JPH0320740A - ペリクルカバーのフレーム - Google Patents
ペリクルカバーのフレームInfo
- Publication number
- JPH0320740A JPH0320740A JP1155443A JP15544389A JPH0320740A JP H0320740 A JPH0320740 A JP H0320740A JP 1155443 A JP1155443 A JP 1155443A JP 15544389 A JP15544389 A JP 15544389A JP H0320740 A JPH0320740 A JP H0320740A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- mask
- rubber tube
- cover
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、フォトリソグラフィ工程の転写パターン欠陥
発生を防止する目的で、パーティクルからマスクを保護
するベリクｐカバーのフレームに関するものである。
発生を防止する目的で、パーティクルからマスクを保護
するベリクｐカバーのフレームに関するものである。
従来の技術
近年、半導体製造の歩留少安定化の一手段として、フォ
トリソグラフィ工程での転写パターン欠陥発生を防止す
るため、マスクにパーティクルが付着することを防止す
るペリクノレカバーをマスクに装着する方法が用いられ
ている。
トリソグラフィ工程での転写パターン欠陥発生を防止す
るため、マスクにパーティクルが付着することを防止す
るペリクノレカバーをマスクに装着する方法が用いられ
ている。
以下に従来のペリクルカバーのフレームについて説明す
る。第４図は従来のべリクノレカバーのフレームのマス
クへの装着例の一つを示すものである。第４図にかいて
、ベリクルカパ−１を構或する，２はフレーム、３は透
明有機薄膜、４は粘着剤、５ぱマスクで、６．７はそれ
ぞれマスク６を構戒するガラス基板訃よび金属薄膜であ
る。ベリクμカバー１を装着したマスク６の不注意な取
シ扱いによって、指紋等の汚れが付着し照度ムラをおこ
したシ、あるいはパターン転写用の紫外光による有機薄
膜３の劣化により透過率が落ちたシ有機薄膜３が破れた
シして、マスク５に装着したペリクμカバー１の貼りか
えが必要になる。
る。第４図は従来のべリクノレカバーのフレームのマス
クへの装着例の一つを示すものである。第４図にかいて
、ベリクルカパ−１を構或する，２はフレーム、３は透
明有機薄膜、４は粘着剤、５ぱマスクで、６．７はそれ
ぞれマスク６を構戒するガラス基板訃よび金属薄膜であ
る。ベリクμカバー１を装着したマスク６の不注意な取
シ扱いによって、指紋等の汚れが付着し照度ムラをおこ
したシ、あるいはパターン転写用の紫外光による有機薄
膜３の劣化により透過率が落ちたシ有機薄膜３が破れた
シして、マスク５に装着したペリクμカバー１の貼りか
えが必要になる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記の従来の構或では、第５図に示すよ
うに、剥離治具１６をペリクルカバー１のフレーム２の
穴や溝にはめ込んで、テコを用いてマスク５からベリク
ルカバー１を引き剥がしていた。このようなベリクｐカ
バーの剥離方法では、剥離の際に引き剥し治具１５をマ
スク５に接触させねばならず、マスク５の金属薄膜６や
ガラス基板７に修正不可能な傷をつけたシ、剥離治具１
６でペリクルカバー１のフレーム２の穴や溝にはめ込ん
でテコを用いて加えた力によシフレーム２に歪が加わシ
フレーム２の再使用が不可能になるという課題があった
。
うに、剥離治具１６をペリクルカバー１のフレーム２の
穴や溝にはめ込んで、テコを用いてマスク５からベリク
ルカバー１を引き剥がしていた。このようなベリクｐカ
バーの剥離方法では、剥離の際に引き剥し治具１５をマ
スク５に接触させねばならず、マスク５の金属薄膜６や
ガラス基板７に修正不可能な傷をつけたシ、剥離治具１
６でペリクルカバー１のフレーム２の穴や溝にはめ込ん
でテコを用いて加えた力によシフレーム２に歪が加わシ
フレーム２の再使用が不可能になるという課題があった
。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、マスクニ傷
をったシ、ペリクノレカバーのフレームに歪を加えたシ
しないベリクルカバーのフレームを提供することを目的
とする。
をったシ、ペリクノレカバーのフレームに歪を加えたシ
しないベリクルカバーのフレームを提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段
この目的を達或するために本発明のべリクルカバーのフ
レームは、フレームとマスク．！：ｏ粘着面を有する側
の端面に溝と、前記溝の中に埋め込み可能な形状を有し
かつ伸展性を有したゴム管と、前記ゴム管の一部をフレ
ームの外側に取９出す穴という構戒を有している。
レームは、フレームとマスク．！：ｏ粘着面を有する側
の端面に溝と、前記溝の中に埋め込み可能な形状を有し
かつ伸展性を有したゴム管と、前記ゴム管の一部をフレ
ームの外側に取９出す穴という構戒を有している。
作 用
この構戒によって、マスクからペリクノレカバーを剥離
するのに、フＶ−ムに設けられた穴よク取９出したゴム
の管よシ圧縮空気を送シ込みゴムの管を、フレームとマ
スクとの粘着面を有する側の端而に設けた溝中で伸展さ
せると、フレームとマスクはゴム管の伸展によって引き
剥がされるので、マスクが傷つかずにペリクル力バーを
引き剥がすことができ、さらにフレームとマスクの粘着
面全面に均等に力が加わるのでフレームに歪が加わらな
いようにすることができる。
するのに、フＶ−ムに設けられた穴よク取９出したゴム
の管よシ圧縮空気を送シ込みゴムの管を、フレームとマ
スクとの粘着面を有する側の端而に設けた溝中で伸展さ
せると、フレームとマスクはゴム管の伸展によって引き
剥がされるので、マスクが傷つかずにペリクル力バーを
引き剥がすことができ、さらにフレームとマスクの粘着
面全面に均等に力が加わるのでフレームに歪が加わらな
いようにすることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例におけるペリクルカバー装着
マスクの断面図を示すものである。第１図において、．
１つはゴム管埋め込み用の溝、１２はゴム管取シ出し用
の穴、１３はゴム管である。
マスクの断面図を示すものである。第１図において、．
１つはゴム管埋め込み用の溝、１２はゴム管取シ出し用
の穴、１３はゴム管である。
以上のように構或されたベリクｐカバー１のフレーム２
を、マスク５に装着したものが、第１図である。このペ
リクノレ力バー１の剥離の手順について説明する。
を、マスク５に装着したものが、第１図である。このペ
リクノレ力バー１の剥離の手順について説明する。
まず、フレーム２に設けられた穴１２から取９出したゴ
ム管１３から圧縮空気を送シ込むと、ゴム管はフレーム
溝１１中で伸展し、フレーム２とマスク６に均等に引き
剥がす力が加えられるので、マスク６に傷をつけた９、
フレーム２に歪を加えたシすることがなく、ベリクルカ
バー１のフレーム２はマスク５から剥がれる。第３図に
この様子を示す。さらに、ベリクｐカバー１を装着した
マスク５ぱ、ベリ，クルカバー１により第１図のように
透明有機薄膜で、転写領域が覆われて保護されているの
で、マスクの表面にパーティクノレが付着して釦こる転
写パターン欠陥は防止できる。また、第３図のように、
本発明のべリクルカバ−１の透明有機薄膜上に付着した
パーティク／ｔ／８は、ウェハー露光装置の焦点面から
十分はなれたところにあシ、ウェハー１０上に結像する
ことはない。したがって、転写パターン欠陥は釦こらな
くなる。
ム管１３から圧縮空気を送シ込むと、ゴム管はフレーム
溝１１中で伸展し、フレーム２とマスク６に均等に引き
剥がす力が加えられるので、マスク６に傷をつけた９、
フレーム２に歪を加えたシすることがなく、ベリクルカ
バー１のフレーム２はマスク５から剥がれる。第３図に
この様子を示す。さらに、ベリクｐカバー１を装着した
マスク５ぱ、ベリ，クルカバー１により第１図のように
透明有機薄膜で、転写領域が覆われて保護されているの
で、マスクの表面にパーティクノレが付着して釦こる転
写パターン欠陥は防止できる。また、第３図のように、
本発明のべリクルカバ−１の透明有機薄膜上に付着した
パーティク／ｔ／８は、ウェハー露光装置の焦点面から
十分はなれたところにあシ、ウェハー１０上に結像する
ことはない。したがって、転写パターン欠陥は釦こらな
くなる。
すなわち、本発明のべリクルカバーは、従来のペリクル
カバ上と同等の転写パターン欠陥防止が可能である。
カバ上と同等の転写パターン欠陥防止が可能である。
以上のように本実施例によれば、ペリクルカバーのフレ
ームに溝と、前記溝の中に埋め込み可能な形状を有しか
つ伸展性を有したゴム管と、前記ゴム管の一部をフレー
ムの外側に取シ出す穴を設けることにより、マスクに傷
をつけた９、ベリクルカパーのフレームに歪を加えるこ
となく、ペリクル力バーのフレームをマスクから剥離す
ることができ、しかも従来のべリクノレ力バーと同等の
転写パターン欠陥防止が可能である。
ームに溝と、前記溝の中に埋め込み可能な形状を有しか
つ伸展性を有したゴム管と、前記ゴム管の一部をフレー
ムの外側に取シ出す穴を設けることにより、マスクに傷
をつけた９、ベリクルカパーのフレームに歪を加えるこ
となく、ペリクル力バーのフレームをマスクから剥離す
ることができ、しかも従来のべリクノレ力バーと同等の
転写パターン欠陥防止が可能である。
発明の効果
以上のように本発明は、ベリクｐカバーのフレームに、
フレームとマスクとの粘着面を有する側の端面に溝と、
前記溝の中に埋め込み可能な形状を有しかつ伸展性を有
したゴム管と、前記ゴム管の一部をフレームの外側に取
シ出す穴を設けることによシ、マスクに傷をつけたシ、
ペリクルカバーのフレームに歪を加えることなく、ベリ
クノレ力バーのフレームをマスクから剥離することがで
きる優れたマスクからペリクルカバーのフレームを剥離
する方法を実現できるものである。
フレームとマスクとの粘着面を有する側の端面に溝と、
前記溝の中に埋め込み可能な形状を有しかつ伸展性を有
したゴム管と、前記ゴム管の一部をフレームの外側に取
シ出す穴を設けることによシ、マスクに傷をつけたシ、
ペリクルカバーのフレームに歪を加えることなく、ベリ
クノレ力バーのフレームをマスクから剥離することがで
きる優れたマスクからペリクルカバーのフレームを剥離
する方法を実現できるものである。
第１図は本発明のτ実施例にかけるベリクノレ力バー装
着マスクの断面図、第２図は本発明一実施例にかけるペ
リクル力バーをマスクよシゴム管中に圧縮空気を送シ込
みゴム管を伸展させて引き剥したときの断面図、第３図
は本発明一実施例におけるペリクルカバーの有機薄膜上
のパーティクルがウェハー上に結像しないことを示す概
略図、第４図は従来のべリクルカバー装置マスクの断面
図、第６図は従来の剥離治具によるマスクからのべリク
ル力パー剥離を示す概略図である。 １・・・・・・ベリクルカバー、２・・・・・・ペリク
ノレカバーのフレーム、３・・・・・・透明有機薄膜、
４・・・・・・粘着剤、６・・・・・・マスク、６・・
・・・・ガラス基板、７・・・・・・金属薄膜、８・・
・・・・パーティクル、９・・・・・・光学系，１０・
・・・・・ウェハー １１・・・・・・ゴム管埋め込み
溝、１２・・・・・・ゴム管取り出し穴、１３・・・・
・・ゴム管、１４・・・・・・圧縮空気、１６・・・・
・・剥離治具。 ヘ１り７ル力バー ｌ２．− ゴ，’ｉｉ３１ノ土Ｌた ｔ３−ｒ４ ’？ ２１鰐吏入
着マスクの断面図、第２図は本発明一実施例にかけるペ
リクル力バーをマスクよシゴム管中に圧縮空気を送シ込
みゴム管を伸展させて引き剥したときの断面図、第３図
は本発明一実施例におけるペリクルカバーの有機薄膜上
のパーティクルがウェハー上に結像しないことを示す概
略図、第４図は従来のべリクルカバー装置マスクの断面
図、第６図は従来の剥離治具によるマスクからのべリク
ル力パー剥離を示す概略図である。 １・・・・・・ベリクルカバー、２・・・・・・ペリク
ノレカバーのフレーム、３・・・・・・透明有機薄膜、
４・・・・・・粘着剤、６・・・・・・マスク、６・・
・・・・ガラス基板、７・・・・・・金属薄膜、８・・
・・・・パーティクル、９・・・・・・光学系，１０・
・・・・・ウェハー １１・・・・・・ゴム管埋め込み
溝、１２・・・・・・ゴム管取り出し穴、１３・・・・
・・ゴム管、１４・・・・・・圧縮空気、１６・・・・
・・剥離治具。 ヘ１り７ル力バー ｌ２．− ゴ，’ｉｉ３１ノ土Ｌた ｔ３−ｒ４ ’？ ２１鰐吏入
Claims (1)
- 一端面がパターン転写用のマスクに粘着されるフレーム
と、透明有機薄膜を備えたペリクルカバーにおいて、前
記マスクとの粘着面側に設けた溝と、前記溝の中に埋め
込み可能で伸展性を有したゴム管と、前記ゴム管の一部
を前記フレームの外側に取り出す穴とを備えたことを特
徴とするペリクルカバーのフレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1155443A JPH0320740A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | ペリクルカバーのフレーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1155443A JPH0320740A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | ペリクルカバーのフレーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320740A true JPH0320740A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=15606148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1155443A Pending JPH0320740A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | ペリクルカバーのフレーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0320740A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016133559A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠 |
| US20230066653A1 (en) * | 2021-08-30 | 2023-03-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Reticle enclosure for lithography systems |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1155443A patent/JPH0320740A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016133559A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠 |
| US10281814B2 (en) | 2015-01-16 | 2019-05-07 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Support frame for pellicle |
| US20230066653A1 (en) * | 2021-08-30 | 2023-03-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Reticle enclosure for lithography systems |
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