JPH03189526A - サーモパイル - Google Patents
サーモパイルInfo
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- JPH03189526A JPH03189526A JP1328343A JP32834389A JPH03189526A JP H03189526 A JPH03189526 A JP H03189526A JP 1328343 A JP1328343 A JP 1328343A JP 32834389 A JP32834389 A JP 32834389A JP H03189526 A JPH03189526 A JP H03189526A
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- Japan
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- temperature
- heat sink
- junction part
- cold junction
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- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 5
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- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、人体の検出あるいは非接触温度検出に用いら
れる赤外線を検知するサーモパイルに関する。
れる赤外線を検知するサーモパイルに関する。
[従来の技術]
第4図(a)、(b)は従来のサーモパイルの構成を示
す図で、(a)は平面図、(b)は断面図である。第4
図(a)、(b)において、有機フィルム101 (1
0μm前後の厚みのポリエステル、ポリイミドフィルム
が用いられる)の上に蒸着あるいはスパッタ等の手段に
より薄膜熱電対素子パターン102が形成されており、
この有機フィルム101はヒートシンク基板104に固
定されている。
す図で、(a)は平面図、(b)は断面図である。第4
図(a)、(b)において、有機フィルム101 (1
0μm前後の厚みのポリエステル、ポリイミドフィルム
が用いられる)の上に蒸着あるいはスパッタ等の手段に
より薄膜熱電対素子パターン102が形成されており、
この有機フィルム101はヒートシンク基板104に固
定されている。
ヒートシンク基板104の中央部には中央穴141が設
けられており、前記薄膜熱電対素子パターンの温接点部
121は中空穴141の内側にセットされており、一方
冷接点部122は中空穴141の外側に配置されており
、冷接点部122の温度は、はぼヒートシンク基板10
4の温度に保持されている。
けられており、前記薄膜熱電対素子パターンの温接点部
121は中空穴141の内側にセットされており、一方
冷接点部122は中空穴141の外側に配置されており
、冷接点部122の温度は、はぼヒートシンク基板10
4の温度に保持されている。
ヒートシンク基板104の材質は通常絶縁性をもったア
ルミナ(AI。0.)が一般に用いられる。
ルミナ(AI。0.)が一般に用いられる。
前記温接点部121の円周領域を含む形にて絶縁層10
6(ポリイミドのコーティング層あるいは5in2層)
が形成され、その上に赤外線吸収層107が形成されて
いる。赤外線吸収層107は一般に全黒が用いられる。
6(ポリイミドのコーティング層あるいは5in2層)
が形成され、その上に赤外線吸収層107が形成されて
いる。赤外線吸収層107は一般に全黒が用いられる。
前記サーモパイルの動作原理は以下のごとくである。
被測定対象物からの赤外線が赤外線吸収部107に入射
すると赤外線吸収部107の温度が上昇し、絶縁層10
6を通して薄膜熱電対素子パターン102の温接点部1
21の温度が上昇し、温度T2となり冷接点部の温度T
1との温度差ΔT−T2−T、が生じ、これにより、熱
電対一対当りの熱起電力×対数×温度差ΔTの出力電圧
が両端子131,132間に発生して、赤外線の入射パ
ワーを検知し、これを被測定対象物の温度へ換算する。
すると赤外線吸収部107の温度が上昇し、絶縁層10
6を通して薄膜熱電対素子パターン102の温接点部1
21の温度が上昇し、温度T2となり冷接点部の温度T
1との温度差ΔT−T2−T、が生じ、これにより、熱
電対一対当りの熱起電力×対数×温度差ΔTの出力電圧
が両端子131,132間に発生して、赤外線の入射パ
ワーを検知し、これを被測定対象物の温度へ換算する。
ここで特に、非接触温度検出の場合には、冷接点部12
2の温度T、が基準となり、この温度を補償することが
必要であるが、従来は第4図に示すごとくヒートシンク
基板104の近傍に温度検出素子108を固定して、そ
の周辺の温度を検知していた。温度検出素子108は通
常サーミスタ素子あるいはダイオード等を用いる。
2の温度T、が基準となり、この温度を補償することが
必要であるが、従来は第4図に示すごとくヒートシンク
基板104の近傍に温度検出素子108を固定して、そ
の周辺の温度を検知していた。温度検出素子108は通
常サーミスタ素子あるいはダイオード等を用いる。
〔発明が解決しようとする課題]
上記した温度補償方法に関して、以下に列記するような
欠点を有する。
欠点を有する。
■温度検出素子108はヒートシンク基板104の冷接
点部122領域から離れて設置されているため、冷接点
部122の温度を正確には検知しておらず、非接触温度
検出の場合の測定誤差の原因となっていた。
点部122領域から離れて設置されているため、冷接点
部122の温度を正確には検知しておらず、非接触温度
検出の場合の測定誤差の原因となっていた。
■温度検出素子108を設置するために新たにその分の
スペースが必要となる。
スペースが必要となる。
■部品点数として、温度検出素子108が追加となるこ
とにより部品点数及び部品費が増加する。
とにより部品点数及び部品費が増加する。
そこで、本発明の技術的課題は、従来の欠点を改善し、
従来よりも正確に熱電対の冷接点部の温度を検出するこ
とを可能とし、しかも部品点数を減らして低コスト化し
たサーモパイルを提供することにある。
従来よりも正確に熱電対の冷接点部の温度を検出するこ
とを可能とし、しかも部品点数を減らして低コスト化し
たサーモパイルを提供することにある。
[課題を解決するための手段コ
本発明によれば、冷接点部と温接点部とを有する薄膜熱
電対素子パターンを表面に形成した有機フィルムをヒー
トシンク基板に接合したサーモ、<イルにおいて、前記
ヒートシンク基板は感温度特性を有する材料で構成し、
前記ヒートシンク基板に一対の引き出し電極を設けたこ
とを特徴とし、前記一対の引き出し電極間の電気特性に
より、前記熱電対素子パターンの冷接点部の温度補償を
行えるようにしたサーモパイルが得られる。
電対素子パターンを表面に形成した有機フィルムをヒー
トシンク基板に接合したサーモ、<イルにおいて、前記
ヒートシンク基板は感温度特性を有する材料で構成し、
前記ヒートシンク基板に一対の引き出し電極を設けたこ
とを特徴とし、前記一対の引き出し電極間の電気特性に
より、前記熱電対素子パターンの冷接点部の温度補償を
行えるようにしたサーモパイルが得られる。
本発明によれば、前記サーモパイルにおいて、前記ヒー
トシンク基板は、Mn−Zn系フェライトを含むことを
特徴とするサーモパイルが得られる。
トシンク基板は、Mn−Zn系フェライトを含むことを
特徴とするサーモパイルが得られる。
本発明によれば、前記サーモパイルにおいて、前記ヒー
トシンク板は、負抵抗温度係数を有する(NTC)サー
ミスタを含むことを特徴とするサーモパイルが得られる
。
トシンク板は、負抵抗温度係数を有する(NTC)サー
ミスタを含むことを特徴とするサーモパイルが得られる
。
即ち、本発明は薄膜熱電対素子パターンを形成した有機
フィルムを感温特性を有するヒートシンク基板の上に接
合し、前記ヒートシンク基板に形成された電極部から取
り出す電気特性を用いて、熱雷対の冷接点部の温度補償
を行うものである。
フィルムを感温特性を有するヒートシンク基板の上に接
合し、前記ヒートシンク基板に形成された電極部から取
り出す電気特性を用いて、熱雷対の冷接点部の温度補償
を行うものである。
[実施例]
以下に、本発明の実施例について説明する。
第1図(a)及び(b)は、本発明によるサーモパイル
の一実施例を示す図で、(a)は平面図、(b)は断面
図である。
の一実施例を示す図で、(a)は平面図、(b)は断面
図である。
第1図(a)及び(b)において、ポリエステル、ある
いはポリイミド等の有機フィルム1上にSb、Bi等の
薄膜熱電対素子パターン2が蒸着あるいは、スパッタ等
の手段で形成されている。
いはポリイミド等の有機フィルム1上にSb、Bi等の
薄膜熱電対素子パターン2が蒸着あるいは、スパッタ等
の手段で形成されている。
前記薄膜熱電対素子パターン2の温接点部21の円周部
を覆う領域にて絶縁コーティング層6が形成され、その
上に赤外線吸収層6(通常、全黒が用いられる)が形成
されている。
を覆う領域にて絶縁コーティング層6が形成され、その
上に赤外線吸収層6(通常、全黒が用いられる)が形成
されている。
有機フィルム1は、ヒートシンク基板4の上に接合され
ており、ヒートシンク基板4は、本発明の実施例では感
温特性を有する材料により形成されている。更に、ヒー
トシンク基板4の外径は有機フィルム1の外径よりも大
としており、周辺部の相対向する位置で、有機フィルム
1の外側部に第1図(a)及び(b)に示すごとく電極
51゜52が形成されている。
ており、ヒートシンク基板4は、本発明の実施例では感
温特性を有する材料により形成されている。更に、ヒー
トシンク基板4の外径は有機フィルム1の外径よりも大
としており、周辺部の相対向する位置で、有機フィルム
1の外側部に第1図(a)及び(b)に示すごとく電極
51゜52が形成されている。
一方、ヒートシンク基板4の中央部には中空穴41が設
けられ、その内径寸法は温接点部21が中空穴41の内
側に、冷接点部22が中空穴41の外側でヒートシンク
基板4の領域に入るように設計されている。
けられ、その内径寸法は温接点部21が中空穴41の内
側に、冷接点部22が中空穴41の外側でヒートシンク
基板4の領域に入るように設計されている。
次に、本発明の実施例に係るサーモパイルの動作原理に
ついて説明する。
ついて説明する。
本発明の実施例に係るサーモパイルは、先にのべた従来
例と同様に被測定対象物からの赤外線が赤外線吸収体7
に入射し、その部分の温度を上昇させ、熱電対素子パタ
ーン2の温接点部21の温度が上昇し温度T2となり、
一方冷接点部22の温度は、ヒートシンク基板4の温度
に保持されて温度T+(はぼ周囲温度に近い)であり、
先の温度差ΔT−T2−T、に相当する熱起電力が端子
31.32間に発生する。
例と同様に被測定対象物からの赤外線が赤外線吸収体7
に入射し、その部分の温度を上昇させ、熱電対素子パタ
ーン2の温接点部21の温度が上昇し温度T2となり、
一方冷接点部22の温度は、ヒートシンク基板4の温度
に保持されて温度T+(はぼ周囲温度に近い)であり、
先の温度差ΔT−T2−T、に相当する熱起電力が端子
31.32間に発生する。
ここで、本発明の実施例を、感温特性を有するヒートシ
ンク基板4の材料として、その内部抵抗値Rが温度によ
り変化するM n −Z n系フェライトを用いた例を
挙げ説明する。
ンク基板4の材料として、その内部抵抗値Rが温度によ
り変化するM n −Z n系フェライトを用いた例を
挙げ説明する。
第2図は、本発明の実施例に係るサーモパイルにおいて
、ヒートシンク板をM n −Z n系フェライトを用
いた場合の、ヒートシンク基板4の電極51.52をリ
ード端子とし、この端子間の抵抗値と温度Tとの関係を
示す図である。第2図において、抵抗値Rは温度Tの増
加により単調に減少する(負抵抗温度係数を有する)。
、ヒートシンク板をM n −Z n系フェライトを用
いた場合の、ヒートシンク基板4の電極51.52をリ
ード端子とし、この端子間の抵抗値と温度Tとの関係を
示す図である。第2図において、抵抗値Rは温度Tの増
加により単調に減少する(負抵抗温度係数を有する)。
第3図は本発明の実施例に係るサーモパイルの温度検出
回路の構成を示すブロック図である。
回路の構成を示すブロック図である。
この図において、サーモパイル33により測定された電
極31.32間の熱起電力は、増幅されるとともに、こ
の測定回路と並列に設けられたヒートシンク基板の電極
51.52を2端子とした場合の、端子間の抵抗R35
が温度補償回路36を通って接続されて、補正された出
力電圧となる。
極31.32間の熱起電力は、増幅されるとともに、こ
の測定回路と並列に設けられたヒートシンク基板の電極
51.52を2端子とした場合の、端子間の抵抗R35
が温度補償回路36を通って接続されて、補正された出
力電圧となる。
ここで、本発明の実施例によるサーモパイルは、従来の
サーモパイルに比して下記のような利点を何する。
サーモパイルに比して下記のような利点を何する。
従来は、ヒートシンク基板104と温度検出素子108
が離れているためその間に温度差があり、正確な冷接点
部の温度検出が出来なかったが、本発明の実施例では、
ヒートシンク基板4そのものの温度を検出しているため
、冷接点部22の正確な温度検出が可能であり、非接触
温度検出の精度が従来よりも改善される。
が離れているためその間に温度差があり、正確な冷接点
部の温度検出が出来なかったが、本発明の実施例では、
ヒートシンク基板4そのものの温度を検出しているため
、冷接点部22の正確な温度検出が可能であり、非接触
温度検出の精度が従来よりも改善される。
ヒートシンク基板4自体に感温特性を持たせているので
、従来のごとく新たに温度検出素子を追加する必要がな
く、従って、部品点数が従来よりも少なく、部品費の点
で従来よりも有利である。
、従来のごとく新たに温度検出素子を追加する必要がな
く、従って、部品点数が従来よりも少なく、部品費の点
で従来よりも有利である。
第1図の例のごとく、ヒートシンク基板4に電極を51
.52のごとく取出すことにより、冷接点部22の対数
のほぼ平均温度を電極51.52から取り出すことがで
きる。これは従来の第4図の例では、実現できなかった
ことである。
.52のごとく取出すことにより、冷接点部22の対数
のほぼ平均温度を電極51.52から取り出すことがで
きる。これは従来の第4図の例では、実現できなかった
ことである。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、従来の欠点を改
善し、従来よりも正確に熱電対の冷接点部の温度を検出
することを可能とし、しかも部品点数を減らして低コス
ト化したサーモパイルを提供することができる。
善し、従来よりも正確に熱電対の冷接点部の温度を検出
することを可能とし、しかも部品点数を減らして低コス
ト化したサーモパイルを提供することができる。
第1図(a)及び(b)は本発明によるサーモパイルの
一実施例を示す図で、(a)は平面図、(b)は断面図
である。 第2図は本発明の実施例によるヒートシンク基板の感温
特性を示す図、第3図は本発明の実施例に係るサーモパ
イルの温度検出回路の構成を示すブロック図、第4図(
a)及び(b)は従来のサーモパイルの一例を示す図で
、(a)は平面図、(b)は断面図である。 図中、1・・・有機フィルム、2・・・薄膜熱電対素子
パターン、4・・・感温特性を有するヒートシンク基板
、6・・・接続コーティング層、7・・・赤外線吸収層
、21・・・熱電対の温接点部、22・・・熱電対の冷
接点部、31.32・・・熱電対素子パターン出力端子
、41・・・中空穴、51.52・・・電極、101・
・・有機フィルム、102・・・薄膜熱電対素子パター
ン、104・・・ヒートシンク基板、106・・・絶縁
コーティング層、107・・・赤外線吸収層、108・
・・温度検出素子、121・・・熱電対の温接点部、1
22・・・熱電対の冷接点部、131,132・・・熱
電対のパターン出力端子、141・・・中空穴。 第 図 第 図 赤外線 4ヒートシンク基板 赤外線
一実施例を示す図で、(a)は平面図、(b)は断面図
である。 第2図は本発明の実施例によるヒートシンク基板の感温
特性を示す図、第3図は本発明の実施例に係るサーモパ
イルの温度検出回路の構成を示すブロック図、第4図(
a)及び(b)は従来のサーモパイルの一例を示す図で
、(a)は平面図、(b)は断面図である。 図中、1・・・有機フィルム、2・・・薄膜熱電対素子
パターン、4・・・感温特性を有するヒートシンク基板
、6・・・接続コーティング層、7・・・赤外線吸収層
、21・・・熱電対の温接点部、22・・・熱電対の冷
接点部、31.32・・・熱電対素子パターン出力端子
、41・・・中空穴、51.52・・・電極、101・
・・有機フィルム、102・・・薄膜熱電対素子パター
ン、104・・・ヒートシンク基板、106・・・絶縁
コーティング層、107・・・赤外線吸収層、108・
・・温度検出素子、121・・・熱電対の温接点部、1
22・・・熱電対の冷接点部、131,132・・・熱
電対のパターン出力端子、141・・・中空穴。 第 図 第 図 赤外線 4ヒートシンク基板 赤外線
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、冷接点部と温接点部とを有する薄膜熱電対素子パタ
ーンを表面に形成した有機フィルムをヒートシンク基板
に接合したサーモパイルにおいて、前記ヒートシンク基
板は感温度特性を有する材料で構成し、 前記ヒートシンク基板に一対の引き出し電極を設けたこ
とを特徴とし、 前記一対の引き出し電極間の電気特性により、前記熱電
対素子パターンの冷接点部の温度補償を行えるようにし
たサーモパイル。 2、第1の請求項記載のサーモパイルにおいて、前記ヒ
ートシンク基板は、Mn−Zn系フェライトを含むこと
を特徴とするサーモパイル。 3、第1の請求項記載のサーモパイルにおいて、前記ヒ
ートシンク板は、NTCサーミスタを含むことを特徴と
するサーモパイル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1328343A JPH03189526A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | サーモパイル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1328343A JPH03189526A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | サーモパイル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03189526A true JPH03189526A (ja) | 1991-08-19 |
Family
ID=18209179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1328343A Pending JPH03189526A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | サーモパイル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03189526A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001050102A1 (fr) * | 2000-01-07 | 2001-07-12 | Kazuhito Sakano | Capteur a thermopile et procede de mesure de temperature par rayons infrarouges |
GB2362034A (en) * | 1999-11-19 | 2001-11-07 | Murata Manufacturing Co | Heat absorbent for an infrared sensor and method of forming same |
WO2001088495A1 (fr) * | 2000-04-20 | 2001-11-22 | Kazuhito Sakano | Thermometre a infrarouges et procede de mesure de la temperature au moyen de ce thermometre a infrarouges |
US6720559B2 (en) | 2000-05-18 | 2004-04-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Infrared sensor |
JP2009200487A (ja) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Asml Netherlands Bv | 温度センサを有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP1328343A patent/JPH03189526A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2362034A (en) * | 1999-11-19 | 2001-11-07 | Murata Manufacturing Co | Heat absorbent for an infrared sensor and method of forming same |
GB2362034B (en) * | 1999-11-19 | 2002-07-17 | Murata Manufacturing Co | Heat absorbent for an infrared sensor and method for forming same |
US6469302B1 (en) | 1999-11-19 | 2002-10-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Heat absorbent for an infrared sensor and method for forming same |
KR100387562B1 (ko) * | 1999-11-19 | 2003-06-18 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 적외선 센서용 열 흡수체 및 이것을 형성하기 위한 방법 |
WO2001050102A1 (fr) * | 2000-01-07 | 2001-07-12 | Kazuhito Sakano | Capteur a thermopile et procede de mesure de temperature par rayons infrarouges |
WO2001088495A1 (fr) * | 2000-04-20 | 2001-11-22 | Kazuhito Sakano | Thermometre a infrarouges et procede de mesure de la temperature au moyen de ce thermometre a infrarouges |
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JP2009200487A (ja) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Asml Netherlands Bv | 温度センサを有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
US8072575B2 (en) | 2008-02-21 | 2011-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with temperature sensor and device manufacturing method |
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