JPH03205736A - シヤドウマスク表面処理用蒸着装置 - Google Patents
シヤドウマスク表面処理用蒸着装置Info
- Publication number
- JPH03205736A JPH03205736A JP61290A JP61290A JPH03205736A JP H03205736 A JPH03205736 A JP H03205736A JP 61290 A JP61290 A JP 61290A JP 61290 A JP61290 A JP 61290A JP H03205736 A JPH03205736 A JP H03205736A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- mask
- deposition object
- shield plate
- evaporated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title abstract description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 8
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はカラー陰極線管に内蔵されるシャドウマスクの
表面処理用蒸着装置に関する。
表面処理用蒸着装置に関する。
カラー陰極線管においては、電子銃から発射された電子
ビームがシャドウマスクに衝突してシャドウマスクの温
度を上昇させる。これにより、シャドウマスクは熱膨張
して歪を生じ、電子ビームの蛍光面へのランデイングの
変化をもたらす。この現象をドーミングという。
ビームがシャドウマスクに衝突してシャドウマスクの温
度を上昇させる。これにより、シャドウマスクは熱膨張
して歪を生じ、電子ビームの蛍光面へのランデイングの
変化をもたらす。この現象をドーミングという。
従来、前記したドーミング現象を防止するために、例え
ば特開昭６３−８０４３８号公報に示すように、貢空蒸
着法により、シャドウマスクの電子ビーム入射面に重金
属またはその酸化物を主成分とする蒸着物質を眞空蒸着
させて、電子ビームを反射させる蒸着膜を形成すること
が提案されている。
ば特開昭６３−８０４３８号公報に示すように、貢空蒸
着法により、シャドウマスクの電子ビーム入射面に重金
属またはその酸化物を主成分とする蒸着物質を眞空蒸着
させて、電子ビームを反射させる蒸着膜を形成すること
が提案されている。
上記従来技術は、シャドウマスクのマスク孔を通過した
蒸着物の点については考慮されておらず、マスク孔を通
過した蒸着物の原子の動きがシャドウマスクと眞空容器
との間で騒乱され、シャドウマスクの外面に蒸着物が付
着する。
蒸着物の点については考慮されておらず、マスク孔を通
過した蒸着物の原子の動きがシャドウマスクと眞空容器
との間で騒乱され、シャドウマスクの外面に蒸着物が付
着する。
ところで、シャドウマスクの電子ビーム入射面に形成さ
れる蒸着膜は、前記したようにシャドウマスクの熱膨張
を防止するために電子ビームを反射させるものである。
れる蒸着膜は、前記したようにシャドウマスクの熱膨張
を防止するために電子ビームを反射させるものである。
このため、蒸着膜がシャドウマスクの外面に付着してい
ると、マスク孔を通過した電子ビームの弾性散乱が起り
、近傍の蛍光体に当ってハレーション劣化を起すという
問題があった。
ると、マスク孔を通過した電子ビームの弾性散乱が起り
、近傍の蛍光体に当ってハレーション劣化を起すという
問題があった。
本発明の目的は、ハレーション劣化が防止されるシャド
ウマスク表面処理用蒸着装置を提供することにある。
ウマスク表面処理用蒸着装置を提供することにある。
上記目的は、シャドウマスクの外面に対向した眞空容器
内面にシャドウマスクの曲率と同じ曲率で等間隔に配設
されたシールド板を設けるか、または眞空容器内面自体
をシャドウマスクの曲率と同じ曲率で等間隔に形成した
蒸着装置を用いてシャドウマスク表面を処理することに
より達成される。
内面にシャドウマスクの曲率と同じ曲率で等間隔に配設
されたシールド板を設けるか、または眞空容器内面自体
をシャドウマスクの曲率と同じ曲率で等間隔に形成した
蒸着装置を用いてシャドウマスク表面を処理することに
より達成される。
シャドウマスクの外面とこの外面に対向したシールド板
または眞空容器内面とは等間隔であるので、眞空蒸着時
にマスク孔を通過した蒸着物質の原子は騒乱されない。
または眞空容器内面とは等間隔であるので、眞空蒸着時
にマスク孔を通過した蒸着物質の原子は騒乱されない。
このため、マスク孔を通過した蒸着物質はそのままシー
ルド板または眞空容器内面に付着し、シャドウマスクの
外面には付着しない。従って、かかる蒸着装置によって
製造されたシャドウマスクを備えたカラー陰極線管は、
マスク孔を通過した電子ビームは散乱しなく、ハレーシ
ョン劣化が防止される。
ルド板または眞空容器内面に付着し、シャドウマスクの
外面には付着しない。従って、かかる蒸着装置によって
製造されたシャドウマスクを備えたカラー陰極線管は、
マスク孔を通過した電子ビームは散乱しなく、ハレーシ
ョン劣化が防止される。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。眞空
容器１は、基板２の下面に固定された下容器３と、この
下容器３の上方を覆うように上容器５とからなり、下容
器３の底部中央には図示しない排気手段に接続された排
気口３ａが設けられている。また下容器３内には図示し
ない支持手段で支持された蒸発源６が配設されており、
この蒸発源６に重金属またはその酸化物を主成分とする
蒸着物７が挿入される。
容器１は、基板２の下面に固定された下容器３と、この
下容器３の上方を覆うように上容器５とからなり、下容
器３の底部中央には図示しない排気手段に接続された排
気口３ａが設けられている。また下容器３内には図示し
ない支持手段で支持された蒸発源６が配設されており、
この蒸発源６に重金属またはその酸化物を主成分とする
蒸着物７が挿入される。
上容器５内の基板２上には、シャドウマスク台８が固定
されており、このシャドウマスク台８上にシャドウマス
ク９が載置される。また上容器５内には、シャドウマス
ク９の外面に対向した部分にシールド板１０か支持具１
１を介して固定されている。ここで、シールド板１０の
シャドウマスク９に対向した面は、シャドウマスク９０
曲率と同じ曲率で形成され、かつｌＯ〜１２ｉ＋ｎの等
間隔で配設されている。
されており、このシャドウマスク台８上にシャドウマス
ク９が載置される。また上容器５内には、シャドウマス
ク９の外面に対向した部分にシールド板１０か支持具１
１を介して固定されている。ここで、シールド板１０の
シャドウマスク９に対向した面は、シャドウマスク９０
曲率と同じ曲率で形成され、かつｌＯ〜１２ｉ＋ｎの等
間隔で配設されている。
次に作用について説明する。上容器５を外しまたは開い
た状態で、蒸発源６に蒸着物７を挿入した後、シャドウ
マスク９をシャドウマスク台８上に載置する。次に基板
２上のゴムパッキン４上に上容器５を取付け、排気口３
ａより排気を行って眞空容器１内をＩ Ｘ １ ０−”
ｆｏｒｒの眞空度にした後、蒸発源６によって蒸着物７
を加熱して蒸発させる。この蒸発した蒸着物７は放射さ
れてシャドウマスク９に直進してシャドウマスク９の電
子ビーム入射面に蒸着して蒸着膜を形成する。
た状態で、蒸発源６に蒸着物７を挿入した後、シャドウ
マスク９をシャドウマスク台８上に載置する。次に基板
２上のゴムパッキン４上に上容器５を取付け、排気口３
ａより排気を行って眞空容器１内をＩ Ｘ １ ０−”
ｆｏｒｒの眞空度にした後、蒸発源６によって蒸着物７
を加熱して蒸発させる。この蒸発した蒸着物７は放射さ
れてシャドウマスク９に直進してシャドウマスク９の電
子ビーム入射面に蒸着して蒸着膜を形成する。
また蒸発して放射された蒸着物の一部はシャドウマスク
９のマスク孔を通過する。この場合、シャドウマスク９
の外面とシールド板１０とは等間隔であるので、前記の
ようにマスク孔を通過した蒸着物の原子は騒乱されない
。このため、マスク孔を通過した蒸発物はシールド板１
０に付着し、シャドウマスク９の外面には付着しない。
９のマスク孔を通過する。この場合、シャドウマスク９
の外面とシールド板１０とは等間隔であるので、前記の
ようにマスク孔を通過した蒸着物の原子は騒乱されない
。このため、マスク孔を通過した蒸発物はシールド板１
０に付着し、シャドウマスク９の外面には付着しない。
従って、カラー陰極線管完成後にハレーション劣化を引
き起すことがない。
き起すことがない。
なお、上記実施例においては、上容器５にシールド板１
０ｔ取付けた場合について説明したが、上容器５の内面
形状をシャドウマスク９０曲率と同じ曲率で等間隔に形
成してもよいことは云うまでもない。
０ｔ取付けた場合について説明したが、上容器５の内面
形状をシャドウマスク９０曲率と同じ曲率で等間隔に形
成してもよいことは云うまでもない。
不発明によれば、外面に蒸着物が付着しないシャドウマ
スクが得られるので、ハレーション劣化が防止される。
スクが得られるので、ハレーション劣化が防止される。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図である。
１・・・眞空容器、 ６・・・蒸発源、 ７・
・・蒸着物、９・・・シャドウマスク、 １０・・
・シールド板。 ・）
・・蒸着物、９・・・シャドウマスク、 １０・・
・シールド板。 ・）
Claims (1)
- １．シヤドウマスクの電子ビーム入射面に重金属類の蒸
着膜を形成させるシヤドウマスク表面処理用蒸着装置に
おいて、シヤドウマスクの外面に対向した眞空容器内面
にシヤドウマスクの曲率と同じ曲率で等間隔に配設され
たシールド板を設けるか、または眞空容器内面自体をシ
ヤドウマスクの曲車と同じ曲率で等間隔に形成したこと
を特徴とするシヤドウマスク表面処理用蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61290A JPH03205736A (ja) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | シヤドウマスク表面処理用蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61290A JPH03205736A (ja) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | シヤドウマスク表面処理用蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03205736A true JPH03205736A (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=11478557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61290A Pending JPH03205736A (ja) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | シヤドウマスク表面処理用蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03205736A (ja) |
-
1990
- 1990-01-08 JP JP61290A patent/JPH03205736A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3197569B2 (ja) | セラミックコーティングの形成方法 | |
| KR20040009349A (ko) | 가열용기와 이를 이용한 증착장치 | |
| KR930003833B1 (ko) | 새도우마스크형 컬러음극선관 | |
| JPH03205736A (ja) | シヤドウマスク表面処理用蒸着装置 | |
| JPS61272367A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH0570931A (ja) | 真空蒸着装置および防着板 | |
| JPS62185875A (ja) | 気相成膜装置 | |
| JP2977659B2 (ja) | シャドーマスクのアンチドーミング材の蒸着方法 | |
| JPH09320493A (ja) | 真空気密容器 | |
| JPH03187133A (ja) | カラー陰極線管のシャドウマスク | |
| JPH0230442Y2 (ja) | ||
| JPS6380438A (ja) | シヤドウマスクの表面処理方法 | |
| JPS61256622A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS62287617A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS58107483A (ja) | 蒸着装置 | |
| JPH0580097B2 (ja) | ||
| JPH05287520A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH0347571B2 (ja) | ||
| NL9101102A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een kleurenbeeldbuis met minimale thermische deformatie van het schaduwmasker. | |
| KR960004561Y1 (ko) | 음극선관용 게터 | |
| JPS6380439A (ja) | シヤドウマスクの表面処理方法 | |
| JPH08190862A (ja) | カラー受像管の熱吸収膜形成方法および熱吸収膜形成装置 | |
| JPS63103064A (ja) | 膜形成装置 | |
| JPS60154432A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
| JPS6153815B2 (ja) |