JPH03194740A - 光学的記録媒体用基板の連続製造方法 - Google Patents
光学的記録媒体用基板の連続製造方法Info
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- JPH03194740A JPH03194740A JP33129689A JP33129689A JPH03194740A JP H03194740 A JPH03194740 A JP H03194740A JP 33129689 A JP33129689 A JP 33129689A JP 33129689 A JP33129689 A JP 33129689A JP H03194740 A JPH03194740 A JP H03194740A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 20
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 title description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 61
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 5
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- -1 fluorosilicone Polymers 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical class C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxy 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOOC(=O)C(C)=C POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 235000013527 bean curd Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Chemical class 0.000 description 1
- 229940024874 benzophenone Drugs 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、レーザ等による光学的書込み記録に適した光
学情報記録媒体用基板を連続して製造する製造方法に関
する。
学情報記録媒体用基板を連続して製造する製造方法に関
する。
〔従来の技術1
光ディスクあるいは光カードといった光学情報記録媒体
は、基体の上に設けた薄い記録層に光学的に検出可能な
数μm程度の微小なビットをトラック状に形成すること
により、情報を高密度に記録することができる。このよ
うな光学情報記録媒体においては、情報を記録および再
生する際にトラックに沿ってレーザ光を走査する必要が
あり、そのため、一般にトラッキング用の案内溝の付い
た基板が用いられている。
は、基体の上に設けた薄い記録層に光学的に検出可能な
数μm程度の微小なビットをトラック状に形成すること
により、情報を高密度に記録することができる。このよ
うな光学情報記録媒体においては、情報を記録および再
生する際にトラックに沿ってレーザ光を走査する必要が
あり、そのため、一般にトラッキング用の案内溝の付い
た基板が用いられている。
案内溝、あるいは案内溝の付いた基板の作製法としては
、軟化したプラスチック材料をスタンパにてプレスした
後に固化させる圧縮成形(Com−pression
Mo1d)法、スタンパを配設した金型内に溶融したプ
ラスチック材料を射出して固化させる射出成形(rnj
ection Mo1d)法や、紫外線硬化樹脂(Ph
oto Polymer)を用い、スタンパから案内溝
を転写する2 P(Photo Polymeriza
tion)法等が知られているが、案内溝の転写性、お
よび基板の耐溶剤性、という点では、2P法によるもの
が最も優れている。基板の耐溶剤性が優れているという
ことは、特に記録材として有機系材料を用い、塗布によ
って記録層を形成する場合に有利であり、この場合、ア
クリル、ポリカーボネート等の一般のプラスチック基板
には基板を侵すという理由から使用できない溶剤を使用
できることから、記録材の選択の幅を大きく拡げること
が可能となる。また、2P法では、他の方法に比へ、設
備投資が非常に少なくてすむという大きな利点がある。
、軟化したプラスチック材料をスタンパにてプレスした
後に固化させる圧縮成形(Com−pression
Mo1d)法、スタンパを配設した金型内に溶融したプ
ラスチック材料を射出して固化させる射出成形(rnj
ection Mo1d)法や、紫外線硬化樹脂(Ph
oto Polymer)を用い、スタンパから案内溝
を転写する2 P(Photo Polymeriza
tion)法等が知られているが、案内溝の転写性、お
よび基板の耐溶剤性、という点では、2P法によるもの
が最も優れている。基板の耐溶剤性が優れているという
ことは、特に記録材として有機系材料を用い、塗布によ
って記録層を形成する場合に有利であり、この場合、ア
クリル、ポリカーボネート等の一般のプラスチック基板
には基板を侵すという理由から使用できない溶剤を使用
できることから、記録材の選択の幅を大きく拡げること
が可能となる。また、2P法では、他の方法に比へ、設
備投資が非常に少なくてすむという大きな利点がある。
しかしながら、2P法は、他の方法に比へ基板−枚あた
りの製造時間が長く、大量生産に向かないという問題が
あった。そこで例えば、特願昭62−506504号に
開示されているように、凹凸パターンが形成されたスタ
ンパを用い、このスタンパの凹凸パターンをフィルム基
材に転写成形することにより、フィルム状の光学情報記
録媒体を連続的に製造する技術が提案されている。ここ
では例えば凹凸パターンが形成されたロール状スタンパ
に紫外線硬化樹脂を塗布した後、フィルム基材と重ね合
わせ、紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化し、
次いで、フィルム基材と、その上に硬化した紫外線硬化
樹脂とをスタンパより剥離するという技術が提案されて
いる。
りの製造時間が長く、大量生産に向かないという問題が
あった。そこで例えば、特願昭62−506504号に
開示されているように、凹凸パターンが形成されたスタ
ンパを用い、このスタンパの凹凸パターンをフィルム基
材に転写成形することにより、フィルム状の光学情報記
録媒体を連続的に製造する技術が提案されている。ここ
では例えば凹凸パターンが形成されたロール状スタンパ
に紫外線硬化樹脂を塗布した後、フィルム基材と重ね合
わせ、紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化し、
次いで、フィルム基材と、その上に硬化した紫外線硬化
樹脂とをスタンパより剥離するという技術が提案されて
いる。
この技術につき、第2図を参照して説明する。
第2図aに示すように、送給ローラー2から送り出され
た基板1は案内溝や情報に応じた凹凸が形成されたロー
ル状スタンパ1oの円周に沿って搬送される。ニップロ
ーラー9は基板1をロール状スタンパの表面に押圧する
機能を有する。ロール状スタンパの下側には紫外線照射
によって硬化する樹脂液6が収容された樹脂槽が配設さ
れている。この樹脂槽内にはロール状スタンパ10に圧
接しながら回転する塗布ローラー7が設けられており、
この塗布ローラー7によって樹脂液6がロール状スタン
パ10の表面に塗布される。このようにして塗布された
樹脂液6はニップローラー9によって基板lとロール状
スタンパ10との間に充填される。ロール状スタンパ1
0の上方には紫外線ランプ11が設けられており、基板
1とロール状スタンパ10との間に充填された樹脂液6
に紫外線を照射し樹脂液6を硬化させる。送出ローラー
12は基板lとこれに固着した状態で硬化した紫外線硬
化樹脂6の層を、ロール状スタンパ10から剥離する機
能を有する。このようにして光ディスクの凹凸パターン
が基板上に転写される。第2図すにロール状スタンパを
紫外線ランプ11側(上方)から見た図を示す。
た基板1は案内溝や情報に応じた凹凸が形成されたロー
ル状スタンパ1oの円周に沿って搬送される。ニップロ
ーラー9は基板1をロール状スタンパの表面に押圧する
機能を有する。ロール状スタンパの下側には紫外線照射
によって硬化する樹脂液6が収容された樹脂槽が配設さ
れている。この樹脂槽内にはロール状スタンパ10に圧
接しながら回転する塗布ローラー7が設けられており、
この塗布ローラー7によって樹脂液6がロール状スタン
パ10の表面に塗布される。このようにして塗布された
樹脂液6はニップローラー9によって基板lとロール状
スタンパ10との間に充填される。ロール状スタンパ1
0の上方には紫外線ランプ11が設けられており、基板
1とロール状スタンパ10との間に充填された樹脂液6
に紫外線を照射し樹脂液6を硬化させる。送出ローラー
12は基板lとこれに固着した状態で硬化した紫外線硬
化樹脂6の層を、ロール状スタンパ10から剥離する機
能を有する。このようにして光ディスクの凹凸パターン
が基板上に転写される。第2図すにロール状スタンパを
紫外線ランプ11側(上方)から見た図を示す。
しかしながらこのような操作を繰り返すうちに、紫外線
硬化樹脂の塗布ローラー7の幅を基板1の幅より小さく
しているにもかかわらず、紫外線硬化樹脂6は硬化前に
は流動性があるため基板1/I−LL川用よ\た1斗フ
、山iイl ±^マし清(九n !ハはみ出した樹脂6
がロール状スタンパ10上のA部分に光照射によって硬
化累積し転写残りとなるために頻繁にスタンパを交換し
洗浄する必要があった。あるいは基板1の端部からはみ
出して硬化した樹脂はスタンパ10上に密着して基板端
部より欠けやすく、基板端部に尖頭状のバリBとなるこ
とも少なくなかった。ロール状スタンパ10から案内溝
付き基板が離型する際に剥離帯電した基板1にこれらの
欠けたパリがゴミとして付着し、記録媒体の欠陥、記録
エラーの原因の一つとなっていた。
硬化樹脂の塗布ローラー7の幅を基板1の幅より小さく
しているにもかかわらず、紫外線硬化樹脂6は硬化前に
は流動性があるため基板1/I−LL川用よ\た1斗フ
、山iイl ±^マし清(九n !ハはみ出した樹脂6
がロール状スタンパ10上のA部分に光照射によって硬
化累積し転写残りとなるために頻繁にスタンパを交換し
洗浄する必要があった。あるいは基板1の端部からはみ
出して硬化した樹脂はスタンパ10上に密着して基板端
部より欠けやすく、基板端部に尖頭状のバリBとなるこ
とも少なくなかった。ロール状スタンパ10から案内溝
付き基板が離型する際に剥離帯電した基板1にこれらの
欠けたパリがゴミとして付着し、記録媒体の欠陥、記録
エラーの原因の一つとなっていた。
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その
目的はロール状スタンパを用いて、紫外線硬化樹脂によ
る案内溝付き基板を連続成形する際にロール状スタンパ
の洗浄交換を著しく低減し、さらにパリ発生による基板
表面へのゴミの付着を防止することのできる光学的記録
媒体用基板の連続製造方法を提供することにある。
目的はロール状スタンパを用いて、紫外線硬化樹脂によ
る案内溝付き基板を連続成形する際にロール状スタンパ
の洗浄交換を著しく低減し、さらにパリ発生による基板
表面へのゴミの付着を防止することのできる光学的記録
媒体用基板の連続製造方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段]
十崩9日?+史巾這松ヒフに/十れ!千手爵糾しツ柑広
17た微細な凹凸パターンを有するロール状スタンパを
用い、該スタンパの凹凸パターンをシート基板上に紫外
線硬化樹脂を用いて転写形成することにより光学的記録
媒体を連続製造する方法において、該シート基板の外縁
部分に離型剤を塗布する工程、該シート基板に紫外線硬
化剤樹脂を塗布する工程、該樹脂が塗布されたシート基
板と該ロール状スタンパとを密着させた後、該シート基
板を通して紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程、つ
いで、該シート基板とその上に硬化した樹脂をロール状
スタンパから剥離する工程とを一連の工程として行なう
ことを特徴とする光学的記録媒体の連続製造方法である
。
17た微細な凹凸パターンを有するロール状スタンパを
用い、該スタンパの凹凸パターンをシート基板上に紫外
線硬化樹脂を用いて転写形成することにより光学的記録
媒体を連続製造する方法において、該シート基板の外縁
部分に離型剤を塗布する工程、該シート基板に紫外線硬
化剤樹脂を塗布する工程、該樹脂が塗布されたシート基
板と該ロール状スタンパとを密着させた後、該シート基
板を通して紫外線を照射して樹脂を硬化させる工程、つ
いで、該シート基板とその上に硬化した樹脂をロール状
スタンパから剥離する工程とを一連の工程として行なう
ことを特徴とする光学的記録媒体の連続製造方法である
。
以下本発明をより詳細に説明する。第1図は本発明の製
造方法を実施するための装置の一例を概念的に示し、a
は正面図、bは平面図である。
造方法を実施するための装置の一例を概念的に示し、a
は正面図、bは平面図である。
基板1は送給ローラー2で繰出されるようになっている
。基板1としてはフレキシブルなものであればなんら制
限されることはなく例えばポリカーボネート、アクリル
樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂等のプラスチックシートを好適に用いることがで
きる。なお、基板lの表面には紫外線硬化樹脂6との密
着性を高めるためにブライマー層を形成しておいても構
わない。
。基板1としてはフレキシブルなものであればなんら制
限されることはなく例えばポリカーボネート、アクリル
樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂等のプラスチックシートを好適に用いることがで
きる。なお、基板lの表面には紫外線硬化樹脂6との密
着性を高めるためにブライマー層を形成しておいても構
わない。
第1図すに示すように送給ローラー2から送り出された
基板1の、紫外線硬化樹脂により案内溝を形成させない
シート基板両端外縁部に、2つの塗布ローラー3により
紫外線硬化樹脂6が密着しない撥油性の離型剤4を塗布
する。次いで熱処理器5を通してシート基板両端外縁部
に離型層4を形成する。
基板1の、紫外線硬化樹脂により案内溝を形成させない
シート基板両端外縁部に、2つの塗布ローラー3により
紫外線硬化樹脂6が密着しない撥油性の離型剤4を塗布
する。次いで熱処理器5を通してシート基板両端外縁部
に離型層4を形成する。
離型層4の膜厚としては基板1に密着させる紫外線硬化
樹脂6の膜厚に影響するため、10μm以下、好ましく
は0.01μm〜5μmが望ましい。離型層4は撥油性
の効果を示す材料であればよいが好ましくはシリコーン
樹脂またはフッ素系樹脂が用いられる。
樹脂6の膜厚に影響するため、10μm以下、好ましく
は0.01μm〜5μmが望ましい。離型層4は撥油性
の効果を示す材料であればよいが好ましくはシリコーン
樹脂またはフッ素系樹脂が用いられる。
シリコーン樹脂としては、例えばジメチルシリコーン、
メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジエンシリ
コーン、ポリジオルガノシロキサンジオール、クロロフ
ェニルシリコーン、フロロシリコーン、シリコーンポリ
エーテル共重合体、アルキル変性シリコーン、高級脂肪
酸変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変
性シリコーン等のシリコーンのオイル、レジン、架橋体
等の化合物を全て用いることができ、あるいはそれらの
混合物も全て用いることができる。
メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジエンシリ
コーン、ポリジオルガノシロキサンジオール、クロロフ
ェニルシリコーン、フロロシリコーン、シリコーンポリ
エーテル共重合体、アルキル変性シリコーン、高級脂肪
酸変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変
性シリコーン等のシリコーンのオイル、レジン、架橋体
等の化合物を全て用いることができ、あるいはそれらの
混合物も全て用いることができる。
フッ素系樹脂としてはポリ四フッ化エチレン、四フッ化
エチレンー六フッ化プロピレン共重合体、四フッ化エチ
レンーパーフロロアルキルビニルエーテル共重合体、四
フッ化エチレンーエチレン共重合体、ポリ三フッ化塩化
エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、
三フッ化塩化エチレンーエチレン共重合体等のフルオロ
オレフィンを基本骨格に含む樹脂あるいはそれらの混合
物も全て用いることができる。
エチレンー六フッ化プロピレン共重合体、四フッ化エチ
レンーパーフロロアルキルビニルエーテル共重合体、四
フッ化エチレンーエチレン共重合体、ポリ三フッ化塩化
エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、
三フッ化塩化エチレンーエチレン共重合体等のフルオロ
オレフィンを基本骨格に含む樹脂あるいはそれらの混合
物も全て用いることができる。
次いで、紫外線照射により硬化する樹脂液6が収容され
た樹脂槽に配設された塗布ローラー7にセリ閘詣清6が
シート基板1の表面中央部に塗布される。樹脂液はプレ
ート8により厚みを均一に調整した後塗布すると良い。
た樹脂槽に配設された塗布ローラー7にセリ閘詣清6が
シート基板1の表面中央部に塗布される。樹脂液はプレ
ート8により厚みを均一に調整した後塗布すると良い。
次いでニップローラー9によって基板1とロール状スタ
ンパ10との間に充填される。基板1外縁部には離型処
理により撥油性があるため紫外線硬化樹脂6のはみ出し
は抑えられる。塗布厚みは0.1μffi〜50μmが
好ましく気泡の混入の少なくなるように調整する。
ンパ10との間に充填される。基板1外縁部には離型処
理により撥油性があるため紫外線硬化樹脂6のはみ出し
は抑えられる。塗布厚みは0.1μffi〜50μmが
好ましく気泡の混入の少なくなるように調整する。
紫外線硬化樹脂6としては分子中に不飽和結合を有する
プレポリマー、オリゴマー、モノマーを用いることがで
きる。例えば不飽和ポリエステル類、エポキシアクリレ
ート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト等のアクリレート類、エポキシメタクリレート、ウレ
タンメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポ
リエステルメタクリレート等のメタクリレート類を1種
または2種以上と、分子中に不飽和結合を有する光重合
性モノマー例えばジシクロペンテニルアクリレート、1
.3−ブタンジオールアクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート等の多官能性モノマーとを混合したものを用い
ることができ、さらに重合開始剤としてハロゲン化アセ
トフェノン類、ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルジメ
ヂルケタール、テトラメチルチウラムモノサルファイド
、チオキサンソン類等のラジカル発生化合物が用いられ
硬化した状態でスタンパから剥離しやすく、かつ記録層
とのマツチングの良いものであれば良い。なお、基板1
への紫外線硬化樹脂6の塗布は特に限定されるものでは
なく塗布ローラー7の代わりにデイスペンサーノズルや
その他印刷で用いられる公知のインク供給方法が使用で
きる。
プレポリマー、オリゴマー、モノマーを用いることがで
きる。例えば不飽和ポリエステル類、エポキシアクリレ
ート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト等のアクリレート類、エポキシメタクリレート、ウレ
タンメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポ
リエステルメタクリレート等のメタクリレート類を1種
または2種以上と、分子中に不飽和結合を有する光重合
性モノマー例えばジシクロペンテニルアクリレート、1
.3−ブタンジオールアクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート等の多官能性モノマーとを混合したものを用い
ることができ、さらに重合開始剤としてハロゲン化アセ
トフェノン類、ベンゾフェノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルジメ
ヂルケタール、テトラメチルチウラムモノサルファイド
、チオキサンソン類等のラジカル発生化合物が用いられ
硬化した状態でスタンパから剥離しやすく、かつ記録層
とのマツチングの良いものであれば良い。なお、基板1
への紫外線硬化樹脂6の塗布は特に限定されるものでは
なく塗布ローラー7の代わりにデイスペンサーノズルや
その他印刷で用いられる公知のインク供給方法が使用で
きる。
ロール状スタンパ10の表面には案内溝や情報に応じた
凹凸が形成されており紫外線硬化樹脂6が塗布された基
板1はこのロール状スタンパ10を円周に沿って搬送さ
れる。ロール状スタンパ10の径は基板1の厚みと材質
によっても異なるが、例えば1.2mm厚のポリカーホ
ネート製光ディスクを考慮すると直径300mm以上が
好ましい。
凹凸が形成されており紫外線硬化樹脂6が塗布された基
板1はこのロール状スタンパ10を円周に沿って搬送さ
れる。ロール状スタンパ10の径は基板1の厚みと材質
によっても異なるが、例えば1.2mm厚のポリカーホ
ネート製光ディスクを考慮すると直径300mm以上が
好ましい。
0、4mm厚ポリカーホネート製光カードの場合でも直
径150mm以上が好ましい。
径150mm以上が好ましい。
このようなロール状スタンパは厚さ 0.1mm〜0.
3mmの平板スタンパをロール面に沿って接着剤により
接着する方法、またはねじ等により機械的に止めつける
方法、あるいはロールに凹凸を直接刻印する方法等によ
り作製することができる。
3mmの平板スタンパをロール面に沿って接着剤により
接着する方法、またはねじ等により機械的に止めつける
方法、あるいはロールに凹凸を直接刻印する方法等によ
り作製することができる。
ニップローラー9を通過した基板1にはロール状スタン
パ10の上方に設けられた紫外線ランプ11により基板
1とロール状スタンパ10との間に充填された樹脂液全
幅にわたって紫外線を照射し樹脂液6を硬化させる。送
出ローラー12は基板1とこれに固着した状態で硬化し
た紫外線硬化樹脂6の層をロール状スタンパ10から剥
離する機能を持つ。
パ10の上方に設けられた紫外線ランプ11により基板
1とロール状スタンパ10との間に充填された樹脂液全
幅にわたって紫外線を照射し樹脂液6を硬化させる。送
出ローラー12は基板1とこれに固着した状態で硬化し
た紫外線硬化樹脂6の層をロール状スタンパ10から剥
離する機能を持つ。
このようにして光ディスクの情報に応じた凹凸パターン
が基板上に転写され光学情報記録媒体用基板を連続的に
製造することができる。なお必要に応じて剥離後さらに
紫外線照射する工程を設けても良い。シート基板1の送
り速度は0.05m/min〜5mZmlnの範囲にあ
るのが好ましい。0.05m/min以下の速度では生
産性があげられず、また5m/min以上の速度では気
泡が混入しやすくなるからである。
が基板上に転写され光学情報記録媒体用基板を連続的に
製造することができる。なお必要に応じて剥離後さらに
紫外線照射する工程を設けても良い。シート基板1の送
り速度は0.05m/min〜5mZmlnの範囲にあ
るのが好ましい。0.05m/min以下の速度では生
産性があげられず、また5m/min以上の速度では気
泡が混入しやすくなるからである。
さらに必要に応じて紫外線硬化樹脂6をロール状スタン
パ10の中央付近表面に圧接しながら回転する塗布ロー
ラー7°によって、ロール状スタンパにも供給して構わ
ない。
パ10の中央付近表面に圧接しながら回転する塗布ロー
ラー7°によって、ロール状スタンパにも供給して構わ
ない。
[実 施 例]
実施例1
ガラス原盤上に膜厚1000人のフォトレジスト(商品
面 AZ 1300、ヘキスト社製)膜を形成した後、
レーザーカッティング装置を用いて露光、次いて現像を
行ない凹凸パターンを形成した。次に形成した凹凸パタ
ーン上にスパッタリングによりNi薄膜を形成して表面
を導電化した後電鋳により厚さ0.1闘のN1体を被着
した。次いてガラス原盤を剥離し、溝幅0.6麟、ピッ
チ1.6μm、溝深さ900人のスパイラル形状の凹凸
パターンル右する35インチ光デイスク用Ni製平板ス
タンパを得た。
面 AZ 1300、ヘキスト社製)膜を形成した後、
レーザーカッティング装置を用いて露光、次いて現像を
行ない凹凸パターンを形成した。次に形成した凹凸パタ
ーン上にスパッタリングによりNi薄膜を形成して表面
を導電化した後電鋳により厚さ0.1闘のN1体を被着
した。次いてガラス原盤を剥離し、溝幅0.6麟、ピッ
チ1.6μm、溝深さ900人のスパイラル形状の凹凸
パターンル右する35インチ光デイスク用Ni製平板ス
タンパを得た。
得られたNi製平板スタンパをエポキシ系接着剤(商品
名: EP−170、セメダイン社製)を用いて外径4
00mm、幅150mmのローラーの側面に12個1列
に接着したロール状スタンパを作製した。
名: EP−170、セメダイン社製)を用いて外径4
00mm、幅150mmのローラーの側面に12個1列
に接着したロール状スタンパを作製した。
基板には厚さ 1.2闘、幅130mmのポリカーボネ
ートシート基板を用い、シート基板を速度2m/min
で供給し、基板両端の外縁、それぞれ10mm幅で溶液
型シリコーン(YSR3022、東芝シリコーン社製)
と触媒(YC6831、東芝シリコーン社製)のイソプ
ロピルアルコール溶液を塗工し80℃に調整した乾燥炉
(熱処理器)を通して熱硬化させ膜厚0.2μmの離型
層を設けた。
ートシート基板を用い、シート基板を速度2m/min
で供給し、基板両端の外縁、それぞれ10mm幅で溶液
型シリコーン(YSR3022、東芝シリコーン社製)
と触媒(YC6831、東芝シリコーン社製)のイソプ
ロピルアルコール溶液を塗工し80℃に調整した乾燥炉
(熱処理器)を通して熱硬化させ膜厚0.2μmの離型
層を設けた。
この基板の中央部に80mm幅でエポキシアクリレート
系紫外線硬化樹脂(MRA−5000、三菱レーヨン社
製)を25μm塗布し、ロール状スタンパとシート基板
とをニップロールにより密着させた後、 110mm幅
に押し広げられた紫外線硬化樹脂に基板の全幅にわたっ
て紫外線(4KW高圧水銀うンブ、300mW/cm2
)を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させた。次いでシート
基板とその上に硬化した紫外線硬化樹脂をロール状スタ
ンパより剥離して溝幅0.6μm、ピッチ1.6μm、
溝深さ900人のパリのない凹凸パターンを有するシー
ト基板を得た。
系紫外線硬化樹脂(MRA−5000、三菱レーヨン社
製)を25μm塗布し、ロール状スタンパとシート基板
とをニップロールにより密着させた後、 110mm幅
に押し広げられた紫外線硬化樹脂に基板の全幅にわたっ
て紫外線(4KW高圧水銀うンブ、300mW/cm2
)を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させた。次いでシート
基板とその上に硬化した紫外線硬化樹脂をロール状スタ
ンパより剥離して溝幅0.6μm、ピッチ1.6μm、
溝深さ900人のパリのない凹凸パターンを有するシー
ト基板を得た。
この操作を繰返してディスク1000個分の基板を成形
したが基板外縁部のパリや、ロール状スタンパ状への紫
外線硬化樹脂残りは発生しなかった。
したが基板外縁部のパリや、ロール状スタンパ状への紫
外線硬化樹脂残りは発生しなかった。
実施例2
実施例1と同様な方法で、溝幅3μm、ピッチ12μm
、溝深さ3000人のストライプ状の凹凸パターンを有
する光カード用Ni製平板スタンパを作製し外径200
mm、幅130mmのローラーの側面に10個1列に接
着しロール状スタンパを作製した。
、溝深さ3000人のストライプ状の凹凸パターンを有
する光カード用Ni製平板スタンパを作製し外径200
mm、幅130mmのローラーの側面に10個1列に接
着しロール状スタンパを作製した。
基板には厚さ0.4mm、幅120闘のポリカーボネー
トシート基板を用い、シート基板を速度2.5m/mi
nで供給し、基板両端外縁部にそれぞれ10mm幅で溶
液型フッ素樹脂(ルミクロンLF300、旭硝子社製)
とトリレンジイソシアネートのエタノール溶液を塗布し
80℃で熱処理して膜厚0,3μmの離型層を設けた。
トシート基板を用い、シート基板を速度2.5m/mi
nで供給し、基板両端外縁部にそれぞれ10mm幅で溶
液型フッ素樹脂(ルミクロンLF300、旭硝子社製)
とトリレンジイソシアネートのエタノール溶液を塗布し
80℃で熱処理して膜厚0,3μmの離型層を設けた。
次いで実施例1と同様な操作を行ない、溝幅3μm、ピ
ッチ12μm、溝深さ3000人のパリのない凹凸パタ
ーンを有するシート基板を得た。この操作を繰返してカ
ード1000個分の基板を成形したが基板外縁部のパリ
や、ロール状スタンパ上への紫外線硬化樹脂残りは発生
しなかった。
ッチ12μm、溝深さ3000人のパリのない凹凸パタ
ーンを有するシート基板を得た。この操作を繰返してカ
ード1000個分の基板を成形したが基板外縁部のパリ
や、ロール状スタンパ上への紫外線硬化樹脂残りは発生
しなかった。
比較例
シート基板端部の離型層を設けずに実施例1と同様の操
作を行ない凹凸パターンを有するシート基板を作製した
。紫外線硬化樹脂が基板端面からはみ出さないようにす
るために塗布幅、塗布厚、ニップロールの調整が非常に
繁雑となり、またすぐにパリやロール状スタンパへの転
写残りが発生しロール状スタンパの交換洗浄が必要とな
った。
作を行ない凹凸パターンを有するシート基板を作製した
。紫外線硬化樹脂が基板端面からはみ出さないようにす
るために塗布幅、塗布厚、ニップロールの調整が非常に
繁雑となり、またすぐにパリやロール状スタンパへの転
写残りが発生しロール状スタンパの交換洗浄が必要とな
った。
本発明によればロール状スタンパを用いて紫外線硬化樹
脂による案内溝付き基板を連続成形する際に、紫外線硬
化樹脂の塗布精度を高め、はみ出しによるパリにより基
板表面へのゴミの付着な防止するとともにロール状スタ
ンパの交換を著しく低減することができる。
脂による案内溝付き基板を連続成形する際に、紫外線硬
化樹脂の塗布精度を高め、はみ出しによるパリにより基
板表面へのゴミの付着な防止するとともにロール状スタ
ンパの交換を著しく低減することができる。
第1図は本発明を実施するための装置を概念的に示し、
aはその正面図、bはその平面図である。 第2図は従来光学的記録媒体の製造に用いられていた装
置の概念図であって、aはその正面図、bはその平面図
である。 1:基板 2:送給ローラー3:離型剤塗布
ローラー 4・離型剤 5:熱処理器 6・紫外線硬化樹脂 7 紫外線硬化樹脂塗布ローラー 8・ブレード 9:ニツブローラ−10=ロー
ル状スタンパ 11、紫外線ランプ 12:送出ローラー
aはその正面図、bはその平面図である。 第2図は従来光学的記録媒体の製造に用いられていた装
置の概念図であって、aはその正面図、bはその平面図
である。 1:基板 2:送給ローラー3:離型剤塗布
ローラー 4・離型剤 5:熱処理器 6・紫外線硬化樹脂 7 紫外線硬化樹脂塗布ローラー 8・ブレード 9:ニツブローラ−10=ロー
ル状スタンパ 11、紫外線ランプ 12:送出ローラー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、案内溝および/または情報に対応した微細な凹凸パ
ターンを有するロール状スタンパを用い、該スタンパの
凹凸パターンをシート基板上に紫外線硬化樹脂を用いて
転写形成することにより光学的記録媒体を連続製造する
方法において、該シート基板の外縁部分に離型剤を塗布
する工程、該シート基板に紫外線硬化剤樹脂を塗布する
工程、該樹脂が塗布されたシート基板と該ロール状スタ
ンパとを密着させた後、該シート基板を通して紫外線を
照射して樹脂を硬化させる工程、ついで、該シート基板
とその上に硬化した樹脂をロール状スタンパから剥離す
る工程とを一連の工程として行なうことを特徴とする光
学的記録媒体用基板の連続製造方法。 2、前記離型剤がシリコーン系樹脂からなることを特徴
とする請求項1に記載の方法。 3、前記離型剤がフッ素系樹脂からなることを特徴とす
る請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33129689A JP2665264B2 (ja) | 1989-12-22 | 1989-12-22 | 光学的記録媒体用基板の連続製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33129689A JP2665264B2 (ja) | 1989-12-22 | 1989-12-22 | 光学的記録媒体用基板の連続製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03194740A true JPH03194740A (ja) | 1991-08-26 |
JP2665264B2 JP2665264B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=18242101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33129689A Expired - Fee Related JP2665264B2 (ja) | 1989-12-22 | 1989-12-22 | 光学的記録媒体用基板の連続製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2665264B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7963757B2 (en) * | 2000-04-21 | 2011-06-21 | Lg Display Co., Ltd. | Apparatus and method for patterning pixels of an electro-luminescent display device |
-
1989
- 1989-12-22 JP JP33129689A patent/JP2665264B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7963757B2 (en) * | 2000-04-21 | 2011-06-21 | Lg Display Co., Ltd. | Apparatus and method for patterning pixels of an electro-luminescent display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2665264B2 (ja) | 1997-10-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |