JPH03190027A - 真空インタラプタの製造方法 - Google Patents
真空インタラプタの製造方法Info
- Publication number
- JPH03190027A JPH03190027A JP32913189A JP32913189A JPH03190027A JP H03190027 A JPH03190027 A JP H03190027A JP 32913189 A JP32913189 A JP 32913189A JP 32913189 A JP32913189 A JP 32913189A JP H03190027 A JPH03190027 A JP H03190027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- brazing
- side member
- vacuum interrupter
- brazed
- members
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 238000005219 brazing Methods 0.000 claims abstract description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 31
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 23
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 20
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910018182 Al—Cu Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018651 Mn—Ni Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000713 I alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
本発明は、真空インタラプタの製造方法に係り、真空容
器を形成する一部分に鉄系材料からなる部材を備え、且
つ電極が銅を主成分としている真空インタラプタの製造
方法に関したものである。
器を形成する一部分に鉄系材料からなる部材を備え、且
つ電極が銅を主成分としている真空インタラプタの製造
方法に関したものである。
B1発明の概要
本発明は、真空インタラプタの最後の組立段階における
ロウ付部にAg−A Iを主成分とするロウ材を用い、
しかも真空中にて加熱排気することにより、ロウ付け強
度、気密接合の向上を図ったものである。
ロウ付部にAg−A Iを主成分とするロウ材を用い、
しかも真空中にて加熱排気することにより、ロウ付け強
度、気密接合の向上を図ったものである。
C0従来の技術
第3図は、この種真空インタラプタの従来の概略構成図
である。
である。
図中において、1は固定側部材であり、固定電極Ifを
内端に具備するり−ド棒12と、固定側端板13とを主
要な部材として構成している。2は可動側部材であり、
可動電極2!を内端に具備するリード棒22と、可動側
端板23と、ベローズ24とを主要な部材として構成し
ている。3はセラミックス等の部材からなる絶縁筒であ
り、31は絶縁筒の内側に設けた金属シールドである。
内端に具備するり−ド棒12と、固定側端板13とを主
要な部材として構成している。2は可動側部材であり、
可動電極2!を内端に具備するリード棒22と、可動側
端板23と、ベローズ24とを主要な部材として構成し
ている。3はセラミックス等の部材からなる絶縁筒であ
り、31は絶縁筒の内側に設けた金属シールドである。
このように構成した真空インタラプタは、可動電極21
を図中で上下方向に可動することにより電流の開閉を行
うものである。
を図中で上下方向に可動することにより電流の開閉を行
うものである。
このような構成からなる真空インタラプタの製造は、一
般には次のような手段によって製造される。
般には次のような手段によって製造される。
■第3図のように構成各部材の接合部に、板ロウ、線ロ
ウからなるσつ材41〜47を配置して仮組立し、これ
を真空炉に入れて加熱排気とロウ付けを同時に行って真
空インタラプタを一括して製造する。
ウからなるσつ材41〜47を配置して仮組立し、これ
を真空炉に入れて加熱排気とロウ付けを同時に行って真
空インタラプタを一括して製造する。
■固定側部材1と可動側部材2の一部、または全部を予
め前工程で製造しておき、そして、絶縁筒3との間にロ
ウ材42.47を介在させて、真空中でロウ付けと加熱
排気を同時に行って真空インタラプタを製造する。
め前工程で製造しておき、そして、絶縁筒3との間にロ
ウ材42.47を介在させて、真空中でロウ付けと加熱
排気を同時に行って真空インタラプタを製造する。
なお、前記■の場合には各所に同じロウ材(例えばCu
系のロウ材)を配置し、■の場合には溶融点の異なるロ
ウ材(例えばCu系とAg系)を使用するのが一般的で
ある。
系のロウ材)を配置し、■の場合には溶融点の異なるロ
ウ材(例えばCu系とAg系)を使用するのが一般的で
ある。
D1発明が解決しようとする課題
従来、真空インタラプタに要求される種々の特性を満た
すために、電極はCu(銅)を主成分としこれに低融点
金属、例えばBi(ビスマス)を、0.1〜20 重積
%含有することが一般的に行われている。
すために、電極はCu(銅)を主成分としこれに低融点
金属、例えばBi(ビスマス)を、0.1〜20 重積
%含有することが一般的に行われている。
しかし、電極がこのような低融点金属を含有している場
合には、ロウ付け時の温度(700〜1000℃)にて
電極より低融点金属の一部が蒸発することが知られてい
る。この蒸発した金属は、真空容器内部材に付着するば
かりか、その一部は溶融しているロウ社内に侵入してロ
ウ付け接合に悪影響を及ぼすことがある。
合には、ロウ付け時の温度(700〜1000℃)にて
電極より低融点金属の一部が蒸発することが知られてい
る。この蒸発した金属は、真空容器内部材に付着するば
かりか、その一部は溶融しているロウ社内に侵入してロ
ウ付け接合に悪影響を及ぼすことがある。
このような弊害の程度は、低融点金属の含有量との関係
もあるが、特に問題となるのは気密シール接合部である
。
もあるが、特に問題となるのは気密シール接合部である
。
つまり、機械的な接合強度は十分であったとしても気密
シール接合としては不十分なものとなってしまうおそれ
があるからである。
シール接合としては不十分なものとなってしまうおそれ
があるからである。
このような気密シール接合部としては、前述の第3図に
おける4 1,42,45,46.47のロウ材の部位
が各々該当する箇所であり、■真空炉中で一括組立する
場合には、これらのロウ材の箇所全部が該当する。
おける4 1,42,45,46.47のロウ材の部位
が各々該当する箇所であり、■真空炉中で一括組立する
場合には、これらのロウ材の箇所全部が該当する。
■前工程で固定側、可動側部材を予め制作しておき次工
程で一体化する場合には、42.47のロウ材の箇所が
該当する。
程で一体化する場合には、42.47のロウ材の箇所が
該当する。
E8課題を解決するための手段
発明者らは、種々実験を行った結果、
■Cu(銅)部材相互の接合を、AgとAlとからなる
ロウ材で接合すれば、ロウ付け部に低融点金属の侵入が
なく気密接合ロウ付けを確実にできることを見出した。
ロウ材で接合すれば、ロウ付け部に低融点金属の侵入が
なく気密接合ロウ付けを確実にできることを見出した。
換言すれば、真空インタラプタにおけるCuまたはCu
を主成分とする部材相互のロウ付け接合に、Ag−Al
ロウ材を用いれば確実なロウ付け接合ができることが判
った。
を主成分とする部材相互のロウ付け接合に、Ag−Al
ロウ材を用いれば確実なロウ付け接合ができることが判
った。
■またCu以外の鉄系部材の場合には、表面にニッケル
メッキを施せば高温にて同じAg−Alロウ材で■と同
様なロウ付けができることが判った。
メッキを施せば高温にて同じAg−Alロウ材で■と同
様なロウ付けができることが判った。
■更には、AgまたはAlと共晶を作る材料を添加する
と、Ag、Alの拡散を安定化でき、接合を一層確実な
ものにできることも判明した。
と、Ag、Alの拡散を安定化でき、接合を一層確実な
ものにできることも判明した。
すなわち、ロウ付部にAg、Alの拡散層が存在するこ
とで、例え電極等の部材が蒸発しゃすい低融点金属を含
有していても、これらの金属のロウ付け接合界面への侵
入を効果的に防止でき、安定にロウ付けできることが判
った。
とで、例え電極等の部材が蒸発しゃすい低融点金属を含
有していても、これらの金属のロウ付け接合界面への侵
入を効果的に防止でき、安定にロウ付けできることが判
った。
従って、本発明は、真空インタラプタにおけるC、u部
材相互の接合、及びニッケルメッキ層を介して鉄系金属
部材との接合をするロウ材として、Ag−A I合金ロ
ウ材を用いたものである。
材相互の接合、及びニッケルメッキ層を介して鉄系金属
部材との接合をするロウ材として、Ag−A I合金ロ
ウ材を用いたものである。
なお、
(1)Ag−A10つ材の組成は、Agが50〜80重
量%、Alが20〜50重量%である。
量%、Alが20〜50重量%である。
(2)接合部材のCu(銅)の食われを防止するために
は、AgまたはAlのいずれかと共晶を作るCuを添加
すると良い。この場合の組成は、Agが25〜80重量
%、Alが14〜75重量%、Cuが14〜30重量%
である。望ましくは、Agが30〜58重量%、Alが
26〜60重量%、Cuが10〜25重量%である。
は、AgまたはAlのいずれかと共晶を作るCuを添加
すると良い。この場合の組成は、Agが25〜80重量
%、Alが14〜75重量%、Cuが14〜30重量%
である。望ましくは、Agが30〜58重量%、Alが
26〜60重量%、Cuが10〜25重量%である。
しかして、Ag、Al、Cuが上述の範囲以外(未満、
及び越える場合)の場合にあっては、各々の成分の特性
が顕著となって、ロウ付け性、接合特性が急激に低下す
るものである。
及び越える場合)の場合にあっては、各々の成分の特性
が顕著となって、ロウ付け性、接合特性が急激に低下す
るものである。
また、
(3)低融点金属としては、例えば、Bi(ビスマス)
、sb(アンチモン)等の耐溶着性、さい断時性を向上
させるのに添加する低融点金属が該当する。
、sb(アンチモン)等の耐溶着性、さい断時性を向上
させるのに添加する低融点金属が該当する。
(4)ロウ材の使用条件としては、Ag−A Iまたは
Ag−Al−Cuの共晶点温度以上である約650℃と
するのが、低融点金属の蒸発飛散を少なくできる点から
も望ましい。
Ag−Al−Cuの共晶点温度以上である約650℃と
するのが、低融点金属の蒸発飛散を少なくできる点から
も望ましい。
(5)真空インタラプタの一体化としては、■固定側部
材、可動側部材を各々形成しておき、これらと絶縁筒と
を一体化する場合。
材、可動側部材を各々形成しておき、これらと絶縁筒と
を一体化する場合。
■固定側部材、可動側部材の一方と絶縁筒とを予め一体
化し、その後全体を一体化する場合。
化し、その後全体を一体化する場合。
の何れかが該当する。
(6)電極は、前工程で予めリード棒にロウ付けしても
良い。また低融点金属の含有量が少ない電極とリード棒
との接合の場合は本発明で用いたAg−Alロウ材でな
く、従来一般的に使用されているCu−Mn−Ni等の
ロウ材であっても差し支えない。ただし、本発明で使用
したAg−Alロウ材を用いるのが望ましい。
良い。また低融点金属の含有量が少ない電極とリード棒
との接合の場合は本発明で用いたAg−Alロウ材でな
く、従来一般的に使用されているCu−Mn−Ni等の
ロウ材であっても差し支えない。ただし、本発明で使用
したAg−Alロウ材を用いるのが望ましい。
(7)本発明においては、接合部がCuであれば良く、
部材全体がCu、またはCuを主成分とする材料である
必要はない。
部材全体がCu、またはCuを主成分とする材料である
必要はない。
(8)表面にニッケルメッキを施して使用する鉄系材料
としては、鉄、コバール合金、ステンレス鋼、が該当す
る。
としては、鉄、コバール合金、ステンレス鋼、が該当す
る。
F9作用
ロウ付け接合部にAg、Alの拡散層が存在することで
低融点金属の接合界面への侵入を効果的に防止でき、例
え電極が低融点金属を含有していても真空インタラプタ
のロウ付け接合強度、および気密シール接合を確実に且
つ信頼性の高いものにできる。
低融点金属の接合界面への侵入を効果的に防止でき、例
え電極が低融点金属を含有していても真空インタラプタ
のロウ付け接合強度、および気密シール接合を確実に且
つ信頼性の高いものにできる。
G、実施例
本発明を以下の実施例に基づいて詳細に説明する。
まずロウ材の特性について調べた実験結果を説明する。
(実験例−1)
Cuが50重量%、Crが40重量%、Biが10重量
%の成分からなる、低融点金属含有の金属部材と無酸素
銅との接合例である。
%の成分からなる、低融点金属含有の金属部材と無酸素
銅との接合例である。
(a)低融点金属を含有した部材について100メツシ
ユの粒径のOr(クロム)粉末を、アルミナ容器(内径
68111)に約160g入れ、このCr粉末上にCu
−B1合金(約400g)を載置し、容器に蓋をかぶせ
、これを真空炉内にて脱ガスと共にCu−B1合金の融
点以下の温度で加熱処理して、まずCr粒子を拡散結合
させて多孔質の溶浸母材を形成する。
ユの粒径のOr(クロム)粉末を、アルミナ容器(内径
68111)に約160g入れ、このCr粉末上にCu
−B1合金(約400g)を載置し、容器に蓋をかぶせ
、これを真空炉内にて脱ガスと共にCu−B1合金の融
点以下の温度で加熱処理して、まずCr粒子を拡散結合
させて多孔質の溶浸母材を形成する。
その後温度を上げて、Cu、Biを溶浸母材に溶浸させ
る。
る。
この際にアルミナ容器内は、Bj蒸気を含んだ雰囲気と
なり、Biを多量に含有した複合金属が得られる。
なり、Biを多量に含有した複合金属が得られる。
こうして得られた金属材料を、容器から取り出し、外面
を機械加工して所定の寸法形状にする。
を機械加工して所定の寸法形状にする。
(b)ロウ材について
■ Ag−A 10つ材
成分比が、約Ag:Al=70:30(重量%)となる
ように秤量した、粒径が325メツシユ以下(−325
メツシユ)のAg粉末(140g)とAl粉末(60g
)とを用意し、これら粉末を混合機で充分に混合する。
ように秤量した、粒径が325メツシユ以下(−325
メツシユ)のAg粉末(140g)とAl粉末(60g
)とを用意し、これら粉末を混合機で充分に混合する。
得られた混合粉末から約1.5g 分取し、径が40
xzの金型に均一に充填し、30トンで加圧成形して厚
さ0.4JII履の円形状の薄い板状のロウ材を得た。
xzの金型に均一に充填し、30トンで加圧成形して厚
さ0.4JII履の円形状の薄い板状のロウ材を得た。
■ Ag−Al−Cuロウ材
成分比が、約Ag:Al:Cu=40:40:20(重
量%)となるように秤量した、粒径が325メツシユ以
下(−325メツシユ)のAg粉末(80g)とAl粉
末(160g)とCu粉末(40g)とを用意し、これ
ら粉末を混合機で充分に混合する。
量%)となるように秤量した、粒径が325メツシユ以
下(−325メツシユ)のAg粉末(80g)とAl粉
末(160g)とCu粉末(40g)とを用意し、これ
ら粉末を混合機で充分に混合する。
得られた混合粉末から約1.5g 分取し、径が40m
mの金型に均一に充填し、30トンで加圧成形して厚さ
0.4gmの円形状の薄い板状のロウ材を得た。
mの金型に均一に充填し、30トンで加圧成形して厚さ
0.4gmの円形状の薄い板状のロウ材を得た。
(c)ロウ付けについて
上記ロウ材(Ag−Al及びAg−Al−Cu)を、前
記Cu−Cr−B1合金部材と、無酸素銅からなる部材
との間に入れ、これらをアルミナ容器内に設置し、且つ
蓋をし、真空炉にて加熱処理(650℃、15分間)し
て接合した。
記Cu−Cr−B1合金部材と、無酸素銅からなる部材
との間に入れ、これらをアルミナ容器内に設置し、且つ
蓋をし、真空炉にて加熱処理(650℃、15分間)し
て接合した。
(d)ロウ付けの結果について
上記のようにして得られた接合物は、強固に接合されて
おり、しかもロウ材も十分に流動していることが確認さ
れた。
おり、しかもロウ材も十分に流動していることが確認さ
れた。
また、X線マイクロアナライザにて接合部の断面を観察
すると、Ag、Al (更にはCu)の拡散層によって
、Biの界面への析出は防止され、安定したロウ付け接
合層が形成されていることが確認された。
すると、Ag、Al (更にはCu)の拡散層によって
、Biの界面への析出は防止され、安定したロウ付け接
合層が形成されていることが確認された。
(比較実験例)
比較のために一般的に知られている、Ag−Cu−1n
系ロウ材、及びCu−Mn−Ni系ロウ材を用い、温度
条件を前者は800℃、後者は950℃とし、且つ他の
条件は上記実施例−Iと同様にしてロウ付けを試みたが
、いずれも剥離し、ロウ付けができなかった。
系ロウ材、及びCu−Mn−Ni系ロウ材を用い、温度
条件を前者は800℃、後者は950℃とし、且つ他の
条件は上記実施例−Iと同様にしてロウ付けを試みたが
、いずれも剥離し、ロウ付けができなかった。
(一実施例)
上述の結果からAg−Alを含有するロウ材であれば低
融点金属を含有するCu(銅)部材を直接接合しても十
分な接合強度が得られることが判ったので、このロウ材
を用いて第1図に示す真空インタラプタを構成した。
融点金属を含有するCu(銅)部材を直接接合しても十
分な接合強度が得られることが判ったので、このロウ材
を用いて第1図に示す真空インタラプタを構成した。
すなわち、第1図に示す真空インタラプタを構成するに
際して、まず第2図(a)に示す固定側部材l、及び第
2図(b)に示す可動側部材2を各々前工程で形成する
。
際して、まず第2図(a)に示す固定側部材l、及び第
2図(b)に示す可動側部材2を各々前工程で形成する
。
固定側部材!は、Cu(銅)からなる固定側端板13、
Cuからなるリード棒12、Cuからなる排気管14、
からなるもので、これらの各部材の間に、70Ag−3
0Al (重量%)の成分からなるロウ材(板状ロウ材
、線状ロウ材)を配置して仮組立し、非酸化性雰囲気中
(真空中)にて後述する一体化ロウ付け温度より高い約
980℃の温度に加熱して接合形成する。
Cuからなるリード棒12、Cuからなる排気管14、
からなるもので、これらの各部材の間に、70Ag−3
0Al (重量%)の成分からなるロウ材(板状ロウ材
、線状ロウ材)を配置して仮組立し、非酸化性雰囲気中
(真空中)にて後述する一体化ロウ付け温度より高い約
980℃の温度に加熱して接合形成する。
また、可動側部材2は、Cuからなる固定側端板23、
Cuからなるリード棒22.5US(ステンレス鋼)製
のベローズ24からなるもので、ベローズ24のロウ付
け端部表面には予めニッケルメッキを施しておく。これ
らの各部材間に、70Ag−30Al (重量%)ロウ
材を配置して仮組立し、非酸化性雰囲気中(真空中)に
て後述する一体化ロウ付け温度より高い約1000℃の
温度に加熱して接合形成する。
Cuからなるリード棒22.5US(ステンレス鋼)製
のベローズ24からなるもので、ベローズ24のロウ付
け端部表面には予めニッケルメッキを施しておく。これ
らの各部材間に、70Ag−30Al (重量%)ロウ
材を配置して仮組立し、非酸化性雰囲気中(真空中)に
て後述する一体化ロウ付け温度より高い約1000℃の
温度に加熱して接合形成する。
上述のように予め形成した固定側部材Iと可動側部材2
とは、第1図に示すように、各リード棒12.22の内
端部にロウ材43.44 (板状口部材)を介して、電
極(Cuが50重量%、Crが40重量%、Biが10
重量%の成分)を設けて仮組立する。また、両端部にC
u(銅)からなる補助部材131,231を備えた絶縁
筒3に各々ロウ材42.47(板状ロウ材)を介して仮
組立する。
とは、第1図に示すように、各リード棒12.22の内
端部にロウ材43.44 (板状口部材)を介して、電
極(Cuが50重量%、Crが40重量%、Biが10
重量%の成分)を設けて仮組立する。また、両端部にC
u(銅)からなる補助部材131,231を備えた絶縁
筒3に各々ロウ材42.47(板状ロウ材)を介して仮
組立する。
これらロウ材42,43,44.47は、前述のロウ材
と同じ成分の70Ag−30Al (重量%)であり、
非酸化性雰囲気中(真空)にて前工程のロウ付け温度よ
り低い温度の約650℃でロウ付け接合して所定の真空
インタラプタを一体化構成すると共に加熱排気して所望
の真空インタラプタを得る。
と同じ成分の70Ag−30Al (重量%)であり、
非酸化性雰囲気中(真空)にて前工程のロウ付け温度よ
り低い温度の約650℃でロウ付け接合して所定の真空
インタラプタを一体化構成すると共に加熱排気して所望
の真空インタラプタを得る。
このようにして形成した真空インタラプタにおける電極
11.21とリード棒12,22との接合、及び端板1
3.23と補助金具131,231とは強固に接合され
ている。特に端板13.23と補助金具131,231
との接合部、及びベローズ24とリード棒22及び端板
23との接合部は、ヘリウム・リークデテクターにより
調査した結果リークの全く無いことが確認できた。
11.21とリード棒12,22との接合、及び端板1
3.23と補助金具131,231とは強固に接合され
ている。特に端板13.23と補助金具131,231
との接合部、及びベローズ24とリード棒22及び端板
23との接合部は、ヘリウム・リークデテクターにより
調査した結果リークの全く無いことが確認できた。
H,発明の効果
本発明は、Ag、Alを主成分としたロウ材を用いてい
ることから、ロウ付け部にAg、Alの拡散層を形成し
、この拡散層が低融点金属の接合界面への侵入を効果的
に防止できることから、例え電極が低融点金属を含有(
0,1〜20重量%)していても電極とリード棒の接合
は確実である。
ることから、ロウ付け部にAg、Alの拡散層を形成し
、この拡散層が低融点金属の接合界面への侵入を効果的
に防止できることから、例え電極が低融点金属を含有(
0,1〜20重量%)していても電極とリード棒の接合
は確実である。
しかも気密シール接合部に蒸発した低融点金属が飛散し
てもロウ付け接合に侵入することはなく、気密シール接
合強度を確実且つ安定なものにできる。
てもロウ付け接合に侵入することはなく、気密シール接
合強度を確実且つ安定なものにできる。
しかむ、Ag、Alと共晶を作るCuを添加するとCu
部材の食われ現象を効果的に防止でき、ロウ付け接合を
一層安定に行うことができる。
部材の食われ現象を効果的に防止でき、ロウ付け接合を
一層安定に行うことができる。
更にCu部材のみでなく、ロウ付け温度を高くし、−且
つニッケルメッキを施すことにより、鉄系部材をもロウ
付けできるので、結果として真空インタラプタ全体を同
じ成分のロウ材にて組み立てることができ、ロウ材の管
理が簡便なものとなる効果がある。
つニッケルメッキを施すことにより、鉄系部材をもロウ
付けできるので、結果として真空インタラプタ全体を同
じ成分のロウ材にて組み立てることができ、ロウ材の管
理が簡便なものとなる効果がある。
また、約650℃程度の低い温度でもロウ付けできるの
で、電極が低融点金属を含有している場合に及ぼす熱的
影響を軽減することができる。
で、電極が低融点金属を含有している場合に及ぼす熱的
影響を軽減することができる。
従って、真空インタラプタにおける信頼性、耐久性の向
上が図れ、品質向上に寄与できるものである。
上が図れ、品質向上に寄与できるものである。
第1図は、本発明の一実施例における真空インタラプタ
の概略構成図、第2図(a)、(b)は、第1図におけ
る真空インタラプタの部分組立図、第3図は、従来の真
空インタラプタの概略構成図である。 ■・・・固定側部材、2・・・可動側部材、42,43
゜44.47・・・ロウ材。 第1図 * *4PJ /)R5llltA:F2ゴ第2図(0
) 部分aitn図
の概略構成図、第2図(a)、(b)は、第1図におけ
る真空インタラプタの部分組立図、第3図は、従来の真
空インタラプタの概略構成図である。 ■・・・固定側部材、2・・・可動側部材、42,43
゜44.47・・・ロウ材。 第1図 * *4PJ /)R5llltA:F2ゴ第2図(0
) 部分aitn図
Claims (2)
- (1)少なくともリード棒と端板を備えた固定側部材と
、少なくともリード棒とベローズとを備えた可動側部材
と、これらの部材の端板が気密接合される絶縁筒と、各
リード棒の内端に設けた電極とを主要な構成部材とした
真空インタラプタの製造方法において、 前記固定側部材、及び可動側部材を構成する部材の内の
鉄系部材におけるロウ付け部表面にニッケルメッキを施
す第1工程と、前記固定側部材、及び可動側部材を予め
ロウ材で接合形成する第2工程と、形成した固定側部材
および可動側部材と絶縁筒とのロウ付け気密接合、及び
リード棒の内端に電極をロウ付け接合して真空インタラ
プタを組み立てると共に真空中にて加熱排気して真空イ
ンタラプタを得る第3工程とからなり、 前記電極は銅を主成分とする材料で形成し、前記第3工
程におけるロウ付け部分となる部材の少なくとも端部を
銅を主成分とする材料で形成し、前記第2及び第3工程
における少なくとも気密接合部にAgとAlが主成分の
ロウ材を用い、且つロウ付け温度は第3工程よりも第2
工程を高くしたことを特徴とする真空インタラプタの製
造方法。 - (2)第2工程で電極の少なくとも一方をリード棒内端
にロウ付けすることを特徴とする請求項1に記載の真空
インタラプタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32913189A JPH03190027A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 真空インタラプタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32913189A JPH03190027A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 真空インタラプタの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03190027A true JPH03190027A (ja) | 1991-08-20 |
Family
ID=18217972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32913189A Pending JPH03190027A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 真空インタラプタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03190027A (ja) |
-
1989
- 1989-12-19 JP JP32913189A patent/JPH03190027A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4500383A (en) | Process for bonding copper or copper-chromium alloy to ceramics, and bonded articles of ceramics and copper or copper-chromium alloy | |
KR890002304B1 (ko) | 진공인터라프터의 접촉전극의 제조방법 | |
US3034205A (en) | Metal and ceramic brazed articles and method | |
JPH03190027A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH03190025A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JP2822584B2 (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH03261669A (ja) | セラミックスと金属との接合体およびその製造法 | |
JPH03190024A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH042020A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH03190023A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JP2822583B2 (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH03190026A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH042011A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH03190022A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JP2642386B2 (ja) | 真空バルブおよびその製造方法 | |
JPH042018A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JPH0494892A (ja) | ロウ材の製造方法 | |
JPH0455086A (ja) | ロウ材の製造方法 | |
JPS5812345Y2 (ja) | 真空しや断器 | |
JPH042019A (ja) | 真空インタラプタの製造方法 | |
JP2611403B2 (ja) | 真空インタラプタ | |
JPH0471286B2 (ja) | ||
JPS6118591Y2 (ja) | ||
JPH05101751A (ja) | 電極材料の製造方法 | |
JP2658311B2 (ja) | 合金ロウ材 |