JPH0637319Y2 - 螢光ｘ線分析装置 - Google Patents
螢光ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH0637319Y2 JPH0637319Y2 JP1985204007U JP20400785U JPH0637319Y2 JP H0637319 Y2 JPH0637319 Y2 JP H0637319Y2 JP 1985204007 U JP1985204007 U JP 1985204007U JP 20400785 U JP20400785 U JP 20400785U JP H0637319 Y2 JPH0637319 Y2 JP H0637319Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- fluorescent
- sample
- liquid nitrogen
- excitation bench
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、螢光Ｘ線分析装置の改良に関する。
螢光Ｘ線分析装置は、例えばメッキ組成分析や鋼種判別
等に用いられるが、その測定対象元素によっては空気に
よるＸ線吸収や、空気中の元素の影響を受けるところか
ら、従来のこの種装置においては、励起ベンチ内のＸ線
パスを真空に引いたり、或いは別途用意したボンベから
の窒素ガスによってＸ線パスをパージするようにしてい
た。
等に用いられるが、その測定対象元素によっては空気に
よるＸ線吸収や、空気中の元素の影響を受けるところか
ら、従来のこの種装置においては、励起ベンチ内のＸ線
パスを真空に引いたり、或いは別途用意したボンベから
の窒素ガスによってＸ線パスをパージするようにしてい
た。
しかしながら、上記前者によれば、Ｘ線パス周囲を密閉
構造にする必要があると共に、真空ポンプを接続せねば
ならず、構成が極めて複雑になる。また、後者によれ
ば、Ｘ線パス周囲を密閉構造にする必要はないが、窒素
ガスボンベを用意せねばならない他、該ガスボンベと励
起ベンチとの間に配管を引き回す必要があり、構成が複
雑となる。
構造にする必要があると共に、真空ポンプを接続せねば
ならず、構成が極めて複雑になる。また、後者によれ
ば、Ｘ線パス周囲を密閉構造にする必要はないが、窒素
ガスボンベを用意せねばならない他、該ガスボンベと励
起ベンチとの間に配管を引き回す必要があり、構成が複
雑となる。
本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、構成が簡単で安価な螢光Ｘ線分析
装置を提供することにある。
目的とするところは、構成が簡単で安価な螢光Ｘ線分析
装置を提供することにある。
上述の目的を達成するため、本考案は、励起ベンチの上
部に載置された試料に対してその下方からＸ線を照射
し、そのとき生ずる螢光Ｘ線を、試料の下方に設けられ
た検出器によって検出すると共に、この検出器を、液体
窒素を気化させて冷却するようにした螢光Ｘ線分析装置
において、前記試料の下部、かつ、前記励起ベンチ内に
形成されるＸ線パスを、前記液体窒素の気化ガスにより
パージするように構成した点を特徴としている。
部に載置された試料に対してその下方からＸ線を照射
し、そのとき生ずる螢光Ｘ線を、試料の下方に設けられ
た検出器によって検出すると共に、この検出器を、液体
窒素を気化させて冷却するようにした螢光Ｘ線分析装置
において、前記試料の下部、かつ、前記励起ベンチ内に
形成されるＸ線パスを、前記液体窒素の気化ガスにより
パージするように構成した点を特徴としている。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、本考案に係る螢光Ｘ線分析装置の要部を示
し、１はハウジング２の上方に設けられた金属製の励起
ベンチで、上方に開口したＸ線パス３を備えると共に、
上端面に試料Ｓを載置する試料載置分光４を有してい
る。
し、１はハウジング２の上方に設けられた金属製の励起
ベンチで、上方に開口したＸ線パス３を備えると共に、
上端面に試料Ｓを載置する試料載置分光４を有してい
る。
５は前記励起ベンチ１の側部に設けられた例えばターゲ
ット方式のＸ線管で、前記試料ＳにＸ線ａを照射するべ
く構成されている。
ット方式のＸ線管で、前記試料ＳにＸ線ａを照射するべ
く構成されている。
６は前記励起ベンチ１の底部に設けられた例えばSi（L
i）等半導体センサを備えた検出器で、前記Ｘ線ａが試
料Ｓに当たった際生ずる螢光Ｘ線ｂを検出するものであ
る。
i）等半導体センサを備えた検出器で、前記Ｘ線ａが試
料Ｓに当たった際生ずる螢光Ｘ線ｂを検出するものであ
る。
前記検出器６はデュワー９内に収容された液体窒素10に
浸漬されている。11はデュワー９の開口部を密閉するパ
ッキン等の密栓である。
浸漬されている。11はデュワー９の開口部を密閉するパ
ッキン等の密栓である。
12は前記デュワー９内に液体窒素10を供給するためのイ
ンレットラインで、13はその入口である。14は前記イン
レットライン12によって供給された液体窒素10の量があ
る一定レベルに達したとき、余分の液体窒素10をオーバ
ーフローさせるためのオーバーフローラインで、15はそ
の出口である。これら両ライン12,14を形成する管は前
記密栓11を挿通し、その端部はデュワー９内の液体窒素
10に臨むようにしてある。
ンレットラインで、13はその入口である。14は前記イン
レットライン12によって供給された液体窒素10の量があ
る一定レベルに達したとき、余分の液体窒素10をオーバ
ーフローさせるためのオーバーフローラインで、15はそ
の出口である。これら両ライン12,14を形成する管は前
記密栓11を挿通し、その端部はデュワー９内の液体窒素
10に臨むようにしてある。
16は前記インレットライン12の途中から分岐接続された
パージラインで、前記試料Ｓの下部、かつ、励起ベンチ
１内に形成されるＸ線パス３に通じている。17はこのパ
ージライン16の途中に設けられた温調部である。
パージラインで、前記試料Ｓの下部、かつ、励起ベンチ
１内に形成されるＸ線パス３に通じている。17はこのパ
ージライン16の途中に設けられた温調部である。
而して、上記構成において、液体窒素10をデュワー９に
補充するときは、インレットライン12、オーバーフロー
ライン14の入口13、出口15を開放し、図外の供給源より
液体窒素10を供給する。そして、所定レベルに達する
と、液体窒素10はオーバーフローライン14の出口15を経
てオーバーフローする。
補充するときは、インレットライン12、オーバーフロー
ライン14の入口13、出口15を開放し、図外の供給源より
液体窒素10を供給する。そして、所定レベルに達する
と、液体窒素10はオーバーフローライン14の出口15を経
てオーバーフローする。
次に、測定時においては、先ず、試料Ｓを励起ベンチ１
の所定位置にセットする。そして、前記入口13、出口15
を閉鎖する。デュワー９内の液体窒素10により検出器６
が冷却される。
の所定位置にセットする。そして、前記入口13、出口15
を閉鎖する。デュワー９内の液体窒素10により検出器６
が冷却される。
一方、前記液体窒素10の気化によって生じた窒素ガス18
はインレットライン12及びパージライン16を経て励起ベ
ンチ１のＸ線パス３に導入されるので、この窒素ガス18
によりＸ線パス３はパージされる。なお、パージ後の窒
素ガス18は例えば試料Ｓと試料載置部４との間のわずか
な隙間から励起ベンチ１外に出て行く。
はインレットライン12及びパージライン16を経て励起ベ
ンチ１のＸ線パス３に導入されるので、この窒素ガス18
によりＸ線パス３はパージされる。なお、パージ後の窒
素ガス18は例えば試料Ｓと試料載置部４との間のわずか
な隙間から励起ベンチ１外に出て行く。
この場合、パージライン16に設けた温調部17によって前
記窒素ガス18を所定温度に加熱すると、次のような効果
がある。即ち、Ｘ線パス３をパージする窒素ガス18の温
度が変化すると、該ガス密度が変化して窒素ガス18によ
るＸ線a,bの吸収量が変化して、測定誤差の原因となる
が、パージライン16を通過する窒素ガス18を一定温度に
加熱し、これを前記Ｘ線パス３に送り込むことにより、
該Ｘ線パス３の雰囲気が測定に最も好ましい状態に保持
され、精度の高い測定が行える。
記窒素ガス18を所定温度に加熱すると、次のような効果
がある。即ち、Ｘ線パス３をパージする窒素ガス18の温
度が変化すると、該ガス密度が変化して窒素ガス18によ
るＸ線a,bの吸収量が変化して、測定誤差の原因となる
が、パージライン16を通過する窒素ガス18を一定温度に
加熱し、これを前記Ｘ線パス３に送り込むことにより、
該Ｘ線パス３の雰囲気が測定に最も好ましい状態に保持
され、精度の高い測定が行える。
なお、デュワー９内にヒータを設け、測定時このヒータ
をオンするようにして、液体窒素10の気化を促進しする
ようにしてもよい。
をオンするようにして、液体窒素10の気化を促進しする
ようにしてもよい。
以上説明したように、本考案に係る螢光Ｘ線分析装置
は、試料の下部、かつ、励起ベンチ内に形成されるＸ線
パスを、検出器を冷却するための液体窒素の気化ガスに
よりパージするようにしているので、液体窒素の利用効
率が高まると共に、窒素ガスボンベを用意したり、該ガ
スボンベと励起ベンチとの間に配管を引き回したりする
必要がないので、構成が簡単になり、この種螢光Ｘ線分
析装置を安価に得ることができる。
は、試料の下部、かつ、励起ベンチ内に形成されるＸ線
パスを、検出器を冷却するための液体窒素の気化ガスに
よりパージするようにしているので、液体窒素の利用効
率が高まると共に、窒素ガスボンベを用意したり、該ガ
スボンベと励起ベンチとの間に配管を引き回したりする
必要がないので、構成が簡単になり、この種螢光Ｘ線分
析装置を安価に得ることができる。
第１図は本考案に係る螢光Ｘ線分析装置の要部を示す断
面図である。 １……励起ベンチ、３……Ｘ線パス、６……検出器、10
……液体窒素、18……気化ガス、Ｓ……試料。
面図である。 １……励起ベンチ、３……Ｘ線パス、６……検出器、10
……液体窒素、18……気化ガス、Ｓ……試料。
Claims (1)
- 【請求項１】励起ベンチの上部に載置された試料に対し
てその下方からＸ線を照射し、そのとき生ずる螢光Ｘ線
を、試料の下方に設けられた検出器によって検出すると
ともに、この検出器を、液体窒素を気化させて冷却する
ようにした螢光Ｘ線分析装置において、前記試料の下
部、かつ、前記励起ベンチ内に形成されるＸ線パスを、
前記液体窒素の気化ガスによりパージするように構成し
たことを特徴とする螢光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985204007U JPH0637319Y2 (ja) | 1985-12-31 | 1985-12-31 | 螢光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985204007U JPH0637319Y2 (ja) | 1985-12-31 | 1985-12-31 | 螢光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62111653U JPS62111653U (ja) | 1987-07-16 |
| JPH0637319Y2 true JPH0637319Y2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=31169864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985204007U Expired - Lifetime JPH0637319Y2 (ja) | 1985-12-31 | 1985-12-31 | 螢光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0637319Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8725741D0 (en) * | 1987-11-03 | 1987-12-09 | Secretary Trade Ind Brit | Control of pyrometallurgical processes |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5924844B2 (ja) * | 1981-07-06 | 1984-06-12 | 住友電気工業株式会社 | ガス選択透過性複合膜の製造方法 |
-
1985
- 1985-12-31 JP JP1985204007U patent/JPH0637319Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62111653U (ja) | 1987-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0163608B1 (ko) | 극고순도의 기체분석용 측정장치 | |
| EP3011310B1 (en) | System for analyzing mercury | |
| JPH07318555A (ja) | 全有機体炭素計 | |
| US5457983A (en) | Apparatus and method for producing a reference gas | |
| JPH0637319Y2 (ja) | 螢光ｘ線分析装置 | |
| JPH06331525A (ja) | 水分測定装置 | |
| JP4911502B2 (ja) | ガス分析装置 | |
| GB922410A (en) | Improvements in or relating to the measurement of gases in metals | |
| US3662588A (en) | Determining impurities in helium | |
| US2334926A (en) | Measuring apparatus | |
| JP2564063Y2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPS6126854A (ja) | 気体成分測定装置 | |
| Bermond et al. | A field emission measurement of the isosteric heat of adsorption of metallic adatoms on single crystal faces of a metal (Pb/W) | |
| JPH06102214A (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPH0536209Y2 (ja) | ||
| WO1992015004A1 (en) | Device for sampling liquid | |
| JP3172775B2 (ja) | 試料水の濃縮装置 | |
| JPH01219540A (ja) | 熱重量測定装置 | |
| JPH1183802A (ja) | 昇温脱離ガス分析方法および装置 | |
| JP2000162161A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPH1164255A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| CA2130854C (en) | Apparatus and method for producing a reference gas | |
| JP3936912B2 (ja) | 液体のｘ線分析用のサンプル容器、測定装置及び方法 | |
| JP3146574B2 (ja) | 炭素分析用蛍光ｘ線分析装置 | |
| Scharpf | A dynamic reflection infrared study of carbon monoxide and nitric oxide adsorption and reaction on platinum foil |