JPH0319686B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0319686B2 JPH0319686B2 JP56142334A JP14233481A JPH0319686B2 JP H0319686 B2 JPH0319686 B2 JP H0319686B2 JP 56142334 A JP56142334 A JP 56142334A JP 14233481 A JP14233481 A JP 14233481A JP H0319686 B2 JPH0319686 B2 JP H0319686B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hold time
- wafers
- mirror
- heat treatment
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H10P36/03—
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56142334A JPS5844724A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | シリコン基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56142334A JPS5844724A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | シリコン基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5844724A JPS5844724A (ja) | 1983-03-15 |
| JPH0319686B2 true JPH0319686B2 (enExample) | 1991-03-15 |
Family
ID=15312932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56142334A Granted JPS5844724A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | シリコン基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5844724A (enExample) |
-
1981
- 1981-09-11 JP JP56142334A patent/JPS5844724A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5844724A (ja) | 1983-03-15 |
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