JPS6380439A - シヤドウマスクの表面処理方法 - Google Patents

シヤドウマスクの表面処理方法

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JPS6380439A
JPS6380439A JP22440386A JP22440386A JPS6380439A JP S6380439 A JPS6380439 A JP S6380439A JP 22440386 A JP22440386 A JP 22440386A JP 22440386 A JP22440386 A JP 22440386A JP S6380439 A JPS6380439 A JP S6380439A
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JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
mask
bismuth oxide
dishes
thermal expansion
Prior art date
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Pending
Application number
JP22440386A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Watanabe
徹也 渡辺
Hiroshi Kimura
寛 木村
Katsuhiro Ono
克弘 大野
Morio Yamamoto
山本 盛男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はカラー陰極線管に内蔵される色選別電極であ
るシャドウマスクの表面処理方法に関するものである。
[従来の技術] カラー陰極線管におけるシャドウマスクの製造方法につ
いては、株式会社産報の電子科学1964年、VOL、
141  NO,9,36頁および、39〜40頁に示
されている。ところで、一般的に陰極線管は、第5図に
示す様に、皿状のガラス管容器であるパネル(30)と
、電子ビームを発射する電子銃(31)を内蔵している
ロート状のファンネル(32)とからなり、これらパネ
ル(30)とファンネル(32)との間に色選別電極と
してのシャドウマスク(33)が介在され、パネル(3
0)に支持部により保持されている。
このシャドウマスク(33)は、厚さが0.10〜0.
25層馬の鉄板に丸形もしくは長方形の電子ビーム通過
孔(図示せず)をエツチング法等で形成したものであり
、初工程では平坦な形状である上記鉄板を水素雰囲気中
で700〜920℃で熱処理してから、パネル(30)
内面の球面形状にほぼ沿う形状にプレス加工し、そのの
ち、その表面に黒錆を得るための表面処理を施こして作
成される。このような表面処理を表面黒化と称しており
、表面黒化の方法には、プレス加工時に付着した油を完
全に脱脂したシャドウマスクを、アルカリ溶融塩に浸漬
する方法や、水蒸気または炭酸ガスの雰囲気中で加熱す
る方法がある。この処理で得られた黒錆は、カラー陰極
線管を製造する工程中において、シャドウマスク(33
)が、空気中の雰囲気で400℃前後で加熱される際に
発生する赤錆を防止するためのものである。一方、カラ
ー陰極線管の動作中に電子銃(31)から発射された電
子ビームの8M近くは、シャドウマスク(33)に衝突
して。
連動エネルギーが熱エネルギーに変換され、シャドウマ
スク(33)の温度を上昇させる。このため、シャドウ
マスク(33)は、熱膨張して歪を生じ、電子ビームの
蛍光面へのランディングの変化をもたらす、この現象を
ドーミングという。
ここで、上記黒錆の輻射率は約0,75であり、シャド
ウマスク(33)に黒錆を発生させることは、シャドウ
マスク(33)の輻射率を大きくして熱放散を良好に行
うことにもなり、シャドウマスク(33)の熱膨張によ
る歪を軽減できる。
また、最近のカラー陰極線管では、映像の忠実な再現性
という観点から、パネル(30)面を平坦化したり、単
位面積あたりの情報量を多くするとともに、画質を明る
く鮮明化することが望まれている。このような要求に応
じるためには、単位面積あたりの情報量を決定する電子
ビーム通過孔の孔径を小さくし、かつ、ピッチを小さく
する必要がある。また、電子ビーム通過孔の孔径の最小
限界値は、シャドウマスク(33)の板厚によって決定
されるものであり、孔径な小さくするためには板厚を薄
くしなければならない、たとえば、孔径を0.15mm
にする場合には、板厚をほぼ0.15mmにまで薄くし
なければならない。
[発明が解決しようとする問題点] ところが、シャドウマスク(33)は、その板厚が薄く
なると、それだけ温度が上昇しやすくなるので、黒錆を
設けて熱を放散させるだけでは、熱膨張による歪が十分
に防止されないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、シャドウマスクの熱膨張による歪を軽減して
、ドーミング現象を防止できるシャドウマスクの表面処
理方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明にかかるシャドウマスクの表面処理方法は、シ
ャドウマスクの電子銃側の表面の少なくとも一部に、重
金属またはその酸化物を主成分とする物質を、抵抗加熱
法によって蒸着させて、電子ビームを反射する膜を形成
する。
[作用] この発明において、形成された膜は、衝突する電子ビー
ムを効率よく反射させ、電子ビームの衝突によるシャド
ウマスクの温度上昇を抑制するので、シャドウマスクの
熱膨張による歪が軽減される。また、重金属またはその
酸化物を主成分とする物質は、シャドウマスクの表面に
蒸着されて膜を形成しているので、膜における上記物質
の粒子間の接着力が強く、膜から粒子がカラー陰極線管
内の浮遊粒子として離脱しない。
[発明の実施例] 以下、この発明の一実施例を図面にしたがって説明する
第1図において、(1)は真空容器であり、この真空容
器(1)は架台(図示せず)に固定されたステンレス製
容器(2)と、このステンレス製容器(2)に開閉可悌
にかぶさるステンレス製容器(3)とでなり、ステンレ
ス製容器(2)とステンレス製容器(3)との間には、
ゴム製のパツキン(0が設けられている。
ステンレス製容器(2)の底部中央には排気管(5)が
接続されており、(6)は排気用のロータリーポンプで
ある。
真空容器(1)内のシャドウマスク(33)は、その端
部が上記パツキン(4)上にa?1されている。さらに
、真空容器(1)内には、たとえば、タングステンを使
用した抵抗蒸発皿(7)が支持されており、抵抗蒸発皿
(7)内には酸化ビスマス(8)が置かれている。抵抗
蒸発皿(7)は、その開口がシャドウマスク(33)の
電子銃側の面で、かつ、熱膨張して歪み易い部分に対向
している。
さらに、抵抗蒸発皿(7)は、その底面が、シャドウマ
スク(33)の歪の中心となる部分の法線(8)に対し
て垂直になるように支持されている。
つまり、抵抗蒸発皿(7)内の酸化ビスマス(8)から
上記歪の中心となる部分までの距離が最短になっている
ここで、ロータリーポンプ(8)で、真空容器(1)内
を約10−ff1m腸Hgの真空にしたのち、抵抗蒸発
皿(7)に通電して、酸化ビスマス(8)を約700〜
900℃に加熱する。このとき、たとえば、1点から蒸
発した酸化ビスマス(8)は、その点から球面状に放射
されて、シャドウマスク(33)に直進して蒸着する。
上記構成において、抵抗蒸発皿(7)が、シャドウマス
ク(33)の熱膨張して歪み易い部分に向けて開口して
いるので、第2図のように、酸化ビスマスの119(1
0)は、シャドウマスク(33)の熱膨張して歪み易い
部分に形成される。
酸化ビスマスの膜(10)は、衝突する電子ビームを効
率よく反射させるので、電子ビームが衝突することによ
るシャドウマスク(33)の温度上昇が抑制される。し
たがって、シャドウマスク(33)の熱膨張による歪が
軽減されて、ドーミング現象が防止される。このとき、
膜(10)の厚みの最大は約5ルmでよい。
また、抵抗蒸発皿(7)内の酸化ビスマス(8)からシ
ャドウマスク(33)の歪の中心となる部分までの距離
が最短となっているので、第3図および第4図のように
、膜(10)は、シャドウマスク(33)の歪の中心と
なる部分に最も厚く形成され、歪の中心から遠ざかるに
したがって薄くなるように形成される。したがって、シ
ャドウマスク(33)の温度上昇を抑制するために、厚
さの大きな膜を必要とする部分には、その部分だけに厚
さの大きな膜を形成することができ、厚さが小さくても
よい部分にまで必要以上の厚さの膜が形成されるおそれ
がないので、カラー陰極線管内に不要物質を形成しなく
て済む◆ さらに、酸化ビスマス(8)(第1図)は、シャドウマ
スク(33)に蒸着されて膜(lo)を形成しているの
で、M (1G)における酸化ビスマスの粒子間の接着
力が強い、このため、酸化ビスマスの粒子が膜(lO)
から離脱することがないから、カラー陰極線管内に浮遊
粒子が発生しないので、カラー陰極線管の耐電圧特性が
悪化しない。
なお、この実施例では、蒸着させる物質として酸化ビス
マスを用いたが、この発明はこれに限られるものではな
く、ビスマス、鉛、鉛の酸化物質等を主成分とする物質
を用いてもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
また、この実施例では、第2図のように、膜(10)を
シャドウマスク(33)の電子銃側の表面の一部、つま
り、熱膨張して歪み易い部分にのみ形成したが、上記電
子銃側の表面全部に形成してもよいことはいうまでもな
い。
[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、シャドウマスクに電子
ビームを反射させる膜を形成して、ドーミング現象を防
止することができる。また、膜を形成する粒子間の接着
力が強いから、膜から粒子が離脱しないので、カラー陰
極線管内に不要な浮遊粒子が発生しない。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるシャドウマスクの表
面処理を行なう装置の断面図、第2図は膜が形成された
シャドウマスクの平面図、第3図は第2図のm−m断面
図、第4図は第2図の■−■断面図、第5図はカラー陰
極線管の組立図である。 (8)・・・物質、(!0)・・・膜、(33)・・・
シャドウマスク。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)カラー陰極線管に内蔵される色選別電極であるシ
    ヤドウマスクの電子銃側の表面の少なくとも一部に、重
    金属またはその酸化物を主成分とする物質を、抵抗加熱
    法によつて真空蒸着させて、電子ビームを反射させる膜
    を形成するシヤドウマスクの表面処理方法。
  2. (2)上記物質を蒸発皿に入れて、シヤドウマスクの熱
    膨張して歪み易い部分に対向させて配置し、シヤドウマ
    スクに蒸着させる特許請求の範囲第1項記載のシヤドウ
    マスクの表面処理方法。
  3. (3)上記物質を蒸発皿に入れて、この物質からシヤド
    ウマスクにおける熱膨張による歪の中心となる部分まで
    の距離が最短となるように配置した特許請求の範囲第2
    項記載のシヤドウマスクの表面処理方法。
JP22440386A 1986-09-22 1986-09-22 シヤドウマスクの表面処理方法 Pending JPS6380439A (ja)

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