガス15は内筒体3の内面で
熱交換されて低温に冷却され、その低温となつた
ガスにより試料室4内において試料5が低温に冷
却される。そして前記光学窓12,11を経て入
射する光によつて試料5の低温試験がなされる。
考案が解決すべき問題点 上述のような低温試験用試料冷却装置におい
て、熱交換用ガス15を内筒体3および試料室4
内に導入する際には、熱交換用ガス15は内筒体
4内において液体窒素温度程度の低温まで急速に
冷却されるため、水分や炭酸ガスなどの不純物の
凝結が生じて試料室4の光学窓11の内面を曇ら
せてしまうことがある。すなわち、内筒体4内へ
熱交換用ガス15を導入するための導入管や配管
途中のバルブなどには、不可避的に若干の水分な
どが付着しているのが通常であり、そのためガス
供給源においては露点の低いガスであつても、内
筒体4内に導入される際には水分などを含有して
いるガスとなり、そのガスが冷却することにより
水分などの凝結が生じて光学窓11を曇らせてし
まうことが多いのである。このように光学窓11
内面が曇れば、光学的試験の精度が低下するのみ
ならず、極端な場合は試験が困難となることもあ
る。
また光学窓のみならず試料表面に水分などによ
る曇りが生じれば光学試験の精度低下等の問題を
招くおそれがある。そして試料表面の水分などに
よる曇りは、光学試験の場合のみならず、そのほ
かの低温試験においても問題となることが多い。
この考案は以上の問題を有効に解決し、試料室
の光学窓の内面や試料表面が熱交換ガスの導入に
よつて曇つてしまう事態の発生を防止するように
した低温試験用試料冷却装置を提供することを目
的とするものである。
問題点を解決するための手段 この考案は、全体として中空筒状をなす内筒体
が、低温液化ガスを収容する冷却槽の中央部を上
下に貫通するように配設され、かつその内筒体の
下端には冷却槽の下方において試料室が形成さ
れ、また前記内筒体内には、試料を保持するため
の試料保持部を下端に設けた保持軸が上方から挿
入され、前記冷却槽および試料室が全体として外
装体によつて取囲まれ、かつその冷却槽および試
料室の外面と外装体との間が断熱層とされ、前記
試料室の壁面および外装体の壁面には、それぞれ
前記試料に対応する位置に光学窓が形成されてお
り、さらに前記内筒体および試料室内に外部から
熱交換用ガスを導入するように構成された低温試
験用試料冷却装置において、前記冷却槽内の低温
液化ガスに浸漬される位置に、外部から前記熱交
換用ガスが導入されてその導入ガス中の水分や炭
酸ガスなどの不純物を吸着するための不純物吸着
トラツプが配設され、この不純物吸着トラツプを
通過した熱交換ガスを内筒体および試料室内へ導
入するための管路が、前記試料室の壁面の光学窓
に対向する位置まで延びており、その光学窓に熱
交換用ガスを吹付けるように構成されていること
を特徴とするものである。
作 用 この考案の低温試験用試料冷却装置において
は、外部からの熱交換用ガスが、冷却槽内の低温
液化ガスに浸漬される位置に設けた不純物吸着ト
ラツプを通過してから内筒体および試料室内に導
入される。このように不純物吸着トラツプは冷却
槽内の低温液化ガスに浸漬される位置に設けられ
ているから、熱交換用ガスはその不純物吸着トラ
ツプを通過する際に低温に冷却されつつ、水分な
どが除去される。したがつてその部分で冷却によ
り水分などの凝結が生じてもその凝結水分などは
ただちに不純物吸着トラツプにより吸着除去され
るから、熱交換用ガスは充分に低温でしかも水分
などの不純物が充分に除去された状態ではじめて
内筒体および試料室内に導入される。そのため内
筒体および試料室内では、もはや熱交換用ガス中
の水分などの凝結はほとんど生ぜず、したがつて
試料室の光学窓内面や試料表面が曇ることは有効
に防止される。
ここで、場合によつては試料交換時の外気侵入
などによつて内筒体内面に予め水分などが結露に
より付着されていることもあり、この場合不純物
吸着トラツプを通過した熱交換ガスを内筒体の上
部に導入すれば、そのガスが試料室に至るまでの
間に内筒体内面の付着水分などを同伴して試料室
の光学窓を曇らせてしまう可能性があるが、この
考案では、熱交換用ガスを導入する管路を試料室
壁面の光学窓の内面に対向する位置まで延長さ
せ、その光学窓に熱交換用ガスを直接吹付けるよ
うに構成しているから、そのような事態の発生を
防止できる。
実施例 第1図はこの考案の一実施例の低温試験用試料
冷却装置を示す。なお第1図において、第2図に
示される要素と同一の要素については同一の符号
を付し、その説明は省略する。
第1図において、冷却槽2内の低温液化ガス1
に浸漬される位置には、上下に長い不純物吸着ト
ラツプ16が上方から外装体8の上面を貫通して
ほぼ垂直に挿入されている。この不純物吸着トラ
ツプ16は、上下面を閉じた中空筒状の吸着剤容
器17の中心軸位置に、下端を開放した中空管状
のガス供給管18を上方から同心状に挿入すると
ともに、吸着剤容器17の上部側面にガス導出口
19を形成し、かつガス供給管18の外面と吸着
剤容器17の内面との間に活性炭等の吸着剤20
を充填したものである。この不純物吸着トラツプ
16のガス供給管18には、外部の図示しないガ
ス源から外部配管21およびバルブ22を介して
ヘリウムガス等の熱交換用ガス15が導かれ、そ
のガスはガス供給管の下端から吸着剤容器17内
の吸着剤20中を上昇する際に吸着剤容器17の
壁面で熱変換されて低温液化ガス1の温度近くま
で冷却されるとともに、その冷却によつて凝結し
た水分やその他の不純物成分は吸着剤20に吸着
される。したがつて熱交換用ガス15がガス導出
口19から出る際には、低温液化ガス1の温度近
くの低温となつておりしかも水分やその他の不純
物が充分に除去された状態となつている。
前記不純物吸着トラツプ16のガス導出口19
には、内筒体3の下端の試料室4の光学窓11の
近くまで熱交換用ガス15を導くための導入管路
23が接続されている。この導入管路23は、内
筒体3の上部において内筒体3内に挿入され、下
方へ延長されてその先端の開口端23Aは試料室
4の光学窓11に向いている。したがつて前述の
ように不純物吸着トラツプ16において低温に冷
却されかつ充分に水分などが除去された熱交換用
ガス15は導入管路23の開口端23Aから直接
試料室4の光学窓11に向けて吹付けられること
になる。そのため試料室4の光学窓11が凝結水
分などによつて曇ることが有効に防止され、特に
この実施例では、たとえ試料交換時の外気侵入な
どにより内筒体3の内面に結露水などが付着して
いたとしても、その水分などが熱交換用ガスに同
伴されて試料室4の光学窓11に至ることがな
く、したがつて光学窓11に対する曇り防止効果
は極めて大きい。
なお第1図の実施例においては、冷却槽2内の
低温液化ガス1の蒸発ガスを外部へ放出させるた
めの放出口14は、不純物吸着トラツプ16の上
部の周囲に形成されているが、必ずしも放出口1
4はこのように構成する必要はなく、不純物吸着
トラツプ16とは別に設けておいても良いことは
勿論である。
なおまた、第1図の実施例では試料5に対する
試料室4および装置外装体8の片面側のみにそれ
ぞれ光学窓11,12を設けた構成としたが、光
学試験の種類に応じて試料5に対する両面側にそ
れぞれ光学窓を設けても良いことは勿論であり、
この場合は試料室4の両面側の光学窓にそれぞれ
不純物吸着トラツプ16を通過した熱交換ガスを
直接吹付けるように構成することが望ましい。
考案の効果 以上の説明で明らかなように、この考案の低温
試験用試料冷却装置においては、試料室の光学窓
や試料表面が、低温に冷却された熱交換用ガス中
の水分などの凝結によつて曇つてしまう事態の発
生を有効に防止でき、したがつて試料室光学窓や
試料表面の曇りにより試料に対する外部からの入
射光や試料からの反射光、透過光、散乱光等が遮
られて光学試験の測定誤差が増大したり試験が不
可能となつたりすることを有効に防止できる。ま
た光学試験の場合のみならずその他の低温試験の
場合も試料表面の曇り防止によりその試験精度を
向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例の低温試験用試料
冷却装置を示す縦断面図、第2図は従来の低温光
学試験用試料冷却装置の一例を示す縦断面図であ
る。 1……低温液化ガス、2……冷却槽、3……内
筒体、4……試料室、5……試料、6……試料保
持部、7……保持軸、8……外装体、9……断熱
層、11……光学窓、15……熱交換用ガス、1
6……不純物吸着トラツプ、20……吸着剤、2
3……導入管路。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 全体として中空筒状をなす内筒体が、低温液化
    ガスを収容する冷却槽の中央部を上下に貫通する
    ように配設され、かつその内筒体の下端には冷却
    槽の下方において試料室が形成され、また前記内
    筒体内には、試料を保持するための試料保持部を
    下端に設けた保持軸が上方から挿入され、前記冷
    却槽および試料室が全体として外装体によつて取
    囲まれ、かつその冷却槽および試料室の外面と外
    装体との間が断熱層とされ、前記試料室の壁面お
    よび外装体の壁面には、それぞれ前記試料に対応
    する位置に光学窓が形成されており、さらに前記
    内筒体および試料室内に外部から熱交換用ガスを
    導入するように構成された低温試験用試料冷却装
    置において、 前記冷却槽内の低温液化ガスに浸漬される位置
    に、外部から前記熱交換用ガスが導入されてその
    導入ガス中の水分、炭酸ガス等の不純物を吸着す
    るための不純物吸着トラツプが配設され、この不
    純物吸着トラツプを通過した熱交換ガスを内筒体
    および試料室内へ導入するための管路が、前記試
    料室の壁面の光学窓に対向する位置まで延びてお
    り、その光学窓に熱交換用ガスを吹付けるように
    構成されていることを特徴とする低温試験用試料
    冷却装置。
JP18702885U 1985-12-04 1985-12-04 Expired JPH0320758Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18702885U JPH0320758Y2 (ja) 1985-12-04 1985-12-04

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18702885U JPH0320758Y2 (ja) 1985-12-04 1985-12-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6293745U JPS6293745U (ja) 1987-06-15
JPH0320758Y2 true JPH0320758Y2 (ja) 1991-05-07

Family

ID=31137127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18702885U Expired JPH0320758Y2 (ja) 1985-12-04 1985-12-04

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0320758Y2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH087120B2 (ja) * 1990-03-26 1996-01-29 長瀬産業株式会社 試料特性の測定装置及びその測定方法
JP3212367B2 (ja) * 1992-06-18 2001-09-25 三菱重工業株式会社 太陽光吸収率及びふく射率測定装置
JP6857293B2 (ja) * 2017-03-16 2021-04-14 大陽日酸株式会社 凍結保存容器
WO2021131056A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 株式会社エムダップ 真空断熱二重容器に用いる輸送試料の固定装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6293745U (ja) 1987-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5753791A (en) Multisample dynamic headspace sampler
US9885696B2 (en) System for analyzing mercury
CN108352345B (zh) 测量用于基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的方法和系统
JP2006261675A (ja) 基板ウエハの汚染を監視するための方法および装置
US6119534A (en) Dynamic headspace outgassing system
JPH0320758Y2 (ja)
US3826577A (en) Gas analyzing apparatus
KR101217037B1 (ko) 수질 평가 방법 및 그에 이용하는 기판 접촉 기구
US6248997B1 (en) Method of analyzing substances existing in gas
JPH07111393B2 (ja) 水分測定装置
US6368870B1 (en) Controlled diffusion analysis
US3852604A (en) Mercury analysis system and method
US5563330A (en) Method and device for measuring the concentration of a detector gas in a measuring gas containing an interfering gas
JP4693268B2 (ja) 試料水の水質評価方法
JP3571930B2 (ja) 微量有機物捕集装置
US5092183A (en) Device for cooling testing tubes
JP2009162609A (ja) 表面汚染度評価方法及び表面汚染度評価装置
US6609415B2 (en) Method of evaluating adsorption of contaminant on solid surface
JP2542208Y2 (ja) 分析用サンプル冷却装置及びそのサンプルホルダー
JPS6246265Y2 (ja)
JPH0431740A (ja) 大気汚染物質有無検査方法
KR0184899B1 (ko) 수분감응장치 또는 절차에 사용된 요염물질의 네가티브 임펙트를 감소시키기 위한 역류장치 및 그 감소방법
JPH1048221A (ja) 冷却装置付分析計
JP3936912B2 (ja) 液体のx線分析用のサンプル容器、測定装置及び方法
JPH0637319Y2 (ja) 螢光x線分析装置