JPH03192783A - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置Info
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- JPH03192783A JPH03192783A JP1333611A JP33361189A JPH03192783A JP H03192783 A JPH03192783 A JP H03192783A JP 1333611 A JP1333611 A JP 1333611A JP 33361189 A JP33361189 A JP 33361189A JP H03192783 A JPH03192783 A JP H03192783A
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- JP
- Japan
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- monitor light
- monitor
- light
- semiconductor laser
- laser device
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 2
- 230000002153 concerted effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000006508 Nelumbo nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 240000002853 Nelumbo nucifera Species 0.000 description 1
- 235000006510 Nelumbo pentapetala Nutrition 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はコンパクトディスクやビデオディスクなどの
光源や、光フアイバ通信用の光源として用いられる半導
体レーザ装置に関するものである。
光源や、光フアイバ通信用の光源として用いられる半導
体レーザ装置に関するものである。
$3図は従来の半導体レーザ装置を示す断面図で1図に
おいて、(1)はステム、(2)はステム(1) 上に
組立てたヒートシンク、(3)はヒートシンク(2’l
上1c組立てたサプマウン) 、 (4)はサブマウ
ント(3)上に数件けた半導体レーザ(以下LDと呼ぶ
)、(5)はL D (4)と同一ステム(1)に組み
込まれたフォトダイオード(以下FDと呼ぶ)、 (6
)はL D (4)よシ放射される前面光、(8)はL
D(4)裏面より放射されるモニタ光である。
おいて、(1)はステム、(2)はステム(1) 上に
組立てたヒートシンク、(3)はヒートシンク(2’l
上1c組立てたサプマウン) 、 (4)はサブマウ
ント(3)上に数件けた半導体レーザ(以下LDと呼ぶ
)、(5)はL D (4)と同一ステム(1)に組み
込まれたフォトダイオード(以下FDと呼ぶ)、 (6
)はL D (4)よシ放射される前面光、(8)はL
D(4)裏面より放射されるモニタ光である。
次に動fiiKついて説明する。L D (4)の裏面
よシ放射されるモニタ光は、LD(4)と同一ステム(
1)上に組み込まれたF D (5)に照射され、モニ
タ電流に変換される。
よシ放射されるモニタ光は、LD(4)と同一ステム(
1)上に組み込まれたF D (5)に照射され、モニ
タ電流に変換される。
次いで、このモニタ電流をムPO(ムutomatia
Power control)回路で一定IIcfik
りことKよシ。
Power control)回路で一定IIcfik
りことKよシ。
L D (4)からの前面光(6)も一定に保たれる。
ここで、モニタ電流と前面光(6)は比例関係にあり、
比例定数はL D (4)の前端面反射率と裏面反射率
から決定される。
比例定数はL D (4)の前端面反射率と裏面反射率
から決定される。
従来の半導体レーザ装置は以上のようVC構成されてい
たので、前面光の光出力を同一にした時。
たので、前面光の光出力を同一にした時。
モニタ光の光出力が個々の素子の反射率のばらつきに起
因して大きくばらりくという問題点があった。
因して大きくばらりくという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、この発明はモニタ光のばらつきを小さく抑え
るとともに、所望のモニタ光を得ることができる半導体
レーザ装置を得ることを目的とする。
たもので、この発明はモニタ光のばらつきを小さく抑え
るとともに、所望のモニタ光を得ることができる半導体
レーザ装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体レーザ装置は、LDの裏面側と、
PDの間に光の可変減衰板を取付けたものである。
PDの間に光の可変減衰板を取付けたものである。
この発明における可変減衰板は、LDのモニタ光の光強
度を1個々の素子について適時調整できるので、実際に
I’Dに照射される光出力を均一にできる。
度を1個々の素子について適時調整できるので、実際に
I’Dに照射される光出力を均一にできる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
*1 [/にオイテ、 (1)はスTム、(2)ハス?
ム(1)上に組立てたヒートシンク、C3)はヒートシ
ンク(2)上に組立てたサブマウント、(4)はサブマ
ウント(3)上に取付けたL D 、 (5)はL D
(4)と同一ステム(1)VC組み込まれたF D
、(6)はI、 D (4)よシ放射される前面光、(
8)はLD(4)裏面よシ放射されるモニタ光、(7)
はLD(4)J!1面側とP D (6)間に設置され
た可変減衰板である。
ム(1)上に組立てたヒートシンク、C3)はヒートシ
ンク(2)上に組立てたサブマウント、(4)はサブマ
ウント(3)上に取付けたL D 、 (5)はL D
(4)と同一ステム(1)VC組み込まれたF D
、(6)はI、 D (4)よシ放射される前面光、(
8)はLD(4)裏面よシ放射されるモニタ光、(7)
はLD(4)J!1面側とP D (6)間に設置され
た可変減衰板である。
次に動作について説明する。
L D (4)の裏面よシ放射されるモニタ光(8)は
、LD(4)の裏面と、FD(5)の間に設置された可
変減衰板(7)によって、所望のモニタ光量のみがF
D (5)に照射されるように調整される。次いで、こ
のモニタ光はF D (5)によりモニタ電流に変換さ
れ、A20回路によって、モニタ電流を一定に保つこと
により、前面光(6)を一定光出力に保り。
、LD(4)の裏面と、FD(5)の間に設置された可
変減衰板(7)によって、所望のモニタ光量のみがF
D (5)に照射されるように調整される。次いで、こ
のモニタ光はF D (5)によりモニタ電流に変換さ
れ、A20回路によって、モニタ電流を一定に保つこと
により、前面光(6)を一定光出力に保り。
以上のようにこの発明によれば、モニタ光を調整できる
可変減衰板をLDモニタ側とFD間に設置するようにし
たので、モニタ光([流)のばらつきを小さくでき(−
第2図(a)参照)、また、所望のモニタ光(電流)が
得(−第2図(1))参照)られる効果がある。
可変減衰板をLDモニタ側とFD間に設置するようにし
たので、モニタ光([流)のばらつきを小さくでき(−
第2図(a)参照)、また、所望のモニタ光(電流)が
得(−第2図(1))参照)られる効果がある。
wC1図はこの発明の一実施例による半導体レーザ装置
を示す断面図、第2図(a) 、 (b)はモニタ光分
布特性曲線図、第3図は従来の半導体レーザ装置を示す
断面図である。 図において、(1)はステム、(2)はヒートシンク。 (3)はサブマウント、(4)はL D 、 (5)は
F D 、 (6)は前面光、(7)は可変減衰板、(
8)はモニタ光、(9)は可変減衰板無の場合のモニタ
光分布、αOは可変減衰板有の場合のモニタ光分布を示
す。 なお1図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 第2図
を示す断面図、第2図(a) 、 (b)はモニタ光分
布特性曲線図、第3図は従来の半導体レーザ装置を示す
断面図である。 図において、(1)はステム、(2)はヒートシンク。 (3)はサブマウント、(4)はL D 、 (5)は
F D 、 (6)は前面光、(7)は可変減衰板、(
8)はモニタ光、(9)は可変減衰板無の場合のモニタ
光分布、αOは可変減衰板有の場合のモニタ光分布を示
す。 なお1図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 第2図
Claims (1)
- モニタ用のフォトダイオードを内蔵した半導体レーザに
おいて、前記半導体レーザの裏端面と前記フォトダイオ
ードの間に光の可変減衰板を取付けたことを特徴とする
半導体レーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1333611A JPH03192783A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 半導体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1333611A JPH03192783A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 半導体レーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03192783A true JPH03192783A (ja) | 1991-08-22 |
Family
ID=18267987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1333611A Pending JPH03192783A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03192783A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0600426B1 (en) * | 1992-11-30 | 2002-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus with light-emitting element |
CN110332988A (zh) * | 2019-06-06 | 2019-10-15 | 济南森峰科技有限公司 | 一种光纤激光器pd信号处理系统及方法 |
-
1989
- 1989-12-21 JP JP1333611A patent/JPH03192783A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0600426B1 (en) * | 1992-11-30 | 2002-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus with light-emitting element |
CN110332988A (zh) * | 2019-06-06 | 2019-10-15 | 济南森峰科技有限公司 | 一种光纤激光器pd信号处理系统及方法 |
CN110332988B (zh) * | 2019-06-06 | 2021-10-19 | 济南森峰激光科技股份有限公司 | 一种光纤激光器pd信号处理系统及方法 |
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