JPH0319972Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0319972Y2
JPH0319972Y2 JP1985043277U JP4327785U JPH0319972Y2 JP H0319972 Y2 JPH0319972 Y2 JP H0319972Y2 JP 1985043277 U JP1985043277 U JP 1985043277U JP 4327785 U JP4327785 U JP 4327785U JP H0319972 Y2 JPH0319972 Y2 JP H0319972Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gripping tools
cleaning liquid
cleaning
injection
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1985043277U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61159083U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1985043277U priority Critical patent/JPH0319972Y2/ja
Publication of JPS61159083U publication Critical patent/JPS61159083U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0319972Y2 publication Critical patent/JPH0319972Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この考案は、アルミニウム形材等の被処理材を
把持して処理液中に浸漬する表面処理工程その他
各種の工程において使用された陽極ビームに多数
取付けられた把持具であつて、1本の陽極ビーム
における把持具相互の取付間隔が異なり、又は陽
極ビーム相互間で把持具取付間隔が異なる把持具
等の用具を洗浄する洗浄装置に関する。
(従来の技術) 例えばアルミニウム形材の表面処理工程におい
て、該形材の把持に使用された把持具には硫酸、
合成樹脂電着液等の処理液が付着し、これを放置
すれば把持具の腐食や電導性の低下等を招く。そ
こで従来は、処理液の付着した把持具を槽内に満
たした薬液中に浸す洗浄方法、又はノズルから洗
浄液を噴射しつつ、該ノズルを旋回させて噴射方
向を変えるもの(実公昭58−9668)等が存在して
いるが、前者は合成樹脂電着液や反応生成物等は
除去しにくく、特に凹みに堆積付着したものは除
去できないまま残る欠点があり、後者は、これを
陽極ビームに取付けられた多数把持具の洗浄に使
用した場合、把持具の間隔が種々多様であるか
ら、洗浄むらを生ずることと、装置が複雑で高価
となる欠点があつた。
(考案が解決しようとする問題点) 本案は、従来の欠点を除くことを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本案は、 洗浄位置に搬送される陽極ビームに取付けられ
た多数の把持具であつて、1本の陽極ビームにお
ける把持具取付間隔が互に異なり、又は陽極ビー
ム相互間で把持具取付間隔が異なる把持具群に対
し、洗浄液噴射筒を対設し、 上記噴射筒は、上記多数把持具に対向する位置
に、相対面する両側板からなるスリツト状の洗浄
液噴射口を有し、上記噴射筒内に圧送される洗浄
液を上記把持具群に対し該噴射口から帯状の噴射
液として吹きつける、構造にしてある。以下アル
ミニウム形材の表面処理工程において、多数本の
アルミニウム形材を陽極ビームに吊支するため該
陽極ビームに多数取付けられた把持具の洗浄装置
に実施した例について図面を参照して説明する。
第1図において、支持フレームF上に洗浄液受
け箱1を水平に設置し、該受け箱1は、陽極ビー
ムBの把持具t…の取付範囲にほぼ対応する長さ
の両側板2,2及び底板3からなるチヤンネル枠
の両端を端板4,4で閉成した細長い箱状体で、
その開口を上に向けて設置してあり、この受け箱
1内に上記陽極ビームの把持具t…取付範囲に対
応する長さの洗浄液噴射筒5を水平に取付けてあ
る。
上記噴射筒5は、第3図示のように本例では断
面が上記受け箱1の断面における横巾の約3分の
1巾の四角筒であつて、上記受け箱1の底板3と
の間にステー脚6…により小間隔をあけると共
に、受け箱側板2,2との間にステーアーム7,
7、…により広い間隔をあけて支持され、又噴射
筒5の開口両端は上記受け箱1の端板4,4を兼
用して閉成してあり、このような噴射筒5の上面
に、洗浄液噴射口として本例では長手方向全長に
及ぶ2条の洗浄液噴射スリツト8,8を互に平行
に開設すると共に、噴射筒5の中央部底板に、受
け箱1の底板3を貫通して外部に突出する洗浄液
供給口9を、又受け箱1の底板3に排出口10を
それぞれ設けてある。
上記噴射スリツト8,8は、第3図示のように
噴射筒5の上板に長手方向全長に及ぶ長孔を開設
すると共に該長孔の両縁部を上方へ立ち上げてス
リツト外側板11,11を形成し、一方噴射筒5
内において底板に多数本のネジ棒12…を起立
し、該ネジ棒12…に、断面コ字状で両側板をス
リツト内側板14,14とするスリツト構成材1
3を上記スリツト外側板11,11の間に位置さ
せた状態に2重ナツト15,15により取付け、
該スリツト外側板11,11とスリツト内側板1
4,14との間でスリツトを形成した構造であ
る。本例では、上記2条の噴射スリツト8,8陽
極ビームBに取付けられた2列の把持具群t…、
t…に対応している。
上記洗浄液供給口9には、洗浄液クツシヨンタ
ンク16の下端部に接続された管17をポンプ1
8を介して接続し、又排出口10には、上記クツ
シヨンタンク16の中間部に接続された管19を
接続してある。20はタンク内への給水口、21
は液面レベル計である。
上記洗浄装置の作用は次のようである。陽極ビ
ームBをクレーンにより支持して洗浄装置の上に
位置させ、その2列の把持具t…、t…を2条の
噴射スリツト8,8の上位に垂下させる。ついで
ポンプ18の駆動によりタンク16内の洗浄液を
管17、供給口9経て噴射筒5内に圧送し、そし
て噴射スリツト8、8から上方へ噴射させ、それ
により帯状の噴射液の噴流として把持具t…、t
…に投射させる。上記噴流により把持具に付着す
る処理液、合成樹脂電着液、反応生成物等が洗い
落とされ、特に凹みに付着するそれら不純物も十
分に洗い落とされる。使用ずみの洗浄液は受け箱
1内に落ち、その排出口10から管19を経てタ
ンク16内に戻され、上記の循環を繰返す。
上記洗浄液には、温水、微量の硫酸又は硝酸を
混合した温水等が使用される。
(考案の効果) この考案の陽極ビームに取付けられた多数把持
具の洗浄装置によれば、例えばアルミニウム形材
の表面処理工程における把持具の洗浄に使用した
場合、把持具に付着する処理液、合成樹脂電着
液、反応生成物等を、スリツト状噴射口から噴射
される帯状洗浄液の噴流によつてむらなく洗い落
すことができ、また帯状噴射液の噴射方向を把持
具の方向に正しく規制でき、噴射力を強めること
ができるのである。
【図面の簡単な説明】
図面はこの考案の実施例を示し、第1図は一部
縦断正面図、第2図は一部の拡大平面図、第3図
は第1図の−線拡大断面図である。 B……陽極ビーム、t……把持具、5……洗浄
液噴射筒、8……洗浄液噴射口、11……スリツ
ト外側板、14……スリツト内側板。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 洗浄位置に搬送される陽極ビームに取付けられ
    た多数の把持具であつて、1本の陽極ビームにお
    ける把持具取付間隔が互に異なり、又は陽極ビー
    ム相互間で把持具取付間隔が異なる把持具群に対
    し、洗浄液噴射筒を対設し、 上記噴射筒は、上記多数把持具に対向する位置
    に、相対面する両側板からなるスリツト状の洗浄
    液噴射口を有し、上記噴射筒内に圧送される洗浄
    液を上記把持具群に対し該噴射口から帯状の噴射
    液として吹きつける、 ことを特徴とする陽極ビームに取付けられた多
    数把持具の洗浄装置。
JP1985043277U 1985-03-27 1985-03-27 Expired JPH0319972Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1985043277U JPH0319972Y2 (ja) 1985-03-27 1985-03-27

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1985043277U JPH0319972Y2 (ja) 1985-03-27 1985-03-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61159083U JPS61159083U (ja) 1986-10-02
JPH0319972Y2 true JPH0319972Y2 (ja) 1991-04-26

Family

ID=30554805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1985043277U Expired JPH0319972Y2 (ja) 1985-03-27 1985-03-27

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0319972Y2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6022836B2 (ja) 2012-07-18 2016-11-09 株式会社荏原製作所 めっき装置及び基板ホルダ洗浄方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS589668U (ja) * 1981-07-13 1983-01-21 三菱電機株式会社 太陽熱利用温水器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS589668U (ja) * 1981-07-13 1983-01-21 三菱電機株式会社 太陽熱利用温水器

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61159083U (ja) 1986-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0895655B1 (de) Vorrichtung zum behandeln von substraten in einem fluid-behälter
US4443304A (en) Plating system and method
DE2055995C3 (de) Verfahren zum kontinuierlichen galvanischen Verchromen der Außenoberfläche von Stangen oder Rohren
US4166754A (en) Process and device for cleaning cathode surfaces
US4364801A (en) Method of an apparatus for selectively surface-treating preselected areas on a body
US4427019A (en) Chemical process apparatus
DE4031234C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von bandförmigem Behandlungsgut
JPH0319972Y2 (ja)
EP0792391B1 (de) Vorrichtung zur elektrolytischen behandlung von plattenförmigen werkstücken, insbesondere von leiterplatten
US4457515A (en) Brush seal and method
US5063950A (en) Apparatus and method for treating and/or cleaning of objects, particularly circuit boards
EP0203281B1 (de) Wasserkasten für ein Feuchtwerk einer Offset-Rotationsdruckmaschine
DE19616402A1 (de) Vorrichtung zum Behandeln von Substraten in einem Fluid-Behälter
DE3039303C2 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen Beizen eines Stahlbandes durch Säureangriff
DE102007063169A1 (de) Verfahren und Anlage zum Bearbeiten bzw. Reinigen von Si-Blöcken
DE1657071B1 (de) Eierwaschvorrichtung
DE102019115213A1 (de) Tauchbecken für eine Tauchbehandlungsanlage
DE2548414A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur elektrophoretischen beschichtung von gegenstaenden
DE3320787C2 (ja)
CN214441344U (zh) 一种金属工具增韧剂自动涂抹清洗装置
AT218143B (de) Einrichtung für die Reinigung der Innenteile von elektrostatischen Filtern
JPH09125273A (ja) 鋼帯の洗浄装置
CH638118A5 (de) Verfahren zum spuelen von gegenstaenden in anlagen zur oberflaechenbehandlung.
JPS6389700A (ja) めつき液噴射式めつき処理装置
DE2610032B2 (de) Einrichtung zum Reinigen der Oberfläche von kupferkaschierten Lagen von Leiterplatten