JPH03186369A - 薬液噴霧ノズル - Google Patents
薬液噴霧ノズルInfo
- Publication number
- JPH03186369A JPH03186369A JP32512489A JP32512489A JPH03186369A JP H03186369 A JPH03186369 A JP H03186369A JP 32512489 A JP32512489 A JP 32512489A JP 32512489 A JP32512489 A JP 32512489A JP H03186369 A JPH03186369 A JP H03186369A
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- JP
- Japan
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- chemical solution
- spray
- chemical liquid
- spray nozzle
- rotary plate
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置に使用する薬液噴霧ノズルに関
する。
する。
従来、この種の薬液噴霧ノズルとしては、第3図の縦断
面図に示すものと第4図の構成図に示すものがある。第
3図に示す二流体式薬液噴霧ノズルは、薬液導入口11
から薬液を、又、エアー導入口12からエアーを導入し
、薬液噴出口13から薬液を、又、エアー噴出口14か
らエアーを噴出させることにより、薬液を噴霧状にする
ものである。また、第4図に示す回転板式薬液噴霧ノズ
ルは、モーター2で回転板3を高速回転させ、約液導入
管15から薬液を高速回転した回転板3の上に滴下する
ことにより薬液を噴霧状にし、エアー導入口12から導
入されたエアーで、薬液を薬液噴霧噴出口9から噴霧状
にして噴出させるものである。
面図に示すものと第4図の構成図に示すものがある。第
3図に示す二流体式薬液噴霧ノズルは、薬液導入口11
から薬液を、又、エアー導入口12からエアーを導入し
、薬液噴出口13から薬液を、又、エアー噴出口14か
らエアーを噴出させることにより、薬液を噴霧状にする
ものである。また、第4図に示す回転板式薬液噴霧ノズ
ルは、モーター2で回転板3を高速回転させ、約液導入
管15から薬液を高速回転した回転板3の上に滴下する
ことにより薬液を噴霧状にし、エアー導入口12から導
入されたエアーで、薬液を薬液噴霧噴出口9から噴霧状
にして噴出させるものである。
上述した従来の薬液噴霧ノズルは、第3図に示したもの
の場合、薬液噴霧の流量が最大0.5g/min程度し
かとれないという欠点がある。また、第4図に示したも
のの場合、薬液を回転板上に滴下し、その薬液を噴霧状
にするため、回転板を5〜7万rpmで高速回転させる
必要があり、大型モーターを使用するためノズル機構が
大きくなるという欠点がある。
の場合、薬液噴霧の流量が最大0.5g/min程度し
かとれないという欠点がある。また、第4図に示したも
のの場合、薬液を回転板上に滴下し、その薬液を噴霧状
にするため、回転板を5〜7万rpmで高速回転させる
必要があり、大型モーターを使用するためノズル機構が
大きくなるという欠点がある。
本発明の薬液噴霧ノズルは、薬液をスプレー状にするた
めのスプレーノズルと、該スプレー状薬液を噴霧化する
ための回転板とを有している。
めのスプレーノズルと、該スプレー状薬液を噴霧化する
ための回転板とを有している。
戚
次に本発明について図面を参照して専明する。
第1図は本発明の第一の実施例の構成図である。
第1図に示すように本実施例では、薬液噴霧ノズル本体
1内に、モーター2に接続された回転板3を取付け、ポ
ンプ4で圧送した薬液をスプレー状にする薬液スプレー
ノズル5及びエアー導入管6を回転板3に近接させて取
付ける。本実施例の薬液噴霧ノズルは、かかる構造を有
していることにより、薬液スプレー噴出ロアから噴出さ
れた薬液スプレーが高速で回転している回転板3に噴射
されて噴霧状になり、エアー噴出口8から噴出するエア
ーにより、薬液噴霧噴出口9より噴霧状の薬液が噴出す
る0本実施例の薬液噴霧ノズルは、薬液をスプレー状に
して回転板に噴射するため、回転板の回転が3000〜
5000rpmで薬液を噴霧状にすることができる。第
2図(A)は本発明の第2の実施例の構成図、第2図(
B)はそのA−A断面図である。この実施例では、回転
板3に羽根10を取付けである。従って、回転している
羽根10に向けて噴射した薬液スプレーが噴霧状になる
と、回転する羽の風圧により、薬液噴霧が薬液噴霧噴出
口9から噴出するため、高圧エアーが不要となり、ラン
ニングコストが削減できるという利点がある。
1内に、モーター2に接続された回転板3を取付け、ポ
ンプ4で圧送した薬液をスプレー状にする薬液スプレー
ノズル5及びエアー導入管6を回転板3に近接させて取
付ける。本実施例の薬液噴霧ノズルは、かかる構造を有
していることにより、薬液スプレー噴出ロアから噴出さ
れた薬液スプレーが高速で回転している回転板3に噴射
されて噴霧状になり、エアー噴出口8から噴出するエア
ーにより、薬液噴霧噴出口9より噴霧状の薬液が噴出す
る0本実施例の薬液噴霧ノズルは、薬液をスプレー状に
して回転板に噴射するため、回転板の回転が3000〜
5000rpmで薬液を噴霧状にすることができる。第
2図(A)は本発明の第2の実施例の構成図、第2図(
B)はそのA−A断面図である。この実施例では、回転
板3に羽根10を取付けである。従って、回転している
羽根10に向けて噴射した薬液スプレーが噴霧状になる
と、回転する羽の風圧により、薬液噴霧が薬液噴霧噴出
口9から噴出するため、高圧エアーが不要となり、ラン
ニングコストが削減できるという利点がある。
以上説明したように本発明は、スプレー状にした薬液を
回転板に噴射することにより、従来の薬液噴霧スプレー
の2〜3倍の薬液噴霧流量を得ることができ、半導体ウ
ェハの洗浄、剥離を短時間で、しかも均一に行うことが
できる。
回転板に噴射することにより、従来の薬液噴霧スプレー
の2〜3倍の薬液噴霧流量を得ることができ、半導体ウ
ェハの洗浄、剥離を短時間で、しかも均一に行うことが
できる。
第1図は本発明の第一の実施例の構成図、第2図は本発
明の第2の実施例を示す図で、図(A)は構成図、図(
B)はそのA−A断面図、第3図は従来の二流体式薬液
噴霧ノズルの縦断面図、・第4図は従来の回転板式薬液
噴霧ノズルの構成図である。 1・・・薬液噴霧ノズル本体、2・・・モーター、3・
・・回転板、4・・・ポンプ、5・・・薬液スプレーノ
ズル、6・・・エアー導入管、7・・・薬液スプレー噴
出口、8・・・エアー噴出口、9・・・薬液噴霧噴出口
、10・・・羽根、11・・・薬液導入口、12・・・
エアー導入口、13・・・薬液噴出口、14・・・エア
ー噴出口、15・・・薬液導入管。
明の第2の実施例を示す図で、図(A)は構成図、図(
B)はそのA−A断面図、第3図は従来の二流体式薬液
噴霧ノズルの縦断面図、・第4図は従来の回転板式薬液
噴霧ノズルの構成図である。 1・・・薬液噴霧ノズル本体、2・・・モーター、3・
・・回転板、4・・・ポンプ、5・・・薬液スプレーノ
ズル、6・・・エアー導入管、7・・・薬液スプレー噴
出口、8・・・エアー噴出口、9・・・薬液噴霧噴出口
、10・・・羽根、11・・・薬液導入口、12・・・
エアー導入口、13・・・薬液噴出口、14・・・エア
ー噴出口、15・・・薬液導入管。
Claims (1)
- 半導体装置の製造に使用する薬液噴霧ノズルにおいて
、薬液をスプーレ状にして噴射する薬液スプレーノズル
と、このスプレー状薬液を吹きつけて噴霧状にする回転
板とを備えたことを特徴とする薬液噴霧ノズル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32512489A JPH03186369A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 薬液噴霧ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32512489A JPH03186369A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 薬液噴霧ノズル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03186369A true JPH03186369A (ja) | 1991-08-14 |
Family
ID=18173351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32512489A Pending JPH03186369A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 薬液噴霧ノズル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03186369A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5873380A (en) * | 1994-03-03 | 1999-02-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wafer cleaning apparatus |
US5934566A (en) * | 1995-05-26 | 1999-08-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Washing apparatus and washing method |
KR20030079384A (ko) * | 2002-04-04 | 2003-10-10 | 배선희 | 기액접촉식 공기공급장치 |
KR100521060B1 (ko) * | 1998-11-12 | 2005-12-30 | 엘지전자 주식회사 | 기판 코팅장치의 노즐 구조 및 그 제어방법 |
JP2007105727A (ja) * | 2000-11-20 | 2007-04-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
US7267130B2 (en) | 2000-09-22 | 2007-09-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
US7479205B2 (en) | 2000-09-22 | 2009-01-20 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
US7600522B2 (en) | 2003-05-22 | 2009-10-13 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treatment method and substrate treatment apparatus |
-
1989
- 1989-12-14 JP JP32512489A patent/JPH03186369A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5873380A (en) * | 1994-03-03 | 1999-02-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wafer cleaning apparatus |
US5934566A (en) * | 1995-05-26 | 1999-08-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Washing apparatus and washing method |
US6048409A (en) * | 1995-05-26 | 2000-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Washing apparatus and washing method |
KR100521060B1 (ko) * | 1998-11-12 | 2005-12-30 | 엘지전자 주식회사 | 기판 코팅장치의 노즐 구조 및 그 제어방법 |
US7267130B2 (en) | 2000-09-22 | 2007-09-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
US7428907B2 (en) | 2000-09-22 | 2008-09-30 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
US7479205B2 (en) | 2000-09-22 | 2009-01-20 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
JP2007105727A (ja) * | 2000-11-20 | 2007-04-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP4484861B2 (ja) * | 2000-11-20 | 2010-06-16 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄装置 |
KR20030079384A (ko) * | 2002-04-04 | 2003-10-10 | 배선희 | 기액접촉식 공기공급장치 |
US7600522B2 (en) | 2003-05-22 | 2009-10-13 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treatment method and substrate treatment apparatus |
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