JP2007105727A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板Wの回転中止Paを中心として回転させられている基板Wの表面上に、洗浄ノズル7より液滴の洗浄液が吐出される。洗浄ノズル7は、その胴部7bに空気を吐出する気体吐出ノズル100と、純水を吐出する液体吐出ノズル200が配置される。気体吐出口101から吐出された空気と液体吐出口201から吐出された純水は、その衝突部位Gでの入射角度αが0度以上で110度以下の範囲に設定される。そして、空気と純水が空中にて混合し、噴霧状となした液滴の洗浄液にて基板面が洗浄される。
【選択図】図1
Description
図1は、実施例に係る基板洗浄装置の概略構成を示すブロック図であり、図2はその平面図である。
図4は、この発明の第2実施例にかかる洗浄ノズルの他の構成を簡略的に示す装置側方から見た断面図である。なお、第1実施例と同様の構成に関しては、同符号を付与し説明を省略する。この第2実施例の洗浄ノズルを使用する洗浄装置の他の構成は第1実施例と同様である。洗浄ノズル71は、胴部71bは内部に気体吐出口101を有する気体吐出ノズル100が挿通される。そして、洗浄ノズル7の傘部71cの上面部71dには、気体吐出口101が配置される。傘部71cの下端に液体吐出ノズル300が配置される。
図5は、この発明の第3実施例にかかる洗浄ノズルの構成を簡略的に示す装置側方から見た断面図である。なお、第1実施例と同様の構成に関しては、同符号を付与し説明を省略する。この第3実施例の洗浄ノズルを使用する洗浄装置の他の構成は第1実施例と同様である。
7、71、81 洗浄ノズル
15a〜15d 配管
17a、17b 電空レギュレータ
18a、18b 圧力センサ
19a、19b 流量センサ
20 コントローラ
21 圧縮空気供給部
25 純水供給部
G、G1 衝突部位
W 基板
100、500 気体吐出ノズル
101、501 気体吐出口
200、300、400 液体吐出ノズル
201、301、401 液体吐出口
Claims (5)
- 基板洗浄装置であって、
液体を吐出し、
液体供給手段と、
前記液体供給手段より供給された液体を吐出する液体吐出口と、
を有する液体吐出手段と、
前記液体吐手段に近接して気体を吐出し、
気体供給手段と、
その気体供給手段により供給された気体を吐出する気体吐出口と、
を有する気体吐出手段と、
前記液体供給手段と前記気体供給手段との動作を制御する制御手段と、
を備え、
前記液体吐出手段と前記気体吐出手段とによる洗浄は、前記液体吐出手段から吐出される液体を、空中にて前記気体吐出手段より吐出された気体と混合し、生成した液滴の洗浄液を基板面に衝突させることにより行われ、
前記制御手段は、前記気体供給手段を作動させ気体の吐出を開始させるとともに、所定時間の後に前記液体供給手段を作動させ液体の吐出を開始させる制御を実行可能とされていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板洗浄装置であって、
液体供給手段より供給された液体を吐出する液体吐出口と、
気体供給手段より供給された気体を吐出する気体吐出口と、
を有するノズルと、
前記液体供給手段と前記気体供給手段との動作を制御する制御手段と、
を備え、
前記ノズルによる洗浄は、前記液体吐出口から吐出された液体に、液体吐出口の直後において、気体を混入すべく前記気体吐出口より吐出し、前記液体と気体の混合により生成した液滴の洗浄液を基板面に衝突させることにより行われ、
前記制御手段は、前記気体供給手段を作動させ気体の吐出を開始させるとともに、所定時間の後に前記液体供給手段を作動させ液体の吐出を開始させる制御を実行可能とされていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項2に記載の基板洗浄装置において、
前記ノズルが昇降・移動機構によって洗浄開始位置に移動させられた後に、前記気体供給手段は、気体を供給することを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項2または請求項3に記載の基板洗浄装置において、
前記ノズルが昇降・移動機構によって供給終了位置に移動させられた後に、前記気体供給手段は、気体を供給することを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
前記制御手段は、前記液体供給手段の作動を停止させるとともに、所定時間の後に前記気体供給手段の作動を停止させる制御を実行可能とされていることを特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006311375A JP4484861B2 (ja) | 2000-11-20 | 2006-11-17 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000352076 | 2000-11-20 | ||
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007105727A true JP2007105727A (ja) | 2007-04-26 |
JP4484861B2 JP4484861B2 (ja) | 2010-06-16 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006311375A Expired - Lifetime JP4484861B2 (ja) | 2000-11-20 | 2006-11-17 | 基板洗浄装置 |
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101810748B1 (ko) | 2014-12-26 | 2017-12-19 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03186369A (ja) * | 1989-12-14 | 1991-08-14 | Nec Corp | 薬液噴霧ノズル |
JPH10335298A (ja) * | 1997-05-27 | 1998-12-18 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
-
2006
- 2006-11-17 JP JP2006311375A patent/JP4484861B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPH03186369A (ja) * | 1989-12-14 | 1991-08-14 | Nec Corp | 薬液噴霧ノズル |
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KR101810748B1 (ko) | 2014-12-26 | 2017-12-19 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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